【技术实现步骤摘要】
保持装置以及光学装置
本专利技术涉及保持物体的保持装置以及光学装置。
技术介绍
在半导体曝光装置、液晶曝光装置等精密设备中，关于构成要素彼此的相对位置要求高精度。其中，对于光学元件也要求相当高的位置精度。进而，近年来，对于半导体曝光装置、液晶曝光装置等，装置的大型化愈发显著，伴随于这样的大型化的位置精度维持的要求变得严格。半导体曝光装置、液晶曝光装置等一般在无尘室内在例如23℃附近被使用。但是，在曝光装置之中，在照明光学系统、投影光学系统等的光所通过的光路附近，温度变高。照明光学系统的光源部由于使用水银灯等，所以温度特别高。例如，水银灯中的聚光用的椭圆反射镜在运转期间，温度上升至100℃左右。也就是，水银灯的椭圆反射镜每当进行运转和运转停止时就在大约23℃～100℃的范围内反复进行温度变化。这样的温度变化的反复会导致构成要素的与线膨胀系数相应的热膨胀，在光学元件的位置关系上产生偏移。有时为了减小位置关系偏移而使用低热膨胀材料即因瓦合金、陶瓷等，但在由低热膨胀材料制作大型化部件时在成本方面不利。多数构成要素大多都会考虑成本、重量来选择铝材、钢材等材质，因而需要在减小...
【技术保护点】
1.一种保持装置，该保持装置保持物体，其特征在于，上述保持装置具有：结构体，该结构体包围上述物体；保持部件，该保持部件保持上述物体；基座部件，该基座部件设置在上述结构体的内壁；以及支承部件，该支承部件搭载在上述基座部件上并支承上述保持部件，在上述基座部件的支承上述支承部件的面形成有第1斜面，该第1斜面相对于上述物体朝水平方向的外侧高度变高，在上述支承部件的支承上述保持部件的面形成有第2斜面，该第2斜面在上述支承部件搭载于上述第1斜面的状态下相对于上述物体朝水平方向的外侧高度变高，上述支承部件能够沿着上述第1斜面滑动，上述保持部件能够沿着上述第2斜面滑动，通过上述支承部件以及...
【技术特征摘要】
2018.04.26 JP 2018-0857261.一种保持装置，该保持装置保持物体，其特征在于，上述保持装置具有：结构体，该结构体包围上述物体；保持部件，该保持部件保持上述物体；基座部件，该基座部件设置在上述结构体的内壁；以及支承部件，该支承部件搭载在上述基座部件上并支承上述保持部件，在上述基座部件的支承上述支承部件的面形成有第1斜面，该第1斜面相对于上述物体朝水平方向的外侧高度变高，在上述支承部件的支承上述保持部件的面形成有第2斜面，该第2斜面在上述支承部件搭载于上述第1斜面的状态下相对于上述物体朝水平方向的外侧高度变高，上述支承部件能够沿着上述第1斜面滑动，上述保持部件能够沿着上述第2斜面滑动，通过上述支承部件以及上述保持部件的滑动将上述物体的位置偏移维持在容许范围内。2.如权利要求1所述的保持装置，其特征在于，随着上述支承部件沿上述第1斜面滑动，上述保持部件因该保持部件和上述物体的自重而沿上述第2斜面滑动，从而将上述物体的高度维持成恒定。3.如权利要求2所述的保持装置，其特征在于，上述支承部件通过因热膨胀产生的变形而沿上述第1斜面滑动。4.如权利要求1所述的保持装置，其特征在于，上述保持部件包括在多个部位保持上述物体的多个保持部件，上述基座部件包括经由上述支承部件支承上述多个保持部件的多个...
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