【技术实现步骤摘要】
一种通用掩模夹具
本技术涉及一种夹具，具体为一种通用掩模夹具，属于掩模夹具
技术介绍
MASK(掩模):是半导体行业、IC(集成电路)制作时所需的一种模具，其是利用Mask上的图形，经曝光制成将图形复制于晶圆(Wafer)，Mask厂依据客户设计的图形，将图形数据转换后，利用Mask曝光机曝光在一种感光的石英基板上，经过显影制程使其表面产生透光与不透光的极细微的逻辑图形，掩模夹具的出现大大方便了掩模版的拿放，避免手动拿放掩模版后遗留手指印以及颗粒等污染物质。但是目前阶段的掩模夹具，存在诸多的不足之处，例如，对于不同的掩模需要不同类型的夹具，无法实现一种夹具掩模通用，需在Fab厂配备不同尺寸掩模的夹具，操作台夹具繁多，代价高。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种通用掩模夹具。为了解决上述技术问题，本技术提供了如下的技术方案：本技术一种通用掩模夹具，包括握把，所述握把内固定插接有收纳套筒，且所述收纳套筒端部处位于所述握把外部，所述收纳套筒设有两个，且每个所述收纳套筒内活动嵌设有伸缩杆，所述伸缩杆末端处固定安装有固定夹持接头，所述伸缩杆上活动嵌套有横移滑套，且所述横移滑套上固定安装有活动夹持接头，所述活动夹持接头与所述固定夹持接头内侧面均开设有夹持槽，且所述活动夹持接头的所述夹持槽与所述固定夹持接头夹持槽之间对应设置。作为本技术的一种优选技术方案，所述横移滑套设有两个，且所述横移滑套上嵌设有限位件，所述限位件穿过所述横移滑套与所述伸缩杆端面紧密压合。作为本技术的一种优选技术方案，所述伸缩杆上均匀分布有若干刻度线。作为本技术的一种...
【技术保护点】
1.一种通用掩模夹具，包括握把(1)，其特征在于，所述握把(1)内固定插接有收纳套筒(2)，且所述收纳套筒(2)端口处位于所述握把(1)外部，所述收纳套筒(2)设有两个，且每个所述收纳套筒(2)内活动嵌设有伸缩杆(3)，所述伸缩杆(3)末端处固定安装有固定夹持接头(8)，所述伸缩杆(3)上活动嵌套有横移滑套(5)，且所述横移滑套(5)上固定安装有活动夹持接头(6)，所述活动夹持接头(6)与所述固定夹持接头(8)内侧面均开设有夹持槽(9)，且所述活动夹持接头(6)上的所述夹持槽(9)与所述固定夹持接头(8)上的所述夹持槽(9)之间对应设置。
【技术特征摘要】
1.一种通用掩模夹具，包括握把(1)，其特征在于，所述握把(1)内固定插接有收纳套筒(2)，且所述收纳套筒(2)端口处位于所述握把(1)外部，所述收纳套筒(2)设有两个，且每个所述收纳套筒(2)内活动嵌设有伸缩杆(3)，所述伸缩杆(3)末端处固定安装有固定夹持接头(8)，所述伸缩杆(3)上活动嵌套有横移滑套(5)，且所述横移滑套(5)上固定安装有活动夹持接头(6)，所述活动夹持接头(6)与所述固定夹持接头(8)内侧面均开设有夹持槽(9)，且所述活动夹持接头(6)上的所述夹持槽(9)与所述固定夹持接头(8)上的所述夹持...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱希进，刘维维，杨长华，
申请(专利权)人：无锡中微掩模电子有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
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