一种掩模版居中性检测方法及检测装置制造方法及图纸

技术编号:36944452 阅读:45 留言:0更新日期:2023-03-22 19:06
本发明专利技术涉及一种掩模版居中性检测方法及检测装置,在检测方法中,将掩膜版放在载物台上,由图像采集单元获取掩膜版图像,掩膜版图像上包括有设置于掩膜版上的特定标记图形;根据所述特定标记图形分别在X向和Y向上相对于掩膜版与载物台交界处的距离,确定掩膜版图像的距离偏移量和角偏移量,再根据距离偏移量和角偏移量来确定掩膜版图像的居中性。所述检测装置包括载物台、图像采集单元和控制单元,载物台用于承载掩膜版,图像采集单元用于获取掩膜版图像,控制单元包括处理器、网络接口、用户接口、存储器和通信总线。本发明专利技术可以解决人为操作显微镜观察特定标记与基板边缘位置距离以检测掩模版曝光图像居中性检测精度不高问题。题。题。

【技术实现步骤摘要】
一种掩模版居中性检测方法及检测装置


[0001]本专利技术属于掩模制版
,尤其涉及一种掩模版居中性检测方法及检测装置。

技术介绍

[0002]现有半导体芯片用掩模版居中性检测方法为在掩模版图形上添加专用的标记图形,通过人员用显微镜量测标记图形与基板边缘位置距离来判断掩模版所曝光图形居中性情况。人工操作易出现错误及误差。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是提供一种掩模版居中性检测方法及检测装置,旨在解决人为操作显微镜观察特定标记与基板边缘位置距离以检测掩模版曝光图像居中性检测精度不高问题。
[0004]为了实现上述目的,本专利技术所采用的技术方案是:一种掩模版居中性检测方法,将掩膜版放在载物台上,由图像采集单元获取掩膜版图像,掩膜版图像上包括有设置于掩膜版上的特定标记图形;根据所述特定标记图形分别在X向和Y向上相对于掩膜版与载物台交界处的距离,确定掩膜版图像的距离偏移量和角偏移量,再根据距离偏移量和角偏移量来确定掩膜版图像的居中性。
[0005]所述掩膜版图像获取方法为:在掩膜版边界处确定多个拍摄点本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模版居中性检测方法,其特征在于,将掩膜版放在载物台上,由图像采集单元获取掩膜版图像,掩膜版图像上包括有设置于掩膜版上的特定标记图形;根据所述特定标记图形分别在X向和Y向上相对于掩膜版与载物台交界处的距离,确定掩膜版图像的距离偏移量和角偏移量,再根据距离偏移量和角偏移量来确定掩膜版图像的居中性。2.根据权利要求1所述的一种掩模版居中性检测方法,其特征在于,所述掩膜版图像获取方法为:在掩膜版边界处确定多个拍摄点,并根据各个拍摄点的位置,控制载物台沿X轴及Y轴方向移动;控制所述图像采集单元中的扫描镜头沿预设方向依次对各个拍摄点进行拍摄,以获取拍摄图像,然后按照各个拍摄点的位置对拍摄图像进行拼接,得到掩膜版图像。3.根据权利要求1所述的一种掩模版居中性检测方法,其特征在于,在获取掩膜版图像后,将掩膜版图像分割成多个目标区域,每个目标区域包括有特定标记图形,根据目标区域确定特定标记图形在X方向上相对于掩膜版和载物台交界处的距离,并以此距离为第一距离,根据目标区域确定特定标记图形在Y方向上相对于掩膜版和载物台交界处的距离,并以此距离为第二距离;再根据第一距离和第二距离确定掩膜版图像的距离偏移量和角偏移量。4.根据权利要求1

3任一项所述的一种掩模版居中性检测方法,其特征在于,所述特定标记图形设置在掩膜版的左上、左下、右上、右下位置,且各个特定标记图形的大小相等。5.根据权利要求3所述的一种掩模版居中性检测方法,其特征在于,所述目标区域的划分方法为:根据所述掩膜版图像中各像素点亮度将掩膜版图像转换成预设等级灰度图,再根据预设等级灰度图中的灰度值将预设等级灰度图分割成多个目标区域。6.根据权利要求3所述的一种掩模版居中性检测方法,其特征在于,在各个目标区域的边界获取对应的边界点,根据边界点确定各个目标区域对应的边界值;各个目标区域的边界点包括X方向边界...

【专利技术属性】
技术研发人员:尤春汪志得刘维维
申请(专利权)人:无锡中微掩模电子有限公司
类型:发明
国别省市:

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