【技术实现步骤摘要】
一种多尺寸一体化通用掩模夹
[0001]本技术涉及掩模夹具
,具体为一种多尺寸一体化通用掩模夹。
技术介绍
[0002]MASK(掩模):是半导体行业、I C(集成电路)制作时所需的一种模具,其是利用Mask上的图形,经曝光制成将图形复制于晶圆(Wafer)。
[0003]Mask厂依据客户设计的图形,将图形数据转换后,利用Mask曝光机曝光在一种感光的石英基板上,经过显影制程使其表面产生透光与不透光的极细微的逻辑图形。
[0004]掩模的制作必须经过清洗、检测、贴膜等工艺,这些工艺操作过程中都会用到掩模夹,当有的机台需要使用5寸掩模夹的时候,5寸掩模夹刚好其它设备在用,从而导致需要耗时等待延误生产影响出货,同时造成掩模夹采购成本增高。
技术实现思路
[0005]针对现有技术的不足,本技术提供了一种多尺寸一体化通用掩模夹,具备可以夹取多种不同尺寸的掩模版,且切换方便等优点,解决了现有掩模夹只能适用单一尺寸,导致其余设备使用时需要耗时等待延误生产影响出货,同时不同型号的采购需求造成掩模夹采购成
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种多尺寸一体化通用掩模夹,包括手柄(1)、开合柄(2)和固定头(3),其特征在于:所述手柄(1)与固定头(3)之间设有尺寸调节组件;所述尺寸调节组件包括与手柄(1)固定连接的第一主干(4)和与固定头(3)固定连接的第二主干(5),所述第一主干(4)和第二主干(5)内均开设有调节孔(6),所述调节孔(6)内插接有调节螺栓(7),所述调节螺栓(7)外螺纹连接有定位螺母(8),所述第一主干(4)靠近第二主干(5)的一侧固定连接有数量为两个的挡条(9),所述第二主干(5)位于两个挡条(9)之间。2.根据权利要求1所述的一种多尺寸一体化通用掩模夹,其特征在于:所述手柄(1)内开设有与开合柄(2)大小相适配的转动槽,所述手柄(1)内固定安装有位于转动槽内的转动轴,所述开合柄(2)通过转动轴与手柄(1)转动连接...
【专利技术属性】
技术研发人员:华卫群,尤春,刘维维,朱静荣,
申请(专利权)人:无锡中微掩模电子有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。