一种光刻设备制造技术

本实用新型专利技术实施例提供了一种光刻设备，该光刻设备包括主基板、气浴装置、阻尼装置和调焦调平装置，通过将调焦调平装置固定于主基板上，以及将气浴装置通过阻尼装置与主基板连接；其中，气浴装置提供的压缩气流至少覆盖调焦调平装置的辐射束的路径，并采用阻尼装置阻止气浴装置带动主基板振动，以防止气浴装置的压缩气流产生的反冲作用力带动主基板振动，从而使得主基板具有较高的稳定性，进而提高光刻设备的光刻精度。同时，阻尼装置例如可以为导热性较差的阻尼器，能够防止大量的热传导至主基板，从而保证主基板上对温度敏感的精密仪器能够稳定工作，进一步提高光刻设备的精度。

A Lithography Equipment

【技术实现步骤摘要】
一种光刻设备
本技术涉及光刻
，尤其涉及一种光刻设备。
技术介绍
光刻工艺是半导体器件制备工艺的关键，能够根据电路设计的要求，生成尺寸精确的特征图形。在光刻过程中图形结构和图形位置，以及制成中的污染物均会影响器件的电特性，这就要求执行光刻工艺的光刻设备具有高的精度和良好的防污染性。目前，光刻设备中具有主基板、基础框架、调焦调平装置、光栅尺、以及对准装置等。其中，光刻设备的精密器件通常设置于主基板，且该主基板和基础框架是光刻设备框架系统的重要组成部分，该框架系统能够对其它部件的安装位置进行定位；光栅尺和调焦调平装置作为测量装置，用于测量光刻设备的其它部件或待光刻样品相对于参考零点的位置；而对准装置则可根据待光刻样品相对于参考零点的位置，对待光刻样品进行准确对位。光刻设备的温度和测量装置的测试精度对光刻设备的光刻精确度有较大的影响，由于测量装置以及光刻设备的其它精密器件均设置于主基板上，因此主基板的温度及振动稳定性是影响光刻精确度的重要因素。
技术实现思路
本技术实施例提供一种光刻设备，能够解决现有技术中光刻设备的光刻精度低的技术问题。本技术实施例提供了一种光刻设备，包括：主基板、气浴装置、阻尼装置、以及调焦调平装置；所述调焦调平装置固定于所述主基板上；所述气浴装置通过所述阻尼装置与所述主基板连接；所述气浴装置用于提供压缩气流，所述压缩气流至少覆盖所述调焦调平装置的辐射束的路径；所述阻尼装置用于阻止所述气浴装置带动所述主基板振动。本技术实施例提供了一种光刻设备，该光刻设备包括主基板、气浴装置、阻尼装置和调焦调平装置，通过将调焦调平装置固定于主基板上，以及将气浴装置通过阻尼装置与主基板连接；其中，气浴装置提供的压缩气流至少覆盖调焦调平装置的辐射束的路径，并采用阻尼装置阻止气浴装置带动主基板振动，以防止气浴装置的压缩气流产生的反冲作用力带动主基板振动，从而使得主基板具有较高的稳定性，进而提高光刻设备的光刻精度。同时，阻尼装置例如可以为导热性较差的阻尼器，能够防止大量的热传导至主基板，从而保证主基板上对温度敏感的精密仪器能够稳定工作，进一步提高光刻设备的精度。附图说明图1是本技术实施例提供的一种光刻设备的截面结构示意图；图2是本技术实施例提供的一种光刻设备的仰视结构示意图；图3是本技术实施例提供的另一种光刻设备的截面结构示意图；图4是本技术实施例提供的另一种光刻设备的仰视结构示意图；图5是本技术实施例提供的又一种光刻设备的仰视结构示意图；图6是本技术实施例提供的一种光刻设备的结构框图；图7是本技术实施例提供的另一种光刻设备的结构框图；图8是本技术实施例提供的再一种光刻设备的截面结构示意图；图9是本技术实施例提供的再一种光刻设备的仰视结构示意图；图10是本技术实施例提供的还一种光刻设备的截面结构示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术，而非对本技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部结构。本技术实施例提供了一种光刻设备，该光刻设备能够在半导体器件的制程中执行光刻工艺步骤。本实施例的光刻设备包括主基板、气浴装置、阻尼装置、以及调焦调平装置；调焦调平装置固定于主基板上；气浴装置通过阻尼装置与主基板连接；气浴装置用于提供压缩气流，该压缩气流至少覆盖调焦调平装置的辐射束的路径；阻尼装置用于阻止气浴装置带动主基板振动。光刻设备是半导体器件制程中的关键设备，光刻设备对半导体器件的光刻精度，会影响半导体器件的性能。而光刻设备的精度取决于光刻的环境参数和光刻位置的定位准确度。其中，光刻的环境参数包括压力、洁净度、温度、湿度等，而光刻设备中测量装置的测量准确度对光刻位置的定位准确度具有较大影响。由于主基板是光刻设备中测量装置和其它精密器件的承载和支撑部件，同时主基板也是光刻设备框架系统的重要组成部分，因此主基板的工作环境和稳定性是影响光刻设备光刻精度的关键。本实施例中，调焦调平装置固定于主基板上，该调焦调平装置是光刻设备的测量装置，其提供的辐射束能够实现其测量功能。气浴装置提供的压缩气流至少覆盖调焦调平装置的辐射束路径，以防止辐射束传播过程中所通过气体的温度、压力、组份等的变化，对调焦调平装置的测量精度造成影响。气浴装置提供的压缩气流具有一定的压力，示例性的该压缩气流的压力大于标准大气压的压力，如此将使得气浴装置将受到一反冲作用力，该反冲作用力将会推动气浴装置产生位移。由于气浴装置受到的反冲作用力随着气浴装置提供的压缩气流的压力的变化而变化，当气浴装置提供的压缩气流的压力发生变化时，气浴装置所受到的反冲作用力随之变化，进而引起气浴装置产生振动。通过在气浴装置与主基板之间设置阻尼装置，用于在气浴装置的反冲作用力变化带动气浴装置振动时，该阻尼装置能够阻止气浴装置带动主基板振动，以使得主基板具有较高的稳定性，进而提高光刻设备的光刻精度。其中，阻尼装置例如可以为阻尼器，该阻尼器具有较差的热传导性，从而能够防止气浴装置工作时产生的大量热能传导至主基板，保证主基板上对温度敏感的精密仪器能够稳定工作，进一步提高光刻设备的精度。图1是本技术实施例提供的一种光刻设备的截面结构示意图；图2是本技术实施例提供的一种光刻设备的仰视结构示意图。结合图1和图2，本实施例的光刻设备100包括主基板10、气浴装置20、阻尼装置30、以及调焦调平装置40。其中，调焦调平装置40固定于主基板10上，阻尼装置30连接主基板10和气浴装置20；气浴装置20用于提供压缩气流，该压缩气流至少覆盖调焦调平装置40的辐射束的路径；阻尼装置30用于阻止气浴装置20带动主基板10振动。具体的，固定于主基板10的调焦调平装置40能够提供辐射束41，可用于测量待光刻样品相对于水平面是否具有倾斜角，并在待光刻样品具有倾斜角时，通过相应的调整装置将该倾斜角调为0°，以使待光刻样品保持水平。调焦调平装置40的辐射束41例如可以为光束、电磁波束等，由于调焦调平装置40的辐射束41传播过程中受温度、压力、组份等的影响，会出现较大的测量误差。通过在光刻设备100中设置气浴装置20提供至少覆盖辐射束41传播路径的压缩气流，以使辐射束41具有稳定的温度、压力、以及组份等传播环境。但是，气浴装置20提供的压缩气流具有一定的压力P，该压力P会产生一反冲作用力F，并且由于反冲作用力F的大小和方向随着压力P的变化而变化，使得气浴装置20发生振动。当气浴装置20的压缩气流的压力P发生波动时，气浴装置20会随之产生振动。为在气浴装置20发生振动时，防止主基板10随之振动，本实施例中通过在气浴装置20与主基板10之间设置阻尼装置30，一方面，可将气浴装置20通过阻尼装置30直接安装于主基板10上，以使光刻设备100的各部件聚集在一起，保证气浴装置20提供的压缩气流至少覆盖调焦调平装置40的辐射束41的路径；另一方面，阻尼装置30能够阻止气浴装置20带动主基板10振动，使得主基板10保持静止或较小的稳定振动，以使主基板10上的部件稳定工作，例如保证调焦调平装置40的辐射束41的具有稳定传播本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻设备，其特征在于，包括：主基板、气浴装置、阻尼装置、以及调焦调平装置；所述调焦调平装置固定于所述主基板上；所述气浴装置通过所述阻尼装置与所述主基板连接；所述气浴装置用于提供压缩气流，所述压缩气流至少覆盖所述调焦调平装置的辐射束的路径；所述阻尼装置用于阻止所述气浴装置带动所述主基板振动。

【技术特征摘要】
1.一种光刻设备，其特征在于，包括：主基板、气浴装置、阻尼装置、以及调焦调平装置；所述调焦调平装置固定于所述主基板上；所述气浴装置通过所述阻尼装置与所述主基板连接；所述气浴装置用于提供压缩气流，所述压缩气流至少覆盖所述调焦调平装置的辐射束的路径；所述阻尼装置用于阻止所述气浴装置带动所述主基板振动。2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述阻尼装置包括弹簧阻尼器。3.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述气浴装置包括两个吹风口；所述吹风口吹出的压缩气流的吹风方向垂直于所述辐射束的传播方向。4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述气浴装置包括：吹风口和吸风口；所述吹风口包括第一吹风口和第二吹风口，所述第一吹风口与所述第二吹风口位于所述调焦调平装置的两侧，且所述第一吹风口与所述第二吹风口相对设置；所述吸风口包括第一吸风口和第二吸风口，所述第一吸风口与所述第二吸风口位于所述调焦调平装置的两侧，且所述第一吸风口与所述第二吸风口相对设置。5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，所述第一吹风口至所述第一吸风口的连线与所述辐射束的传播方向具有第一夹角α；所述第二吹风口至所述第二吸风口的连线与所述辐射束的传播方向具有第二夹角β；所述第一夹角α的取值范围为：0°＜α≤90°；所述第二夹角β的取值范围为：0°＜β≤90°。6.根据权利要求3或4所述的设备，其特征在于，还包括：传感器和控制器；所述传感器用于检测所述气浴装置的压缩气流的压力；所述传感器与所述控制器连接；所述控制器与所述阻尼装置连接；所述控制器用于接收所述传感器检测的压缩气流的压力，并根据所述压缩气流的压力在预设时间内的变化量，计算所述阻尼装置的阻力补偿量，发送至所述阻尼装置；所述阻尼装置用于根据所述阻力补偿量，阻止所述气浴装置带动所述主基板振动。7.根据权利要求6所述的设备，其特征在于，所述传感器设置于所述气浴装置的吹风口。8.根据权利要求6所述的设备，其特征在于，还包括：风机和气流导管；所述风机的吹风口通过所述气流导管与所述气浴装置的接口连接；所述风机用于产生压缩气流，并通过所述气流导管传输至所述气浴装置中；所述传感器设置于所述气流导管中、所述风机的吹风口处、以及所述气浴装置的接口处的至少一...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑文宇，刘剑，郭孔斌，赵丹平，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31