【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻，特别涉及一种吸盘颗粒污染的检测方法及系统、光刻。
技术介绍
1、使用光刻机测试分系统检测吸盘(chuck)时，在检测之前会输入面型测试的扫描图形，也即扫描测试点，上载超平片后使用探测器逐点测试硅片面型，可计算得到硅片上各点的起伏，进而判断吸盘上是否存在颗粒污染。但是，若扫描图形大于颗粒污染的影响范围，则有可能在校准时漏掉一些颗粒污染，如图1所示，图1中横坐标为测试点横坐标，纵坐标为测试点的纵坐标，正方形为吸盘的颗粒污染，菱形为面型测试的点。当面型测试的点恰巧没有覆盖到颗粒污染区域，那么颗粒污染区域会检测不到。
2、在曝光测试工艺中，可使用密集图形的成像效果来检测吸盘颗粒污染的分布。吸盘上不存在颗粒污染时，硅片的实际焦面等于光刻机拟合后的调焦焦面，如图2所示，无颗粒污染的成像图像10a成像效果清晰。在吸盘存在颗粒污染时，硅片的实际焦面高于光刻机拟合后的调焦焦面，如图3所示，存在颗粒污染的成像图像10b出现离焦的成像效果。结合图2和图3所示，该方案主要是利用特征标记在不同离焦条件下的尺寸变化或者直接利用严重离...
【技术保护点】
1.一种吸盘颗粒污染的检测方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的吸盘颗粒污染的检测方法，其特征在于，根据所述子区域测量的宽度与标定宽度的比较结果得到所述子区域的高度，将所有子区域的高度叠加得到所述吸盘颗粒污染区域的高度。
3.根据权利要求2所述的吸盘颗粒污染的检测方法，其特征在于，利用所述曝光工艺将掩模板上的测试标记转移到所述光刻胶上，所述测试标记包括第一测试标记，所述第一测试标记为栅格图形。
4.根据权利要求3所述的吸盘颗粒污染的检测方法，其特征在于，利用所述曝光工艺将掩模板上的测试标记转移到所述光刻胶上，所述测试标记...
【技术特征摘要】
1.一种吸盘颗粒污染的检测方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的吸盘颗粒污染的检测方法，其特征在于，根据所述子区域测量的宽度与标定宽度的比较结果得到所述子区域的高度，将所有子区域的高度叠加得到所述吸盘颗粒污染区域的高度。
3.根据权利要求2所述的吸盘颗粒污染的检测方法，其特征在于，利用所述曝光工艺将掩模板上的测试标记转移到所述光刻胶上，所述测试标记包括第一测试标记，所述第一测试标记为栅格图形。
4.根据权利要求3所述的吸盘颗粒污染的检测方法，其特征在于，利用所述曝光工艺将掩模板上的测试标记转移到所述光刻胶上，所述测试标记包括第一测试标记拆分标记，所述第一测试标记拆分标记为周期分布的单方向线条。
5.根据权利要求4所述的吸盘颗粒污染的检测方法，其特征在于，所述吸盘颗粒污染区域的高度h的计算公式为：
6.根据权利要求1所述的吸盘颗粒污染的检测方法，其特征在于，利用所述曝光工艺将掩模板上的测试标记转移到所述光刻胶上，所述测试标记包括第二测试标记，所述第二测试标记为栅格图形。
7.根据权利要求6...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱晓亮，张家锦，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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