具有经调节的调节装置的掩膜保持件制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于掩膜(1)的保持件，掩膜在涂层方法中平放在基底(2)的待涂层的表面上，以便将层的沉积局限于所述表面的通过掩膜(1)的形状和位置预先确定的面区段，其中，保持件的框架(3)的区段(4、4’、4”、4”’、16)利用使掩膜(1)变形的可变的拉力作用在掩膜(1)的边缘(1’)上。规定下列创新：用于确定掩膜(1)相对于基底(2)的实际位置的传感器(5)、用于改变框架(3)的至少一个第一区段(4)相对于框架(3)的至少一个第二区段(4’)的位置的调节元件(6、7、8)和带有控制装置(9)的调节电路，以便通过改变拉力(Z、Z’、Z”、Z”’)使掩膜(1)的实际位置朝掩膜(1)的额定位置的方向改变。本发明专利技术此外还涉及一种用于调节掩膜的位置的方法，在该方法中使用调节电路。

Mask holder with adjustable adjusting device

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有经调节的调节装置的掩膜保持件
本专利技术涉及一种用于掩膜的保持件，掩膜在涂层方法中平放在基底的待涂层的表面上，以便将层的沉积局限于表面的通过掩膜的形状和位置预先确定的面区段，其中，保持件的框架的区段利用使掩膜变形的可变的拉力作用在掩膜的边缘上。此外，本专利技术还涉及用于调节掩膜的位置的方法，掩膜在涂层方法中平放在基底的待涂层的表面上，以便将层的沉积局限于表面的通过掩膜的形状和位置预先确定的面区段，其中，利用保持件的框架的区段，在掩膜的边缘上施加使掩膜变形的拉力。
技术介绍
根据本专利技术的设备和根据本专利技术的方法用于将侧面结构化的层沉积在基底上，其中，形成层的材料作为气体、尤其是作为蒸汽形的有机分子导入反应器、例如CVD或PVD反应器的过程腔中。气态的原材料冷凝，或者在基底的表面上反应，并且在此形成层。本专利技术尤其是涉及一种设备，其可以用在制造LCD显示器或OLED显示器时。在此使用的掩膜具有与接片分离的窗口，窗口自由保留基底的表面的彼此分离的面区段。彼此不同的原材料沉积在该表面区段上，原材料在电激励中以不同的颜色发光。掩膜由薄壁的、侧面结构化的金属板材构成，并且通过沿掩膜延伸方向将对准的拉力施加至掩膜的边缘上被张紧，使得窗口位于指定的部位处。US2014/0158044A1描述了一种掩膜框架，在掩膜框架上固定了矩形的掩膜的边缘，并且掩膜框架具有牵引元件，以便在彼此不同的部位上将对准的拉力分别施加到掩膜上。由WO2007/133252A1已知的是，在与掩膜框架连接时对掩膜进行调温。在此，利用另一温度对框架进行调温，从而在温度改变时，基于不同的温度膨胀系数，在掩膜面中构建侧面的应力。用于制造掩膜的方法在US7,765,669B2中公开，其中，掩膜在制造时被张紧。US2016/0376703A1描述了一种用于相对于基底的表面调节掩膜的方法和设备，其中，借助CCD传感器检测掩膜或基底的调节标记，并且借助形式为螺纹丝杆的调节元件改变保持件的对置的区段的位置。由US2015/0068456A1公开了一种用于掩膜的保持件。保持件具有四个框架侧边，可以借助螺纹丝杆或压电元件改变框架侧边相对于基板的位置。
技术实现思路
为了通过调节在掩膜的边缘上承载掩膜的框架的温度来张紧掩膜，掩膜的材料和框架的材料可以具有不同的温度膨胀系数，从而温度改变导致掩膜的变形。通过有目的的变形，可以将掩膜从实际位置带到额定位置，因为通过施加拉力，掩膜的对置的边缘区段彼此间隔开。也可以设置其他的调节元件，以便将对准的拉力施加到掩膜的边缘上。基于对框架和基底的不同的和尤其是个体化的影响，框架或掩膜的机械变形可以尤其是基于或由于基底或掩膜的调温不能通过计算确定。本专利技术的技术问题是有利于使用地改进用于掩膜的由现有技术已知的保持件，并且提供一种方法，利用该方法相对于现有技术改进掩膜的位置的调节。该技术问题通过在权利要求书中说明的专利技术解决。从属权利要求不仅是在并排的权利要求中说明的专利技术的有利的改进方案，而且也是一个技术问题的独立的解决方案，该解决方案尤其在于有利于需要地改进按本专利技术的保持件。首先和主要建议的是，为了调节掩膜的位置使用调节电路。根据本专利技术的调节电路具有用于确定掩膜相对于基底的实际位置的传感器。调节电路此外具有用于改变框架的至少一个第一区段相对于框架的至少一个第二区段的位置的调节元件。调节电路此外具有控制装置，利用控制装置产生调节参量，利用调节参量控制调节元件，从而通过改变掩膜的边缘上的拉力，将掩膜的实际位置朝额定位置的方向改变。调节电路可以是PID调节电路。调节元件优选通过框架的一个或多个区段的温度改变来改变两个对置的区段的间距。框架可以是矩形框架，其承载矩形的掩膜。框架构造出对置的框架侧边。通过其中一个框架侧边的温度改变，框架侧边的长度和因此框架的两个对置的区段的间距发生改变。传感器优选是光学传感器。传感器可以是具有成像光学器件的成像传感器，利用成像传感器，框架的表面的图像产生到传感器、例如CCD传感器上。借助图像评估可以确定掩膜的实际位置和尤其是掩膜的边缘区域的实际位置。调节元件优选是加热和/或冷却元件。每个框架侧边可以具有冷却通道和/或加热通道。仅可以设置冷却通道或仅可以设置加热通道。但也设置的是，冷却通道和加热通道沿框架侧边的延伸方向并排布置。每个框架侧边可以与每个另一框架侧边分离地调温。但替代加热和/或冷却元件地，也可以设置机械器件，以便改变两个框架区段的间距。借助调节元件彼此间隔开的区段是框架或掩膜的边缘区，在边缘区中，掩膜和框架借助拉力传输元件相互连接。拉力传输元件可以是形状配合器件，如销、螺钉等。但也可能的是，掩膜的边缘摩擦配合地或材料接合地与框架的区段连接。在本专利技术的扩展方案中设置的是，传感器与调节标记共同作用。可以设置尤其是配属于掩膜的角区域的第一调节标记。该第一调节标记在此可以是掩膜中的窗口形的开口。可以设置配属于基底的第二调节标记。该第二调节标记可以直接配属于基底，或者间接配属于基底。直接配属于基底的调节标记例如可以是在基底的待涂层的表面上的颜色区。但间接配属于基底的调节标记也可以由承载基底的基底支架构造。调节标记也可以是视觉可分辨的标记。该视觉可分辨的标记可以通过透明的基底由光学传感器识别。借助调节元件，通过改变施加到掩膜的边缘上的拉力的方向和大小，使调节标记重合。拉力通过调节电路的控制装置实现，得到关于优选布置在角区域中的调节标记的位置的实际值，并且将调节指令输出至调节元件。掩膜可以由镍钢构成，框架可以由不锈钢构成。当基底由玻璃构成时，不锈钢的膨胀系数大于基底的膨胀系数。通过在20℃至60℃之间的范围内调节掩膜框架的温度，由镍钢制成的掩膜可以机械地伸展，使得调节标记重合。由于经由闭合的调节线路进行调节，所以不需要以计算方式确定影响因素。由传感器形成的测量装置可以由最多四个布置在基底或框架的角中的CCD照相机构成。在角上，尤其是借助提到的调节标记确定基底和掩膜的准确的位置。在这些部位上，可以利用传感器、尤其是照相机确定不同的热或机械的长度膨胀。控制装置从这些值确定掩膜框架的温度的额定值。将掩膜框架置于额定值。随后，利用传感器确定位置变化，并且在另一调节步骤中对额定值接近实际值进行改进。框架的不同的区段在此可以具有不同的温度。掩膜尺寸和掩膜位置的调节在此优选地包含两个步骤。在第一步骤中，掩膜中心和基底中心彼此对齐。也可以使掩膜的坐标系和基底的坐标系的另外的零点相互重合。如果在零点的定向后出现掩膜和基底的布置在角中的调节标记相互间的偏差，那么在第二步骤中，掩膜在其弹性区域中一定程度地变形，直到基底和掩膜的调节标记重合。可以机械地或通过调节掩膜或掩膜框架的温度实现用于产生掩膜的拉伸的力。规定的是，掩膜的位置的之前描述的尤其是两级的调节仅实施一次，并且在基底更换时，仅使用各个掩膜框架区段的之前确定的温度。可以通过主动加热或通过主动冷却进行借助温度改变来调节框架的区段的间距。在沉积过程中，其中为了沉积层，在冷凝方法中冷却基底，也可以通过减小的冷却功率进行调温。附图说明随后阐述本专利技术的实施例。附图示出：图1示意性示出根据本专利技术的调节电路；图2示意性示出涂层设备的一些元件；图3放大地示出图2中的部分III；图4示出掩膜框架3的俯本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于掩膜(1)的保持件，所述掩膜在涂层方法中平放在基底(2)的待涂层的表面上，以便将层的沉积局限于所述表面的通过掩膜(1)的形状和位置预先确定的面区段，其中，保持件的对置的区段利用使掩膜(1)变形的可变的拉力作用在掩膜(1)的边缘(1’)上，所述保持件具有用于确定掩膜(1)相对于基底(2)的实际位置的传感器(5)、用于改变框架(3)的至少一个第一区段(4)相对于框架(3)的至少一个第二区段(4’)的位置的调节元件(6、7、8)和带有控制装置(9)的调节电路，以便通过改变拉力(Z、Z’、Z”、Z”’)使掩膜(1)的实际位置朝掩膜(1)的额定位置的方向改变，其特征在于，构造有保持件的矩形框架(3)的框架侧边(4、4’、4”、4”’)的区段，并且调节元件(6、7)通过温度改变来改变矩形框架(3)的两个对置的框架侧边(4、4’、4”、4”’)的间距。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.11.08 DE 102016121374.81.一种用于掩膜(1)的保持件，所述掩膜在涂层方法中平放在基底(2)的待涂层的表面上，以便将层的沉积局限于所述表面的通过掩膜(1)的形状和位置预先确定的面区段，其中，保持件的对置的区段利用使掩膜(1)变形的可变的拉力作用在掩膜(1)的边缘(1’)上，所述保持件具有用于确定掩膜(1)相对于基底(2)的实际位置的传感器(5)、用于改变框架(3)的至少一个第一区段(4)相对于框架(3)的至少一个第二区段(4’)的位置的调节元件(6、7、8)和带有控制装置(9)的调节电路，以便通过改变拉力(Z、Z’、Z”、Z”’)使掩膜(1)的实际位置朝掩膜(1)的额定位置的方向改变，其特征在于，构造有保持件的矩形框架(3)的框架侧边(4、4’、4”、4”’)的区段，并且调节元件(6、7)通过温度改变来改变矩形框架(3)的两个对置的框架侧边(4、4’、4”、4”’)的间距。2.根据权利要求1所述的保持件，其特征在于，所述传感器(5)是光学传感器。3.根据权利要求1所述的保持件，其特征在于，所述传感器(5)具有光学成像系统，并且尤其是CCD照相机。4.一种用于掩膜(1)的保持件，所述掩膜在涂层方法中平放在基底(2)的待涂层的表面上，以便将层的沉积局限于所述表面的通过掩膜(1)的形状和位置预先确定的面区段，其中，保持件的对置的区段利用使掩膜(1)变形的可变的拉力作用在掩膜(1)的边缘(1’)上，其特征在于，所述保持件具有带有对置的框架侧边(4、4’、4”、4”’)的框架(3)，框架侧边的长度是为了改变间距能改变的。5.根据权利要求4所述的保持件，其特征在于，设有用于改变间距的调节元件(6、7)。6.根据前述权利要求中任一项所述的保持件，其特征在于，调节元件具有加热和/或冷却元件(6、7)。7.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：M格斯多夫，M雅各布，
申请(专利权)人：艾克斯特朗欧洲公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE