气囊抛光盘制造技术

本实用新型专利技术属于抛光技术领域，涉及一种气囊抛光盘，包括基体以及设置在基体上的抛光液注入孔、抛光液溢出孔、球冠型气囊抛光头以及环形气囊抛光头；环形气囊抛光头置于球冠型气囊抛光头外部并与球冠型气囊抛光头同心；抛光液注入孔以及抛光液溢出孔分别置于环形气囊抛光头与球冠型气囊抛光头之间并与环形气囊抛光头和球冠型气囊抛光头所形成的空隙相贯通。本实用新型专利技术提供了一种可提高抛光效率和质量、可增大了抛光面积以及适用于对大口径平面光学零件抛光的气囊抛光盘。

Balloon Polishing Disk

【技术实现步骤摘要】
气囊抛光盘
本技术属于抛光
，涉及一种气囊抛光盘，尤其涉及一种针对大口径平面光学零件进行抛光处理的气囊抛光盘。
技术介绍
气囊式抛光技术是一种先进抛光工艺方法，具有抛光力均匀分布、工件与抛光工具吻合度高等优点。气囊抛光工具是气囊抛光技术的核心部件，主要由基体、密封膜和抛光布等部分组成，密封膜一般固定在具有一定型腔的基体上，外表面附着一层抛光布，抛光工件时，一定气压的气体充入基体内，密封膜和抛光布在气压的作用下形成一定的球冠型凸起，工件与抛光工具紧密贴合并产生相对运动来进行材料的抛光去除。其中，气囊转动速度、气囊内压力、抛光布等因素都能够影响气囊抛光工件的精度。目前，气囊抛光技术采用的抛光工具形式主要由球冠型气囊抛光头、环形气囊抛光头等形式。采用大尺寸球冠气囊抛光头抛光大口径光学零件时，抛光布与工件接触，抛光液不易添加到抛光头的中心，容易使气囊中心的抛光布磨损并影响加工精度；采用环形气囊抛光头抛光大口径光学零件时，抛光液可以充分的加入到工件与抛光头之间，环形抛光头与球冠型气囊相比，抛光头表面与工件接触的区域较小，从而影响抛光效率。为了保证抛光质量，提高气囊表面抛光布的使用寿命和抛本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气囊抛光盘，其特征在于：所述气囊抛光盘包括基体(10)以及设置在基体(10)上的抛光液注入孔(13)、抛光液溢出孔(15)、球冠型气囊抛光头以及环形气囊抛光头；所述环形气囊抛光头置于球冠型气囊抛光头外部并与球冠型气囊抛光头同心；所述抛光液注入孔(13)以及抛光液溢出孔(15)分别置于环形气囊抛光头与球冠型气囊抛光头之间并与环形气囊抛光头和球冠型气囊抛光头所形成的空隙相贯通。

【技术特征摘要】
1.一种气囊抛光盘，其特征在于：所述气囊抛光盘包括基体(10)以及设置在基体(10)上的抛光液注入孔(13)、抛光液溢出孔(15)、球冠型气囊抛光头以及环形气囊抛光头；所述环形气囊抛光头置于球冠型气囊抛光头外部并与球冠型气囊抛光头同心；所述抛光液注入孔(13)以及抛光液溢出孔(15)分别置于环形气囊抛光头与球冠型气囊抛光头之间并与环形气囊抛光头和球冠型气囊抛光头所形成的空隙相贯通。2.根据权利要求1所述的气囊抛光盘，其特征在于：所述基体(10)的上表面设置有半圆形凹槽以及环形凹槽；所述环形凹槽置于半圆形凹槽外部并与半圆形凹槽同心；所述环形气囊抛光头设置在环形凹槽中；所述球冠型气囊抛光头置于半圆形凹槽中。3.根据权利要求2所述的气囊抛光盘，其特征在于：所述气囊抛光盘还包括外压圈(2)以及内压圈(5)；所述外压圈(2)以及内压圈(5)均呈盘状结构；所述外压圈(2)与内压圈(5)同心；所述球冠型气囊抛光头通过内压圈(5)固定在基体(10)上；所述环形气囊抛光头通过外压圈(2)以及内压圈(5)固定在基体(10)上。4.根据权利要求3所述的气囊抛光盘，其特征在于：所述环形气囊抛光头包括环形密封膜(3)、第一抛光布(4...

【专利技术属性】
技术研发人员：王新海，张永军，马瑾，
申请(专利权)人：陕西国防工业职业技术学院，
类型：新型
国别省市：陕西,61