曝光设备及具有该设备的光刻系统技术方案

本公开提出一种曝光设备及具有该设备的光刻系统。曝光设备包括多个曝光机、多个XCDA气体纯化器、多根主输送管路、支援输送管路、多个控制阀组以及控制机构。多个XCDA气体纯化器与多个曝光机一一对应。多根主输送管路分别连通于各对曝光机和XCDA气体纯化器之间。支援输送管路分别连通于多根主输送管路，支援输送管路具有多根分支管路，并通过多根分支管路分别连通于多根主输送管路。多个控制阀组分别设于多根主输送管路，控制阀组被配置为可调节地连通主输送管路与分支管路。控制机构分别连接于多个控制阀组，控制机构被配置为在任意XCDA气体纯化器故障或维护时，调节控制阀组，使正常工作的XCDA气体纯化器提供供气支援。

【技术实现步骤摘要】
曝光设备及具有该设备的光刻系统
本公开涉及半导体光刻设备
，尤其涉及一种曝光设备及具有该设备的光刻系统。
技术介绍
现有光刻系统的曝光设备通常包括曝光机和XCDA气体纯化器，曝光机与XCDA气体纯化器相连通，以使XCDA气体纯化器通过管路向曝光机输送XCDA气体(ExtremeCleanDryAir，再纯化CDA，即经再纯化处理后的洁净干燥空气)。然而，现有曝光设备的XCDA气体纯化器如遇故障或许检修维护而停止工作时，其所连通的曝光机则无法工作，导致曝光器件的耗损，降低XCDA气体供应和曝光环境的稳定度。
技术实现思路
本公开的一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷，提供一种稳定性较高的曝光设备。本公开的另一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷，提供一种具有上述曝光设备的光刻系统。为实现上述目的，本公开采用如下技术方案：根据本公开的一个方面，提供一种曝光设备。其中，所述曝光设备包括多个曝光机、多个XCDA气体纯化器、多根主输送管路、支援输送管路、多个控制阀组以及控制机构。多个所述XCDA气体纯化器与多个所述曝光机一一对应。多根所述主输送管路分别连通于各对所述曝光机和所述XCDA气体纯化器之间。所述支援输送管路具有多根分支管路，并通过多根所述分支管路分别连通于多根所述主输送管路。多个所述控制阀组分别设于多根所述主输送管路，所述控制阀组被配置为可调节地连通所述主输送管路与所述分支管路。所述控制机构分别连接于多个所述控制阀组，所述控制机构被配置为在任意所述XCDA气体纯化器故障或维护时，调节所述控制阀组，使正常工作的所述XCDA气体纯化器提供供气支援。根据本公开的其中一个实施方式，所述支援输送管路的管径大于所述主输送管路的管径。根据本公开的其中一个实施方式，所述支援输送管路的管径为所述主输送管路的管径的1.2倍～1.5倍。根据本公开的其中一个实施方式，所述支援输送管路的管径为所述主输送管路的管径的4/3倍。根据本公开的其中一个实施方式，所述主输送管路的管径为0.6英尺～0.9英尺，所述支援输送管路的管径为0.8英尺～1.2英尺。根据本公开的其中一个实施方式，所述主输送管路的管径为0.75英尺，所述支援输送管路的管径为1英尺。根据本公开的其中一个实施方式，所述XCDA气体纯化器的最大输出压强为120磅每平方英寸。根据本公开的其中一个实施方式，所述主输送管路的材质为304及以上等级的不锈钢。根据本公开的其中一个实施方式，所述控制阀组至少包括调压阀件。根据本公开的另一个方面，提供一种光刻系统。其中，所述光刻系统包括本公开提出的并在上述实施方式中所述的曝光设备。由上述技术方案可知，本公开提出的曝光设备及具有该设备的光刻系统的优点和积极效果在于：本公开提出的曝光设备及具有该设备的光刻系统，支援输送管路通过多根分支管路分别连通于多根主输送管路。多个控制阀组分别可调节地连通主输送管路与分支管路。控制机构在任意XCDA气体纯化器故障或维护时调节控制阀组，使正常工作的XCDA气体纯化器提供供气支援。据此，本公开能够在部分XCDA气体纯化器故障时，利用其他XCDA气体纯化器支援供应XCDA气体，防止部分曝光机的XCDA气体停止供应的问题产生。再者，当部分XCDA气体纯化器进行再生时，本公开亦可利用其他XCDA其他纯化器支援供应XCDA气体，减少设备再生导致的曝光器件耗损，提高XCDA气体供应和曝光环境的稳定性。附图说明通过结合附图考虑以下对本公开的优选实施方式的详细说明，本公开的各种目标、特征和优点将变得更加显而易见。附图仅为本公开的示范性图解，并非一定是按比例绘制。在附图中，同样的附图标记始终表示相同或类似的部件。其中：图1是根据一示例性实施方式示出的一种曝光设备的系统示意图；图2是图1示出的曝光设备的管路流通状态示意图；图3是图1示出的曝光设备的另一管路流通状态示意图；图4是现有曝光设备的XCDA气体供应趋势示意图图5是图1示出的曝光设备的XCDA气体供应趋势示意图。附图标记说明如下：100.曝光机；200.XCDA气体纯化器；300.主输送管路；310.控制阀组；400.支援输送管路；410.分支管路；420.主管路；E.XCDA气体供应趋势曲线；F.XCDA气体供应趋势曲线。具体实施方式体现本公开特征与优点的典型实施例将在以下的说明中详细叙述。应理解的是本公开能够在不同的实施例上具有各种的变化，其皆不脱离本公开的范围，且其中的说明及附图在本质上是作说明之用，而非用以限制本公开。在对本公开的不同示例性实施方式的下面描述中，参照附图进行，所述附图形成本公开的一部分，并且其中以示例方式显示了可实现本公开的多个方面的不同示例性结构、系统和步骤。应理解的是，可以使用部件、结构、示例性装置、系统和步骤的其他特定方案，并且可在不偏离本公开范围的情况下进行结构和功能性修改。而且，虽然本说明书中可使用术语“之上”、“之间”、“之内”等来描述本公开的不同示例性特征和元件，但是这些术语用于本文中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。本说明书中的任何内容都不应理解为需要结构的特定三维方向才落入本公开的范围内。曝光设备实施方式参阅图1，其代表性地示出了本公开提出的曝光设备的系统示意图。在该示例性实施方式中，本公开提出的曝光设备是以应用于光刻系统为例进行说明的。本领域技术人员容易理解的是，为将本公开的相关设计应用于其他类型的半导体制备系统或其他工艺中，而对下述的具体实施方式做出多种改型、添加、替代、删除或其他变化，这些变化仍在本公开提出的曝光设备的原理的范围内。如图1所示，在本实施方式中，本公开提出的曝光设备主要包括多个曝光机100、多个XCDA气体纯化器200、多根主输送管路300、支援输送管路400、多个控制阀组310以及控制机构。配合参阅图2至图5，图2中代表性地示出了能够体现本公开原理的曝光设备的管路流通状态示意图；图3中代表性地示出了能够体现本公开原理的曝光设备的另一管路流通状态示意图；图4中代表性地示出了一种现有曝光设备的XCDA气体供应趋势示意图；图5中代表性地示出了能够体现本公开原理的曝光设备的XCDA气体供应趋势示意图。以下结合上述附图，对本公开提出的曝光设备的各主要组成部分的结构、连接方式和功能关系进行详细说明。如图1和图2所示，在本实施方式中，曝光设备包括多个曝光机100和多个XCDA气体纯化器200，且各曝光机100与各XCDA气体纯化器200一一对应地分为多对布置，每个XCDA气体纯化器200用于向同对的曝光机100供应XCDA气体。相应地，多根主输送管路300分别连通在各对曝光机100和XCDA气体纯化器200之间，用以供XCDA气体经由主输送管路300供应传输。如图1和图2所示，在本实施方式中，支援输送管路400具有多根分支管路410，并通过多根分支管路410分别连通于多根主输送管路300。多个控制阀组310分别设置在多根主输送管路300，用以可调节地连通主输送管路300与分支管路410。如图1和图2所示，在本实施方式中，控制机构分别连接于多个控制阀组310，当任意XCDA气体纯化器200故障或维护(例如XCDA气体纯化器200再生)时(如图3所示)，控制机构能够调节相应的控本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光设备，其特征在于，所述曝光设备包括：多个曝光机；多个XCDA气体纯化器，与多个所述曝光机一一对应；多根主输送管路，分别连通于各对所述曝光机和所述XCDA气体纯化器之间；支援输送管路，具有多根分支管路，并通过多根所述分支管路分别连通于多根所述主输送管路；多个控制阀组，分别设于多根所述主输送管路，所述控制阀组被配置为可调节地连通所述主输送管路与所述分支管路；以及控制机构，分别连接于多个所述控制阀组，所述控制机构被配置为在任意所述XCDA气体纯化器故障或维护时调节所述控制阀组，使正常工作的所述XCDA气体纯化器提供供气支援。

【技术特征摘要】
1.一种曝光设备，其特征在于，所述曝光设备包括：多个曝光机；多个XCDA气体纯化器，与多个所述曝光机一一对应；多根主输送管路，分别连通于各对所述曝光机和所述XCDA气体纯化器之间；支援输送管路，具有多根分支管路，并通过多根所述分支管路分别连通于多根所述主输送管路；多个控制阀组，分别设于多根所述主输送管路，所述控制阀组被配置为可调节地连通所述主输送管路与所述分支管路；以及控制机构，分别连接于多个所述控制阀组，所述控制机构被配置为在任意所述XCDA气体纯化器故障或维护时调节所述控制阀组，使正常工作的所述XCDA气体纯化器提供供气支援。2.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述支援输送管路的管径大于所述主输送管路的管径。3.根据权利要求2所述的曝光设备，其特征在于，所述支援输送管路的管径为所述主输送管路的管径的1.2...

【专利技术属性】
技术研发人员：不公告发明人，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34