The invention relates to a device and a method for preparing TFT LCD glass substrates by float method. Its characteristics are as follows: adding sulphur dioxide ventilation steps between forming and annealing sections, including the following steps: 1. Selecting glass batches with weight-to-weight ratio as follows: SiO 2 58-63%, B2O 3 8-11%, AlO 3-14-18%, CaO 3-8%, MgO 0-4%, SnO 0-1%, ZnO 0-10%, and adding glass batches. The glass liquid is melted into the furnace and then into the tin tank to form the glass belt. 2. Sulfur dioxide gas is blown into the tin and air surfaces of the glass belt through a set of sulfur dioxide ventilation devices, and then the glass is annealed in the annealing furnace. The invention has the advantages of: 1. simple equipment and convenient production operation; 2. Na can be effectively removed.
【技术实现步骤摘要】
一种浮法制备TFT-LCD玻璃基板的装置及方法
本专利技术属玻璃制备领域，涉及TFT-LCD玻璃制备领域，具体涉及一种浮法制备TFT-LCD玻璃基板的装置及方法。
技术介绍
在浮法生产TFT-LCD玻璃基板的工艺中将各种原材料加入窑炉中，通过加热至1600℃以上进行熔化成玻璃液，玻璃液从窑炉流出进入锡槽，在熔融的金属锡液上方经拉边机牵引、平铺摊开成型，玻璃液沿拉边机的牵引方向前进成型成玻璃带。对于TFT-LCD玻璃来说，玻璃液进入锡槽的温度（约1100℃）比普通钠钙玻璃高出约100℃，冷却至离开锡槽进入退火窑时的温度约700℃；在上述温度范围内，玻璃处于液体状态，内部离子运动活跃，离子交换和扩散速度快，一方面在TFT-LCD玻璃原料中及生产工艺中夹杂进去的钠、钾碱金属离子比较活跃，容易聚集在玻璃的表面，形成游离金属离子；另一方面在高温（600-1150℃）条件下，锡很容易被氧化，锡槽中含有的微量氧，所生成的Sn2+、Sn4+渗入玻璃里面，形成富锡层，Sn2+、Sn4+的聚集对会玻璃的折射率和透过率等产生影响。TFT-LCD玻璃基板是液晶面板的载体，生产液晶面板需要...
【技术保护点】
1.一种浮法制备TFT‑LCD玻璃基板的装置，包括窑炉、锡槽、拉边机、退火窑，其特征在于：在锡槽与退火窑之间安装一组二氧化硫通气装置，所述二氧化硫通气装置由TFT‑LCD玻璃带空气面金属罩和锡面金属罩和一组二氧化硫吹起管道组成。
【技术特征摘要】
1.一种浮法制备TFT-LCD玻璃基板的装置，包括窑炉、锡槽、拉边机、退火窑，其特征在于：在锡槽与退火窑之间安装一组二氧化硫通气装置，所述二氧化硫通气装置由TFT-LCD玻璃带空气面金属罩和锡面金属罩和一组二氧化硫吹起管道组成。2.一种浮法制备TFT-LCD玻璃基板的方法，包括现有浮法玻璃生产工艺：玻璃料混合、熔制、成型、退火，其特征在于：在成型和退火工段间增加二氧化硫通气步骤，包括以下步骤：1）.选用如下重量份数比的玻璃配合料：Si...
【专利技术属性】
技术研发人员：彭寿，张冲，刘文瑞，李艳，
申请(专利权)人：蚌埠中光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34
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