金属掩膜装置制造方法及图纸

技术编号:21081812 阅读:38 留言:0更新日期:2019-05-11 07:21
本申请提出了一种金属掩膜装置,包括外框,所述外框包括中空区;位于所述中空区内的金属掩膜层,包括:金属图案层,包括至少一第一开口,所述第一开口的形状与目标基板中像素单元的形状相同;以及位于所述金属图案层上的隔热层;当对所述目标基板进行加工时,所述金属图案层靠近所述目标基板,所述隔热层远离所述目标基板。本申请通过在现有金属掩摸装置的表面设置一隔热层,避免金属掩摸装置因受热膨胀而导致目标显示面板混色。

Metal mask device

This application proposes a metal mask device, including an outer frame including a hollow area, a metal mask layer located in the hollow area, including: a metal pattern layer, including at least one first opening, the shape of the first opening is the same as that of the pixel unit in the target substrate, and a heat insulation layer located on the metal pattern layer, when the target substrate is processed; During processing, the metal pattern layer is close to the target substrate, and the heat insulation layer is far from the target substrate. In this application, a heat insulation layer is arranged on the surface of the existing metal masking device to prevent the target display panel from mixing due to the thermal expansion of the metal masking device.

【技术实现步骤摘要】
金属掩膜装置
本申请涉及显示领域,特别涉及一种金属掩膜装置。
技术介绍
在有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode,OLED)显示面板的制造过程中,通常采用蒸镀工艺形成OLED显示面板中OLED器件的有机发光层。采用蒸镀工艺制造显示面板中的膜层时,通常将具有对应于膜层图案的掩膜版与显示面板的基板上待蒸镀的一侧贴合,并置于蒸镀源上方,蒸镀源中的蒸镀材料受热形成蒸气散至基板上,并沉积在基板上,以在基板上形成膜层。现有的掩膜版通常采用金属掩膜版,而蒸镀材料为高温气体。因此在蒸镀工艺中,掩膜版受到高温气体的影响,受热膨胀,使得掩摸版的开口与目标基板像素单元的位置发生错位,导致目标显示面板产生混色的缺陷,降低了显示面板的分辨率及良率。
技术实现思路
本申请提供一种金属掩膜装置,以解决现有金属掩膜装置因受热膨胀而导致目标显示面板混色的技术问题。为解决上述问题,本申请提供的技术方案如下:本申请提出了一种金属掩膜装置,其包括:外框,所述外框包括中空区;位于所述中空区内的金属掩膜层,包括:金属图案层,包括至少一第一开口,所述第一开口的形状与目标基板中像素单元的形状相同;以及位于所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种金属掩膜装置,其特征在于,包括:外框,所述外框包括中空区;位于所述中空区内的金属掩膜层,包括:金属图案层,包括至少一第一开口,所述第一开口的形状与目标基板中像素单元的形状相同;以及位于所述金属图案层上的隔热层;当对所述目标基板进行加工时,所述金属图案层靠近所述目标基板,所述隔热层远离所述目标基板。

【技术特征摘要】
1.一种金属掩膜装置,其特征在于,包括:外框,所述外框包括中空区;位于所述中空区内的金属掩膜层,包括:金属图案层,包括至少一第一开口,所述第一开口的形状与目标基板中像素单元的形状相同;以及位于所述金属图案层上的隔热层;当对所述目标基板进行加工时,所述金属图案层靠近所述目标基板,所述隔热层远离所述目标基板。2.根据权利要求1所述的金属掩膜装置,其特征在于,所述隔热层的材料为二氧化硅。3.根据权利要求1所述的金属掩膜装置,其特征在于,所述隔热层还包括第二开口;所述第二开口与所述第一开口的形状相同。4.根据权利要求1所述的金属掩膜装置,其特征在于,所述像素单元外边界与所述第一开口在所述目标基板的正投影面的外边界的间距为a,a大于0。5.根据权利要求1所述的金属掩膜装置,其特征在于,所述金属图案层还包括位于所述第一开口内的第一凸起;所述第一凸起在所述目标基板上的正投影面与所述像素单元不重合。6.根据权利要求1所述的金属掩膜装置,其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员:姜亮
申请(专利权)人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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