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本申请提出了一种金属掩膜装置，包括外框，所述外框包括中空区；位于所述中空区内的金属掩膜层，包括：金属图案层，包括至少一第一开口，所述第一开口的形状与目标基板中像素单元的形状相同；以及位于所述金属图案层上的隔热层；当对所述目标基板进行加工时，...
该专利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

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