掩模组件制造技术

本发明专利技术涉及一种掩模组件，用于显示屏制备的蒸镀工艺，包括：掩模板，设有若干开口域，以使蒸镀材料通过所述开口域进行沉积；开口域遮挡部件，遮挡所述若干开口域中对应预设沉积位置之外的开口域，可将掩模板制作为有利于其张网及调节的形状，从而改善异形显示屏中掩模板的张网及精度问题。

Mask assembly

The invention relates to a mask assembly, which is used for the evaporation plating process of the display screen preparation, including: a mask plate with several open areas, so that the evaporation plating material can be deposited through the open areas; an open area shielding component, which shields the open areas beyond the corresponding preset deposition positions in the several open areas, can be made into a shape conducive to its netting and adjustment, thereby improving the performance of the mask. The netting and accuracy of mask in special-shaped display screen.

【技术实现步骤摘要】
掩模组件
本专利技术涉及异形显示领域，特别是涉及掩模组件。
技术介绍
随着电子技术的发展，电子显示屏也越来越多样化，并随之出现了圆角显示屏、曲面屏等异形显示屏。传统技术中，OLED显示屏具有由轮廓线界定的有效显示区。对应的像素或子像素沿着轮廓线排布，以拟合轮廓线的形状。当轮廓线中存在非直线型部分时，针对该非直线型轮廓线的部分，沿轮廓线排布的像素或子像素通常呈现阶梯状或锯齿状。例如，当显示屏根据需要设计有倒角时，沿着倒角排布的像素或子像素通常呈阶梯状或锯齿状。申请人在实现现有技术的过程中发现：当轮廓线中存在非直线型部分时，针对该非直线型轮廓线的部分，沿轮廓线排布的像素或子像素呈阶梯排布，不同列的子像素数量不同，这就要求对应的精密金属掩模板上的不同列的子像素开口域数量也不同，从而使精密金属掩模板的开口呈不规则状，影响其张网及精度调节。
技术实现思路
基于此，有必要针对显示屏的轮廓线中存在非直线型部分时，针对该非直线型轮廓线部分不同列子像素数量不同的要求，从而使与之对应匹配的精密金属掩模板的开口呈不规则状，影响其张网及精度调节的问题，提供一种技术方案。一种掩模组件，用于显示屏制备的蒸镀工艺，包括：掩模板，设有若干开口域，以使蒸镀材料通过所述开口域进行沉积；开口域遮挡部件，遮罩于所述开口域的蒸镀方向，以便形成显示倒角。在其中一个实施例中，所述开口域遮挡部件设置于所述开口域的角落。在其中一个实施例中，所述开口域遮挡部件焊接于所述开口域的角落。在其中一个实施例中，所述掩模组件还包括掩模附件；所述开口域遮挡部件固定连接于所述掩模附件。在其中一个实施例中，所述开口域遮挡部件具有若干个；若干个所述开口域遮挡部件成阵列分布固定连接于所述掩模附件。在其中一个实施例中，所述掩模附件可相对所述掩模板平动及定位。在其中一个实施例中，所述掩模附件可相对所述掩模板转动及定位。在其中一个实施例中，所述掩模附件与所述掩模板共转轴。在其中一个实施例中，所述开口域遮挡部件用于形成倒角的轮廓线为光滑圆弧。在其中一个实施例中，所述开口域遮挡部件用于形成倒角的轮廓线为阶梯状折线。本专利技术通过在掩模组件中设置开口域遮挡部件，遮挡所述开口域中对应预设沉积位置之外的开口域，以便形成显示倒角，可将掩模板制作为有利于其张网及调节的形状，从而改善异形显示屏中掩模板的张网及精度问题。附图说明图1为现有技术中蒸镀设备的结构示意图。图2为本申请的提供的掩模组件的结构示意图。图3为本申请的提供的掩模附件的结构示意图。其中，真空室11蒸发源12TFT基板13掩模板14开口域141子开口1410磁力板15对位系统16开口域遮挡部件20掩模附件201具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似改进，因此本专利技术不受下面公开的具体实施例的限制。在有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)显示技术中，通常采用蒸镀技术来获得OLED显示屏。OLED显示屏的典型结构为：在布设有阳极的TFT基板上蒸镀一层几十纳米厚的发光材料，然后再在发光材料上蒸镀一层阴极。阴极和阳极两端施加电压后，发光层发光。发光材料为主要蒸镀材料。发光材料被蒸镀在TFT基板上形成发光层。如图1所示，为一种蒸镀设备的结构示意图。蒸镀设备包括真空室11，以及置于真空室11内的蒸发源12、TFT基板13、掩模板14、磁力板15和对位系统16。在真空室11内，将TFT基板13放置在旋转样品托架上。对发光材料或金属电极材料等蒸镀材料进行加热，以使蒸镀材料蒸发成气态的原子或分子。气态的原子或分子在真空室内做布朗运动，碰撞到TFT基板13后，在表面凝结形成薄膜。对蒸镀材料的进行加热方法包括：电流加热、电子束轰击加热或激光加热等的一种或多种。请参照图2，在蒸镀的过程中，为能精准控制发光材料的位置，通常需要利用精密金属掩模板14。精密金属掩模板14设有开口域141以蒸镀一个完整的显示屏。开口域141包括若干子开口1410。每一子开口1410对应一个子像素。可以理解的是，子像素通常可以包括第一子像素、第二子像素和第三子像素。第一子像素、第二子像素和第三子像素通常可以分别为红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。在蒸镀过程中，红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素通常是分别进行蒸镀的。为了防止子像素之间的错位，通常可以使用遮挡条来遮罩不同的子开口1410以分别蒸镀需要的子像素。随着显示屏技术的扩展，出现了显示屏设置倒角，以改善显示效果的需求。为了满足该需求可以改变遮挡条的形状，以便蒸镀具有倒角的显示屏。然而，这样遮挡条设置对应倒角的结构时，遮挡条容易由于应力集中而产生褶皱。请参照图2，本申请提供的一种实施例中，一种掩模组件，用于显示屏制备的蒸镀工艺，包括：掩模板14，设有若干开口域141，以使蒸镀材料通过所述开口域141进行沉积；开口域遮挡部件20，遮罩于所述开口域141的蒸镀方向，以便形成显示屏的显示倒角。掩模板14，用于控制有机材料沉积在基板上的预设位置。如前所述，掩模板14设有开口域141。开口域141通常可以对应一个完整产品的显示屏。开口域141包括若干子开口1410。每一子开口1410对应一个子像素。为了精确控制有机材料沉积的位置，掩模板14可以使用精密金属掩模板14(finemetalmask，FMM)。精密金属掩模板14的材料可以使用SUS420或SUS430。开口域遮挡部件20用以遮罩于所述开口域141的蒸镀方向，以便形成显示屏的显示倒角。或者说，所述开口域遮挡部件20可以对应显示屏的显示倒角。为了保证精度，开口域遮挡部件20同样可以使用SUS420或SUS430。进一步的，在本申请提供的一种实施例中，所述开口域遮挡部件20设置于所述开口域141的角落。可以理解的是，为了形成显示屏的显示倒角，开口域遮挡部件20至少有一部分必须设置于开口域141的角落。这样在蒸镀时，蒸镀材料沉积于开口域遮挡部件20，而不会进一步透过开口域遮挡部件20沉积于预设位置以外的其他位置。进一步的，在本申请提供的一种实施例中，所述开口域遮挡部件20焊接于所述开口域141的角落。开口域遮挡部件20焊接于开口域141的角落，这样，当开口域遮挡部件20的厚度与掩模板14的厚度一致时，开口域141未被开口域遮挡部件20遮罩的部分可以沉积蒸镀材料。可以理解的是，当开口域遮挡部件20在蒸镀方向上位于掩模板14前面时，在开口域遮挡部件20的蒸镀方向的后方，可能会扩散沉积一些蒸镀材料，从而，降低蒸镀的质量。而本申请实施例中，开口域遮挡部件20焊接于开口域141时，则可以提高蒸镀的质量。请参照图3，进一步的，在本申请提供的一种实施例中，所述掩模组件还包括掩模附件201；所述开口域遮挡部件20固定连接于所述掩模附件201。从前述内容可知，开口域遮挡部件20焊接于掩模板14时，需要对现有的掩模板14进行改造，而且，焊接或固定连接的质量的高低，会最终影响蒸镀的质量。而该实施例中，开口域遮挡部件20固定连接于掩模附件20本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模组件，用于显示屏制备的蒸镀工艺，其特征在于，包括：掩模板，设有若干开口域，以使蒸镀材料通过所述开口域进行沉积；开口域遮挡部件，遮罩于所述开口域的蒸镀方向，以便形成显示倒角。

【技术特征摘要】
1.一种掩模组件，用于显示屏制备的蒸镀工艺，其特征在于，包括：掩模板，设有若干开口域，以使蒸镀材料通过所述开口域进行沉积；开口域遮挡部件，遮罩于所述开口域的蒸镀方向，以便形成显示倒角。2.根据权利要求1所述的掩模组件，其特征在于，所述开口域遮挡部件设置于所述开口域的角落。3.根据权利要求2所述的掩模组件，其特征在于，所述开口域遮挡部件焊接于所述开口域的角落。4.根据权利要求2所述的掩模组件，其特征在于，所述掩模组件还包括掩模附件；所述开口域遮挡部件固定连接于所述掩模附件。5.根据权利要求2所述的掩模组件，其特征在于，所述掩模组件还包括掩...

【专利技术属性】
技术研发人员：张金方，张露，韩珍珍，胡思明，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32