一种显示面板、其制作方法及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显示面板、其制作方法及显示装置，该显示面板的制作方法，包括：采用掺入多个造孔粒子的绝缘材料在衬底基板上形成像素界定层；控制各造孔粒子迁移至像素界定层背离衬底基板一侧的边缘处；对像素界定层进行固化，并控制各造孔粒子升华，以使像素界定层在背离衬底基板一侧的表面形成多个开孔；在具有开孔的像素界定层的表面形成空穴注入层；空穴注入层在各开孔处隔断。通过在像素界定层中掺入造孔粒子并控制各造孔粒子升华，以使像素界定层的上表面形成多个开孔，因而，空穴注入层会在各开孔处隔断，有效阻断了相邻子像素间的电流横向传输，缓解相邻子像素之间的串扰的问题，且该制作方法的工艺简单易行，工艺成本低。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板、其制作方法及显示装置
本专利技术涉及显示
，尤指一种显示面板、其制作方法及显示装置。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)显示装置具有柔性可弯折、轻薄、可视角度更大、色彩艳丽、不需要背光源，节省电能等诸多优点，具有广泛的应用前景。但是OLED显示装置也存在一个棘手的问题，那就是相邻子像素间的串扰问题，这一问题成为阻碍OLED量产的关键因素之一。OLED显示装置的阳极多采用磁控溅射(Sputter)工艺制作，得到的阳极的表面粗糙度较差，有的地方会出现凸起，在凸起的位置容易产生尖端放电现象，导致发光异常，通过适当增加空穴注入层(HoleInjectLayer，HIL)的厚度，可以有效改善阳极表面不平整引起的异常放电现象。然而，由于采用高精度金属掩膜版(FineMetalMask，FMM)蒸镀的方式制作空穴注入层，成本太高，且空穴注入层太厚容易堵住FMM掩膜版上的孔，因而很难形成图形化的空穴注入层，因此，空穴注入层主要采用整面蒸镀的方式形成，此外，由于空穴注入层的导电性太强，使电流横向传输至相邻子像素，从而导致相邻子像素微亮，出现发光串扰现象。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种显示面板、其制作方法及显示装置，用以改善现有技术中存在的有机发光二极管显示装置中相邻子像素间容易发生串扰的问题。第一方面，本专利技术实施例提供了一种显示面板的制作方法，包括：采用掺入多个造孔粒子的绝缘材料在衬底基板上形成像素界定层；控制各所述造孔粒子迁移至所述像素界定层背离所述衬底基板一侧的边缘处；对所述像素界定层进行固化，并控制各所述造孔粒子升华，以使所述像素界定层在背离所述衬底基板一侧的表面形成多个开孔；在具有所述开孔的所述像素界定层的表面形成空穴注入层；所述空穴注入层在各所述开孔处隔断。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述制作方法中，所述造孔粒子具有磁性；所述控制各所述造孔粒子迁移至所述像素界定层背离所述衬底基板一侧的边缘处，包括：将所述像素界定层置于磁场中，通过调节磁场强度和磁场方向，控制各所述造孔粒子迁移至凸出于所述像素界定层背离所述衬底基板一侧的表面处，且在垂直于所述衬底基板的方向上，所述造孔粒子凸出于所述像素界定层的高度小于所述造孔粒子的高度的一半。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述制作方法中，所述控制各所述造孔粒子升华，包括：采用加热或光照的方式，控制各所述造孔粒子升华。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述制作方法中，还包括：在所述空穴注入层上形成空穴传输层；所述空穴传输层在各所述开孔处隔断。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述制作方法中，所述造孔粒子为以磁性粒子作为反应核心，并以有机物作为包裹物构成的磁性纳米粒子。第二方面，本专利技术实施例提供了一种显示面板，包括：衬底基板，位于所述衬底基板之上的像素界定层，位于所述像素界定层背离所述衬底基板一侧的空穴注入层；所述像素界定层在背离所述衬底基板一侧的表面具有多个开孔；所述空穴注入层在各所述开孔处隔断。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述显示面板中，还包括：位于所述空穴注入层背离所述衬底基板一侧的空穴传输层，所述空穴传输层在各所述开孔处隔断。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述显示面板中，所述像素界定层在垂直于所述衬底基板的方向上的截面中，所述开孔在开口处的孔径小于内部的最大孔径。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述显示面板中，所述开孔的深度在60nm至160nm的范围内。第三方面，本专利技术实施例提供了一种显示装置，包括：上述显示面板。本专利技术有益效果如下：本专利技术实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置，该显示面板的制作方法，包括：采用掺入多个造孔粒子的绝缘材料在衬底基板上形成像素界定层；控制各造孔粒子迁移至像素界定层背离衬底基板一侧的边缘处；对像素界定层进行固化，并控制各造孔粒子升华，以使像素界定层在背离衬底基板一侧的表面形成多个开孔；在具有开孔的像素界定层的表面形成空穴注入层；空穴注入层在各开孔处隔断。本专利技术实施例提供的显示面板的制作方法，通过在制作像素界定层的绝缘材料中掺入造孔粒子，并在形成像素界定层之后控制各造孔粒子升华，以使像素界定层在背离衬底基板一侧的表面形成多个开孔，因而，后续在像素界定层的表面形成空穴注入层时，空穴注入层会在各开孔处隔断，从而可以有效阻断相邻子像素间的电流横向传输，缓解相邻子像素之间的串扰的问题，且该制作方法的工艺简单易行，工艺成本低。附图说明图1为现有技术中的显示面板的结构示意图；图2为图1所示的结构示意图的简化结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的显示面板的制作方法的流程图；图4a至图4e为本专利技术实施例提供的制作方法中的各步骤对应的结构示意图；图5为图4e所示的结构示意图的简化示意图；图6a至图6f为本专利技术实施例中造孔粒子的截面示意图；图7为图4e所示结构中像素界定层的俯视结构示意图；图8为像素界定层的截面示意图；其中，100、衬底基板；101、缓冲层；102、无机层；103、像素界定层；104、空穴注入层；105、空穴传输层；106、电子传输层；107、电子注入层；108、阴极；109、薄膜晶体管；110、阳极；111、封装层；112、发光层；113、空穴阻挡层；114、造孔粒子；115、开孔。具体实施方式针对现有技术中存在的有机发光二极管显示装置中相邻子像素间容易发生串扰的问题，本专利技术实施例提供了一种显示面板、其制作方法及显示装置。下面结合附图，对本专利技术实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。附图中各膜层的厚度和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本
技术实现思路
。图1为现有技术中OLED显示面板的结构示意图，图2为图1的简化结构示意图，如图1和图2所示，一般空穴注入层104位于阳极110背离衬底基板100的一侧，阳极110多采用磁控溅射工艺制作，因而阳极110的表面会凹凸不平，在凸起的位置容置产生尖端放电现象，从而导致发光异常，通过适当增加空穴注入层104的厚度，可以有效的改善阳极110表面不平整引起的异常放电现象。但是，由于生产成本和厚度的原因，空穴注入层104很难被图形化，因而空穴注入层104主要采用整面蒸镀的方式形成，而且，空穴注入层104的导电性很强，从而使电流横向传输至相邻的子像素，如图2中的箭头所示，红色(R)子像素中的电子会沿着空穴注入层104流向绿色(G)子像素和蓝色(B)子像素中，从而出现发光串扰现象。第一方面，本专利技术实施例提供了一种显示面板的制作方法，如图3所示，包括：S201、采用掺入多个造孔粒子114的绝缘材料在衬底基板100上形成像素界定层103，得到如图4a所示的结构；S202、控制各造孔粒子114迁移至像素界定层103背离衬底基板100一侧的边缘处，如图4b所示；S203、对像素界定层103进行固化，并控制各造孔粒子升华，以使像素界定层103在背离衬底基板100一侧的表面形成多个开孔115，如图4c所示；S204、在具有开孔115的像素界定层103的表面形成空穴注入层104；空穴注入层104在各开孔处隔断，如图4d所示。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：采用掺入多个造孔粒子的绝缘材料在衬底基板上形成像素界定层；控制各所述造孔粒子迁移至所述像素界定层背离所述衬底基板一侧的边缘处；对所述像素界定层进行固化，并控制各所述造孔粒子升华，以使所述像素界定层在背离所述衬底基板一侧的表面形成多个开孔；在具有所述开孔的所述像素界定层的表面形成空穴注入层；所述空穴注入层在各所述开孔处隔断。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：采用掺入多个造孔粒子的绝缘材料在衬底基板上形成像素界定层；控制各所述造孔粒子迁移至所述像素界定层背离所述衬底基板一侧的边缘处；对所述像素界定层进行固化，并控制各所述造孔粒子升华，以使所述像素界定层在背离所述衬底基板一侧的表面形成多个开孔；在具有所述开孔的所述像素界定层的表面形成空穴注入层；所述空穴注入层在各所述开孔处隔断。2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述造孔粒子具有磁性；所述控制各所述造孔粒子迁移至所述像素界定层背离所述衬底基板一侧的边缘处，包括：将所述像素界定层置于磁场中，通过调节磁场强度和磁场方向，控制各所述造孔粒子迁移至凸出于所述像素界定层背离所述衬底基板一侧的表面处，且在垂直于所述衬底基板的方向上，所述造孔粒子凸出于所述像素界定层的高度小于所述造孔粒子的高度的一半。3.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述控制各所述造孔粒子升华，包括：采用加热或光照的方式，控制各所述造孔粒子升华。4.如权利要求1所述的制...

【专利技术属性】
技术研发人员：隋凯，李晓虎，周翔，孙中元，闫华杰，靳倩，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11