一种墨水的制备方法与应用、及顶发射器件的封装方法技术

本发明专利技术公开一种墨水的制备方法与应用、及顶发射器件的封装方法，其中，将质量比为1：2~5：1的PHPS和PSZ混合于溶剂中，反应0.5~1.5h，制备得到所述墨水。本发明专利技术以PHPS和PSZ为原料，通过水解、热解及光固化等形成SiO2薄膜，利用其高效隔绝水氧能力，从而起到保护发光器件内部有机材料的作用。另外，通过PSZ的方式对PHPS进行改性，从而在PHPS中引入甲基基团，进而提高封装层的结合力，及抗划伤能力，提高器件稳定性。此外，制备及处理过程可与现有的溶液制备方法相结合，且低要求的后处理有助于减少对器件光电性能的影响。封装层透光率可达95%，适用于高开口率的顶发射器件。

A preparation method and application of ink and the encapsulation method of top emitter

【技术实现步骤摘要】
一种墨水的制备方法与应用、及顶发射器件的封装方法
本专利技术涉及电致发光器件领域，尤其涉及一种墨水的制备方法与应用、及顶发射器件的封装方法。
技术介绍
近年来，有机电致发光器件（OLED）及量子点发光二极管（QLED）等电致发光器件得到了广泛的关注，同时相关光电材料及器件溶液法加工方法相对比目前采用的真空蒸镀等制备方法，具有成本低廉、工艺简单、材料多样、力学柔性强及易实现大面积制备等特点，因而成为研究热点。电致发光器件包括底发射器件和顶发射器件，其中顶发射器件结构将发光面与衬底分开，避免了显示发光面积与像素驱动电路间相互“竞争”的问题，从而提高了发光开口率，理论上开口率可达100%。另外顶发射器件通常采取底部反射电极和顶部半透明半反射电极，可形成光学微腔，相对于底发射器件具备更多优势，如可提高器件效率、窄化光谱和提高色纯度等。但是，顶发射器件中的有机材料对环境中的水氧特别敏感，其光电性能极易受到影响，因此对氧气和水蒸气的渗透率要求比较严格。底发射器件由于采取玻璃衬底等透明衬底，对水氧隔绝能力很强，而顶发射器件不像底发射器件具有透明衬底的优势，故该器件结构对器件封装方面有更高的要求，如本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种墨水的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：将质量比为1：2~5：1的PHPS和PSZ混合于溶剂中，反应制备得到所述墨水。

【技术特征摘要】
1.一种墨水的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：将质量比为1：2~5：1的PHPS和PSZ混合于溶剂中，反应制备得到所述墨水。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述溶剂为不含羟基和不含氨基的溶剂。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述溶剂选自正丁醚、甲苯、四氢呋喃、二氯甲烷、二甲苯、乙醚、正己烷、正戊烷、甲基乙基酮、乙酸乙酯和乙酸丁酯中的一种或多种。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，PHPS和PSZ混合发生反应生成PZPS，所述PZPS的质量浓度为5~30%。5.一种墨水的应用，其特征在于，将权利要求1-4任一项所述方法制备得到的墨水用于制备顶发射器件的封装层。6.一种顶发射器件的封装方法，其特征在于，包括步骤：提供权利要求1-4任一项方法制备得到的所述墨水；提供待封装的顶发...

【专利技术属性】
技术研发人员：辛征航，向超宇，李乐，张滔，张东华，邓天旸，
申请(专利权)人：TCL集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44