一种适于基板电路氮-氢混合等离子清洗方法技术

一种适于基板电路氮‑氢混合等离子清洗方法，具体方法包括以下步骤：⑴将待清洗的集成电路基板电路平放在等离子清洗机清洗腔内，关好清洗腔仓门；⑵通入一定配比的氮‑氢混合气；⑶设置射频电源功率、腔体真空度、清洗时间的参数；⑷启动清洗程序进行等离子清洗，结束后取出基板电路，关好清洗腔仓门。本方法优点是：①清洗过程不使用化工试剂，对操作人员和环境影响小；②清洗过程在真空环境下进行，工艺气体消耗少，成本低；③通过配置夹具可规模化清洗；④对分子尺寸级污渍去除效果优于氩氢混合气进行等离子清洗的方法。适用于氧化铝、氧化铍等厚膜基板电路和薄膜基板电路件焊接前的表面清洗。

A Nitrogen-Hydrogen Mixed Plasma Cleaning Method for Substrate Circuits

A nitrogen-hydrogen hybrid plasma cleaning method suitable for substrate circuit includes the following steps: (1) placing the IC substrate circuit to be cleaned flat in the cleaning chamber of the plasma cleaner, closing the cleaning chamber door; (2) introducing a certain proportion of nitrogen-hydrogen mixture; (3) setting parameters of radio frequency power supply, vacuum degree of the chamber and cleaning time; (4) starting the cleaning procedure; After plasma cleaning, take out the circuit board and close the cleaning chamber door. The advantages of this method are as follows: (1) the cleaning process does not use chemical reagents, which has little impact on operators and environment; (2) the cleaning process is carried out in vacuum environment with less process gas consumption and low cost; (3) the scale cleaning can be achieved by configuring fixtures; (4) the effect of removing molecule-size stains is better than that of plasma cleaning with argon-hydrogen mixture. It is suitable for surface cleaning of thick film substrates such as alumina, beryllium oxide and thin film substrates before welding.

【技术实现步骤摘要】
一种适于基板电路氮-氢混合等离子清洗方法
本专利技术涉及半导体器件的处理方法，具体来说，涉及基板电路的清洗方法。
技术介绍
众所周知，等离子清洗是近年来发展起来的高新技术之一，等离子清洗方法是利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。在混合集成电路生产过程中，组装前需对基板电路进行清洁，去除表面污渍和焊接部位金属表面氧化层，以提高焊接的可靠性。通常使用氩气通入等离子清洗机低压腔室，在射频电源的激励下使氩气发生电离，形成激活的氩原子、自由电子和未反应气体等离子化的混合物——即等离子体，再轰击到基板电路表面，达到去除表面氧化物的目的。在这种工艺中，因氩气是随性气体，电离后的氩原子本身活性差，在清洗过程中，只是通过撞击这一物理过程去除氧化物，清洗时间长，氧化物去除不彻底，影响电路组装的焊接强度。中国专利数据库中，集成电路领域中利用等离子清洗的专利申请件还不多，仅有2015103098896号《金属圆壳封装单片集成电路生产过程中的等离子清洗方法》、2017110424117号《一种集成电路封装键合前等离子清洗方法及装置》两件，均采用氩氢混合气进行等离子清洗。对于基板电路，这种清洗方法效果本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种适于集成电路基板电路氮‑氢混合等离子清洗方法，系用在等离子清洗机中，惰性气体经射频电源激励形成等离子体，对金属外壳表面的清洗，其特征在于本方法是使用氮‑氢混合气体作介质，在等离子清洗机低压腔室中，经射频电源激励，形成激活的氢原子、氮原子、自由电子和未反应气体的等离子体，当这些等离子体轰击到基板电路表面时，除撞击这一物理过程外，同时伴随离子化氢气以及电离的氢原子与基板电路的氧化层发生化学还原反应，从而达到基板电路表面包含氧化物的分子级污渍的去除作用；具体的方法包括以下步骤：第一步 将待清洗的集成电路基板电路平放在等离子清洗机清洗腔内，关好清洗腔仓门；第二步 通入一定配比的氮‑氢混合气；第...

【技术特征摘要】
1.一种适于集成电路基板电路氮-氢混合等离子清洗方法，系用在等离子清洗机中，惰性气体经射频电源激励形成等离子体，对金属外壳表面的清洗，其特征在于本方法是使用氮-氢混合气体作介质，在等离子清洗机低压腔室中，经射频电源激励，形成激活的氢原子、氮原子、自由电子和未反应气体的等离子体，当这些等离子体轰击到基板电路表面时，除撞击这一物理过程外，同时伴随离子化氢气以及电离的氢原子与基板电路的氧化层发生化学还原反应，从而达到基板电路表面包含氧化物的分子级污渍的去除作用；具体的方法包括以下步骤：第一步将待清洗的集成电路基板电路平放在等离子清洗机清洗腔内，关好清洗腔仓门；第二步通入...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹国平，
申请(专利权)人：贵州振华风光半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：贵州,52