一种高效节能还原炉底盘和多晶硅还原炉制造技术

技术编号:20780680 阅读:38 留言:0更新日期:2019-04-06 03:49
本实用新型专利技术公开一种高效节能还原炉底盘,包括底盘,所述底盘上设有中心进料口、n个电极圈层和n‑1个进料圈层,其中n≥4且n为正整数;所述电极圈层和进料圈层以中心进料口为圆心间隔设置;每个所述进料圈层设有不少于4个进料口;所述电极圈层从内向外计数,第n电极圈层设有4n对电极;同一电极圈层内相邻两个电极之间等间距设置;第n个所述电极圈层外设有出料圈层,所述出料圈层设有至少两个出料口,所述出料口等间距设置在出料圈层上。重新设计还原炉底盘上电极和进料口的布局,从而改进还原炉中进行反应的温场和气场,同时提高原料转换率,降低生产成本。本申请还提供一种包括上述高效节能还原炉底盘的多晶硅还原炉。

【技术实现步骤摘要】
一种高效节能还原炉底盘和多晶硅还原炉
本技术涉及多晶硅生产领域,具体涉及一种高效节能还原炉底盘和多晶硅还原炉。
技术介绍
目前主流的多晶硅生产工艺技术为改良西门子法:采用与电极相连的硅芯作为沉积基底,采用高温还原工艺,以高纯的三氯氢硅在氢气气氛中还原沉积而生成多晶硅。理论上,多晶硅还原炉内电极对数越多,即硅芯数越多,每炉多晶硅的产量越大;同时,单位面积内多晶硅硅芯数越多,占据了气体的空间,于是在相同原料气体流量下,单位体积内三氯氢硅原料的浓度变大,使得沉积速率加快,三氯氢硅的转化率也得以提高,使得生产成本和还原电耗下降。然而实际上,随着多晶硅还原炉内对棒数的增加,多晶硅还原炉内复杂的化学反应以及传质、传热等过程对反应炉内温场(温度分布情况)和气场(气体浓度分布情况和流动情况)的扰动程度变大,使得原料气体难以在还原炉内均匀分布,部分硅芯周围的原料气体浓度偏低以及局部反应气体流速过快。为了使每根硅芯都能与原料气体充分接触进行反应,只能供入过量的原料气体,导致原料转换率不高与倒炉风险,造成生产成本增加与质量欠佳。
技术实现思路
有鉴于此,本申请提供一种高效节能还原炉底盘,重新设计还原炉底盘上电极、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高效节能还原炉底盘,包括底盘本体,其特征在于,所述底盘本体上设有中心进料口、n个电极圈层和n‑1个进料圈层,其中n≥4且n为正整数;所述电极圈层和进料圈层以中心进料口为圆心间隔设置;每个所述进料圈层设有不少于4个进料口;所述电极圈层从内向外计数,第一电极圈层设有4对电极,第二电极圈层设有8对电极,第三电极圈层设有12对电极……第n电极圈层设有4n对电极;同一电极圈层内相邻两个电极之间等间距设置;第n个所述电极圈层外设有出料圈层,所述出料圈层设有至少两个出料口,所述出料口等间距设置在出料圈层上。

【技术特征摘要】
1.一种高效节能还原炉底盘,包括底盘本体,其特征在于,所述底盘本体上设有中心进料口、n个电极圈层和n-1个进料圈层,其中n≥4且n为正整数;所述电极圈层和进料圈层以中心进料口为圆心间隔设置;每个所述进料圈层设有不少于4个进料口;所述电极圈层从内向外计数,第一电极圈层设有4对电极,第二电极圈层设有8对电极,第三电极圈层设有12对电极……第n电极圈层设有4n对电极;同一电极圈层内相邻两个电极之间等间距设置;第n个所述电极圈层外设有出料圈层,所述出料圈层设有至少两个出料口,所述出料口等间距设置在出料圈层上。2.如权利要求1所述的高效节能还原炉底盘,其特征在于,第n电极圈层包括第一电极组和第二电极组,所述第一电极组和第二电极组分别包括2n对电极;所述第一电极组和第二电极组轴对称设置;所述第一电极组和第二电极组接入不同的供电电源。3.如权利要求2所述的高效节能还原炉底盘,其特征在于,第n-1电极圈层包括第三电极组和第四电极组,所述第三电极组和第四电极组分别包括2(n-1)对电极;所述第三电极组和第四电极组呈轴对称设置;所述第三电极组和第四电极组接入不同的供电电源。4.如权利要求1所述的高效节能还原炉底盘,其特征在于,所述进料圈层上的进料口的内径相同且小于中心进料口的内径。5.如权利要求1所述的高效节能还原炉底盘,其特征在于,所述出料圈层上出料口的数量为2x个,其中x≥2且x为正整...

【专利技术属性】
技术研发人员:王亚萍甘居富彭中游书华罗周庹如刚张聪张杰余涛晏涛刘斌
申请(专利权)人:内蒙古通威高纯晶硅有限公司
类型:新型
国别省市:内蒙古,15

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