【技术实现步骤摘要】
膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法和设备
本专利技术属于刻蚀区域设计
，具体涉及一种膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法和设备。
技术介绍
显示基板的许多膜层都要刻蚀出开口(图案)，形成一定刻蚀区域(如微小刻蚀区域)。不同刻蚀区域有不同的应力分布和变形，若变形不合适可能造成不良。因此，对设计出的刻蚀区域先要计算其应力分布和变形，若不合适则要对开口的个数、尺寸、形状、位置等进行调整。以上应力分布和变形的一种计算方式为建立刻蚀区域的三维立体模型，并根据膜层材料的实际力学参数计算应力分布和变形，这种方式的建模、网格划分等非常复杂，耗时长，较难实用。另一种常用的计算方式为将刻蚀区域视为各向异性的平面盲板(即各方向力学性能不同的、无厚度的、无开口的完整二维板)并建立模型，再根据等效力学参数通过有限元法计算应力分布和变形，这种方式运算简单。其中，等效力学参数是指将刻蚀区域视为各方向具有不同性能的平面盲板时，该平面盲板在各方向上所具有的等效泊松比、等效弹性模量等。由于刻蚀区域并非平面盲板，故等效力学参数与材料的实际力学参数必然不同；而只有根据准确的等效力学参数，才能准确算出...
【技术保护点】
1.一种膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法，其特征在于，包括：S01、选取膜层刻蚀区域的至少一部分为分析区域；S02、建立与所述分析区域对应的平面模型；S03、以第一密度对所述平面模型进行网格划分；S04、根据膜层材料的实际力学参数和第一密度的网格划分，通过有限元法分析平面模型在模拟边界条件下的第一模拟应力；S05、计算等效力学参数，其中，在模拟边界条件下，等效力学参数能使与平面模型边界尺寸相同的各向异性的平面盲板达到第一模拟应力。
【技术特征摘要】
1.一种膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法，其特征在于，包括：S01、选取膜层刻蚀区域的至少一部分为分析区域；S02、建立与所述分析区域对应的平面模型；S03、以第一密度对所述平面模型进行网格划分；S04、根据膜层材料的实际力学参数和第一密度的网格划分，通过有限元法分析平面模型在模拟边界条件下的第一模拟应力；S05、计算等效力学参数，其中，在模拟边界条件下，等效力学参数能使与平面模型边界尺寸相同的各向异性的平面盲板达到第一模拟应力。2.根据权利要求1所述的膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法，其特征在于，所述分析区域为长方形区域，其具有平行于X方向的第一边和第三边，以及平行于Y方向的第二边和第四边，所述第一边和第三边的长度为L1，所述第二边和第四边的长度为L2。3.根据权利要求2所述的膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法，其特征在于，所述L1在0.001～0.5mm。所述L2在0.001～0.5mm。4.根据权利要求3所述的膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法，其特征在于，所述模拟边界条件包括第一边界条件和第二边界条件，其中，所述第一边界条件为第一边、第三边、第四边固定，第二边沿X方向远离第四边发生C1L1的位移，在第一边界条件下沿X方向的应力为σX1，而沿Y方向的应力为σY1；所述第二边界条件为第一边、第二边、第四边固定，第三边沿X方向远离第一边的方向发生C2L2的位移，在第二边界条件下沿X方向的应力为σX2，而沿Y方向的应力为σY2。5.根据权利要求4所述的膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法，其特征在于，所述等效力学参数包括X方向的等效弹性模量EX和等效泊松比VXY，以及Y方向的等效弹性模量EY和等效泊松比VYX，其通过以下公式计算：6.根据权利要求4所述的膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法，其特征在于，所述C1在0.0001～0.005；所述C2在0.0001～0.005。7.根据权利要求1所述的膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法，其特征在于，所述网格为正方形，其边长在0.003～0.02mm。8.根据权利要求1所述的膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法，其特征在于，所述膜层材料的实际力学参数为膜层材料在指定温度下的实际力学参数。9.根据权利要求1所述的膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法，其特征在于，在所述步骤S04和S05之间，还包括：以第二密度对平面模型进行网格划分，所述第二密度为第一密度的二倍；根据膜层材料的实际力学参数和第二密度的网格划分，通过有限元...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄俊杰，王琦，张健，吕守华，杨成发，周猛，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11
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