一种改善碳化硅衬底上生长的氧化镓薄膜的方法技术

本发明专利技术提供一种改善碳化硅衬底上生长的氧化镓薄膜的方法。所述的方法是对六方碳化硅衬底的表面进行预处理和热处理，然后生长氧化镓薄膜；预处理方法包括微波等离子清洗。本发明专利技术还提出所述方法制备得到的氧化镓薄膜。本发明专利技术通过使用碳化硅衬底，解决了以往使用蓝宝石衬底制备的β‑Ga2O3薄膜导电性和导热性不佳的问题。通过在使用碳化硅衬底生长氧化镓薄膜前，除了对碳化硅衬底进行液体超声清洗外，还额外地对碳化硅衬底进行微波等离子清洗的预处理过程，强力清除了衬底表面的附着物，并减小衬底表面的粗糙度，解决了因衬底表面凹凸不平而产生较多缺陷的问题，使在其上生长的氧化镓薄膜，接触面的界面效应更小，缺陷更少，薄膜质量更好。

【技术实现步骤摘要】
一种改善碳化硅衬底上生长的氧化镓薄膜的方法
本专利技术属于半导体材料领域，具体涉及一种氧化镓薄膜的生长方法及所得产物。
技术介绍
随着深紫外光电器件以及高频大功率器件越来越被人们所重视，拥有更宽带隙(大于4eV)的半导体材料不断成为关注的研究热点。氧化镓(Ga2O3)的禁带宽度在4.9eV左右，是天然的深紫外材料，在日盲、耐高压、耐高温、低损耗、高频、高功率等器件应用方面具有巨大的潜力，是近年来颇为看好的一种新型半导体材料。在Ga2O3的6种同分异构体中(分别为α-Ga2O3,β-Ga2O3,γ-Ga2O3,δ-Ga2O3,ε-Ga2O3和κ-Ga2O3)，β-Ga2O3在温区450℃以上被认为是最稳定的结构。β-Ga2O3不易被化学腐蚀，并且机械强度高，在高温下性能稳定，因此其制备的器件可以在恶劣的环境下依旧能稳定工作。β-Ga2O3具有耐高压和低功耗的特性，其击穿电场强度可达8MV/cm，巴利加优值为3443(Si的值为单位1)。基于β-Ga2O3的耐高压和低功耗的特点,使其在高温、高频、大功率晶体管有着广泛的应用前景。β-Ga2O3属于单斜晶系，空间群为C2/m，晶格常数为a＝本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种改善碳化硅衬底上生长的氧化镓薄膜的方法，其特征在于，对六方碳化硅衬底的表面进行预处理和热处理，然后生长氧化镓薄膜；所述预处理的方法包括微波等离子清洗。

【技术特征摘要】
1.一种改善碳化硅衬底上生长的氧化镓薄膜的方法，其特征在于，对六方碳化硅衬底的表面进行预处理和热处理，然后生长氧化镓薄膜；所述预处理的方法包括微波等离子清洗。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述预处理的设备为微波等离子去胶机，所述微波等离子去胶机的反应室本底真空为0.1～3Pa，通入氩气后气压为1-15Pa，微波等离子清洗的功率为2.45GHz；优选地，所述热处理的条件为：温度500～1000℃，时间1～30min。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，包括步骤：1)对六方碳化硅衬底进行清洗、预处理；2)在1×10-3Pa以下的真空度下，对所述六方碳化硅衬底进行热处理；3)在衬底上生长氧化镓薄膜，所述生长的方法为金属有机化学气相沉积法、激光分子束外延法、磁控溅射法中的一种。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在六方碳化硅衬底上用金属有机化学气相沉积法生长氧化镓薄膜的步骤包括：1)碳化硅衬底清洗、预处理、备用；2)当反应室本底真空度降至5×10-4Pa以下，将所述碳化硅衬底放入已抽好真空的反应室，进行热处理，热处理温度为500～1000℃，热处理时间为10～30min；3)采用三甲基镓或三乙基镓作为镓源，氧气或臭氧作为氧源，载气采用氩气和氢气的混合气体；4)控制衬底温度为500～1000℃，衬底自转速度为20～1200转/分，反应室压强5Pa～105Pa，镓源温度为-10～30℃，镓源流量1～100sccm，氧源流量10～104sccm，进行生长。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，生长过程中，采用氩气和氢气的混合气体作为载气，氩气和氢气的气体流量比例为(95～99)：(5～1)；载气总流量10～104sccm，生长10～180min；生长...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄元琪，李培刚，唐为华，
申请(专利权)人：北京镓族科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11