【技术实现步骤摘要】
基板处理方法及基板处理装置
本专利技术涉及一种处理基板的基板处理方法及基板处理装置。在作为处理对象的基板中,例如,包括半导体晶片、液晶显示装置用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光罩用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板、有机电致发光(electroluminescence,EL)显示装置等平板显示器(FlatPanelDisplay,FPD)用基板等。
技术介绍
在半导体装置或液晶显示装置等的制造工序中,会使用对半导体晶片或液晶显示装置用玻璃基板等基板进行处理的基板处理装置。美国专利公开号US2009/0311874A1的各实施方式中揭示有:为了防止图案的倒塌而将斥水性保护膜形成在基板的表面。例如,在US2009/0311874A1的第2实施方式中揭示了使用单片式的基板处理装置的基板的处理。在所述处理中,将硫酸过氧化氢混合液(SulfuricAcidHydrogenPeroxideMixture,SPM)等药液、纯水、异丙醇(isopropylalcohol,IPA)等醇、硅烷偶联剂、IPA等醇及纯水依此顺序供给至基板。之后,进行甩去基板表面残留的纯水而使基板干燥的旋干(spindry)处理。在基板干燥后,因硅烷偶联剂的供给而形成在基板的表面上的斥水性保护膜通过干法灰化(dryashing)或臭氧处理等灰化处理而自基板去除。US2009/0311874A1的第3实施方式中揭示了使用批量式的基板处理装置的基板的处理。在所述处理中,将SPM、纯水、IPA、稀释剂(thinner)、硅烷偶联剂、IPA及纯水依此顺序同时供给至多枚基板。之后,进行使基板干燥 ...
【技术保护点】
1.一种基板处理方法,其特征在于包括:疏水剂供给工序,通过将使形成有图案的基板的表面疏水化的疏水剂的液体供给至所述基板的表面,而形成覆盖所述基板的整个表面的所述疏水剂的液膜;第1有机溶剂供给工序,在所述疏水剂供给工序之后,将表面张力低于水的第1有机溶剂的液体供给至由所述疏水剂的液膜覆盖着的所述基板的表面,由此以所述第1有机溶剂的液体来置换所述基板上的所述疏水剂的液体;第2有机溶剂供给工序,在所述第1有机溶剂供给工序之后,将表面张力低于所述第1有机溶剂的第2有机溶剂的液体供给至由所述第1有机溶剂的液膜覆盖着的所述基板的表面,由此以所述第2有机溶剂的液体来置换所述基板上的所述第1有机溶剂的液体;以及干燥工序,在所述第2有机溶剂供给工序之后,使附着着所述第2有机溶剂的液体的所述基板干燥。
【技术特征摘要】
2017.09.21 JP 2017-1813241.一种基板处理方法,其特征在于包括:疏水剂供给工序,通过将使形成有图案的基板的表面疏水化的疏水剂的液体供给至所述基板的表面,而形成覆盖所述基板的整个表面的所述疏水剂的液膜;第1有机溶剂供给工序,在所述疏水剂供给工序之后,将表面张力低于水的第1有机溶剂的液体供给至由所述疏水剂的液膜覆盖着的所述基板的表面,由此以所述第1有机溶剂的液体来置换所述基板上的所述疏水剂的液体;第2有机溶剂供给工序,在所述第1有机溶剂供给工序之后,将表面张力低于所述第1有机溶剂的第2有机溶剂的液体供给至由所述第1有机溶剂的液膜覆盖着的所述基板的表面,由此以所述第2有机溶剂的液体来置换所述基板上的所述第1有机溶剂的液体;以及干燥工序,在所述第2有机溶剂供给工序之后,使附着着所述第2有机溶剂的液体的所述基板干燥。2.根据权利要求1所述的基板处理方法,其特征在于,所述第2有机溶剂供给工序是在所述第1有机溶剂供给工序之后,将被预先加热至高于室温的温度并且表面张力低于所述第1有机溶剂的所述第2有机溶剂的液体供给至由所述第1有机溶剂的液膜覆盖着的所述基板的表面,由此以所述第2有机溶剂的液体来置换所述基板上的所述第1有机溶剂的液体的工序。3.根据权利要求1或2所述的基板处理方法,其特征在于,所述第1有机溶剂供给工序是在所述疏水剂供给工序之后,将被预先加热至高于被以所述第2有机溶剂供给工序供给至所述基板前的所述第2有机溶剂的液温的温度并且表面张力低于所述水的所述第1有机溶剂的液体供给至由所述疏水剂的液膜覆盖着的所述基板的表面,由此以所述第1有机溶剂的液体来置换所述基板上的所述疏水剂的液体的工序。4.根据权利要求1或2所述的基板处理方法,其特征在于还包括:溶剂加热工序,利用配置在所述基板的上方或下方的室内加热器对所述基板上的所述第2有机溶剂进行加热。5.根据权利要求1或2所述的基板处理方法,其特征在于,所述第1有机溶剂是醇,所述第2有机溶剂是氟系有机溶剂。6.一种基板处理装置,其特征在于,包括:基板保持单元,水平地保持在表面形成有图案的基板;疏水剂供给单元,将使所述基板的表面疏水化的疏水剂的液体供给至由所述基板保持单元保持着的所述基板的表面;第1有机溶剂供给单元,将表面张力低于水的第1有机溶剂的液体供给至由所述基板保持单元保持着的所述基板;第2有机溶剂供给单元,将表面张力低于所述第1有机溶剂的第2有机溶剂的液体供给至由所述基板保持单元保持着的...
【专利技术属性】
技术研发人员:田中孝佳,大跡明,
申请(专利权)人:株式会社斯库林集团,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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