【技术实现步骤摘要】
基于银纳米线-石墨烯/氧化镓纳米柱的光电探测结构、器件及制备方法
本专利技术属于光电探测
,具体涉及一种基于银纳米线-石墨烯/氧化镓纳米柱的光电探测结构、器件及制备方法。本专利技术可应用于日盲深紫外探测器。
技术介绍
近年来出现了碳化硅、氮化镓、氮化铝、硒化锌、氧化锌、氧化镓等禁带宽度Eg大于2.3eV的第三代半导体材料,相比前两代半导体材料,这类材料的带隙大、击穿电场强度高、饱和电子漂移速度快、热导率大、介电常数小、抗辐射能力强,具有良好的化学稳定性,非常适合用来研制抗辐射、高频、大功率与高密度集成的半导体器件。氧化镓(Ga2O3)的禁带宽度为4.2-5.3eV(不同晶体结构,光学各向异性表现为不同的带隙),是一种直接带隙的Ⅲ-VI族宽带隙半导体材料,具有优良的化学和热稳定性,是颇为看好的一种新型第三代半导体材料。基于Ga2O3的日盲紫外探测器已有一些报道,研究内容广泛,从材料形态上包含纳米、单晶、薄膜,从器件结构上包括金属-半导体-金属(MSM)结构、肖特基结、异质结、雪崩光电二极管(APD)等,并取得了一些重要的研究成果。α-Ga2O3属于三方晶系(T ...
【技术保护点】
1.一种基于银纳米线‑石墨烯/氧化镓纳米柱的光电探测结构,其特征在于,该结构包括:衬底;氧化镓纳米柱,形成于所述衬底上;银纳米线‑石墨烯复合薄膜,形成于所述氧化镓纳米柱上。
【技术特征摘要】
1.一种基于银纳米线-石墨烯/氧化镓纳米柱的光电探测结构,其特征在于,该结构包括:衬底;氧化镓纳米柱,形成于所述衬底上;银纳米线-石墨烯复合薄膜,形成于所述氧化镓纳米柱上。2.如权利要求1所述的光电探测结构,其特征在于,所述的氧化镓纳米柱为α相Ga2O3阵列。3.如权利要求1所述的光电探测结构,其特征在于,所述衬底为透明衬底。4.一种基于银纳米线-石墨烯/氧化镓纳米柱的光电探测结构的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:在衬底上生成氧化镓纳米柱;在所述氧化镓纳米柱上转移形成石墨烯薄膜;在所述石墨烯薄膜上附着银纳米线。5.如权利要求4所述的制备方法,其特征在于,在衬底上生成氧化镓纳米柱的步骤包括:在衬底上生...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭道友,刘琦,王顺利,李培刚,唐为华,
申请(专利权)人:北京镓族科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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