一种磁控溅射门防下垂辅助装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种磁控溅射门防下垂辅助装置，涉及防下垂技术领域，包括连接体、辅助装置。连接体左端具有调整体，连接体右端固定在磁控溅射门上。辅助装置固定在磁控溅射设备上，连接体与辅助装置位于相对方向，调整体位于辅助装置内，辅助装置与调整体具有一定间隙，辅助说装置包括复位件，复位件具有导向面，复位件为刚性材料，复位件位于调整体一侧，复位件为弧形。本发明专利技术在打开或关闭磁控溅射门过程中，使得调整体刚性接触复位件对磁控溅射门进行复位，达到保证金属腔体的密封性的目的。其中，调整体和复位件接触过程极为短暂，只有在磁控溅射门密封时才进行接触，极大减小了调整体和复位件的摩擦，有利于长时间保证金属腔体密封性。

【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射门防下垂辅助装置及方法
本专利技术涉及防下垂
，特别涉及一种磁控溅射门防下垂辅助装置。
技术介绍
磁控溅射镀膜是指将涂层材料做为靶阴极，利用氩离子轰击靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术。各种磁控溅射镀膜工艺都必须在真空室中进行(密闭金属腔体抽真空),密闭金属腔体真空度一般需达10-3Pa～10-5Pa，有的镀膜工艺甚至可能有更高的真空度要求。因此，金属腔体的密封性就显得至关重要。目前，采用的磁控溅射门材料皆有金属制成，如图1所示，磁控溅射门2具有较重的重量，磁控溅射门2一侧通过铰链3连接到固定体1上，因此，磁控溅射门2大部分重量是向着侧下方，同时迫使铰链3向下。在经过较长一段时间使用开关门后，如图2所示，磁控溅射门2会和固定体1倾向下垂形成V形，从而无法保证磁控溅射门2关上后不影响金属腔体的密封性。如公告号CN103343325B的中国专利，公开了一种“磁控溅射门防下垂装置”，包括：支撑块，所述支撑块内部开有台阶孔，所述支撑块上端面靠右侧有一段斜面。使用时，将支撑块固定在磁控溅射室的墙体上。关闭磁控溅射门时，磁控溅射门下端沿着斜面向上本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种磁控溅射门防下垂辅助装置，其中，包括：连接体，所述连接体一端具有调整体，所述连接体另一端固定在磁控溅射门上；辅助装置，所述调整体位于所述辅助装置内，所述辅助装置与所述调整体具有一定间隙，所述辅助装置包括：复位件，所述复位件具有导向面，所述复位件位于所述调整体一侧。

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射门防下垂辅助装置，其中，包括：连接体，所述连接体一端具有调整体，所述连接体另一端固定在磁控溅射门上；辅助装置，所述调整体位于所述辅助装置内，所述辅助装置与所述调整体具有一定间隙，所述辅助装置包括：复位件，所述复位件具有导向面，所述复位件位于所述调整体一侧。2.根据权利要求1所述磁控溅射门防下垂辅助装置，其中，所述连接体为圆柱体。3.根据权利要求1所述磁控溅射门防下垂辅助装置，其中，所述调整体为半圆柱体。4.根据权利要求1所述磁控溅射门防下垂辅助装置，其中,所述复位件包括：导柱；支撑环，所述支撑环连接所述导柱一端；导向环，所述导向环连接所述导柱另一端。5.根据权利要求4所述磁控溅射门防下垂辅助装置，其中,所述导柱为圆柱体，所述支撑件与所述导向件均为弧形，所述支撑件的弧度与所述导向件的弧度相同。6.根据权利要求1所述磁控溅射门防下垂辅助装置，其中，所述辅助装置还包括：弹性体，所述弹性体连...

【专利技术属性】
技术研发人员：伍志军，
申请(专利权)人：苏州赛森电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32