本申请涉及半导体制造领域，特别涉及一种卡盘及使用其加工的晶圆，本申请公开了一种卡盘，包括：卡盘本体，卡盘本体为环状结构；容纳部，容纳部设置在卡盘本体上，容纳部的直径为D1，晶圆的偏移角度为D2，晶圆的尺寸为D3，D1=2*D2+D3，容...

本申请涉及半导体制造领域，特别涉及一种新型卡盘，其特征在于，卡盘为陶瓷材质，陶瓷的最大厚度为1‑1.9mm，陶瓷的密度一般在2.8‑3.3g/cm³之间，陶瓷具有较高的耐腐性，其耐腐蚀速率范围为0.001‑0.01 mm/year，还具...

本申请公开了一种压环及具有其的真空腔室，涉及半导体制造领域

本发明涉及硅片抛光机相关技术领域，具体为一种定位组件，定位组件包括主支架、载物台、次级支架、滑座、伸缩电缸、移动悬梁、安装座、转轴、定位件，主支架设置在设置在设备本体上，载物台固定安装在主支架上，其载物台上开设有开口槽；通过设置由主支架...

本发明涉及半导体加工领域，具体为一种传输组件及硅片输送机，包括两个支撑柱、润滑组件、推送组件、旋转组件、调节组件、两个传输轮，支撑柱水平对称设置，润滑组件插接置于两个支撑柱之间设置，且润滑组件包括润滑盒，推送组件竖直设于润滑盒内中心设置...

本发明涉及硅片烘干机领域，具体公开了一种废料收集组件及硅片烘干机，包括：硅片烘干机主体的侧面设置有破碎箱，破碎箱的顶端的两侧设置有安装块；一号导料板设置于破碎箱的顶端，一号导料板的表面开设有伸缩孔，伸缩孔的内部插接有控制杆；二号导料板设...

本发明涉及硅片去污机相关技术领域，具体为一种清洗机构，清洗机构包括清洗槽、龙门支架、液压组件、安装板、一级夹持机构、二级夹持机构，清洗槽固定在地面上，且清洗槽的后侧面设置有进液口和排液口，进液口和排液口的端口位置处均设置有阀门结构，龙门...

本发明涉及半导体加工领域，具体为一种上料机构及硅片清洗机，包括底板、进料组件、出料组件、支撑架、下压组件、固定组件、盛放组件，底板水平设置，且底板上端设有操作台，进料组件设于操作台一侧，进料组件包括进料带和推料伸缩缸，出料组件设于操作台...

本发明公开了一种硅片用的烘干装置，包括：底架、下横板、硅片装载架、上横板、承载框与搬运机构，下横板设置在底架的上方，并为前后对称设置，下横板上安装有承载架，承载架的前后两边穿过下横板与底架；硅片装载架设置在底架上，硅片装载架中装载有硅片...

本实用新型公开了一种真空镀膜工艺中硅片单面抛光装置，涉及硅片加工技术领域，包括：抛光机构、驱动装置、对接机构、注液结构、抛光头。本实用新型通过注液机构半包覆抛光垫，并为抛光垫与注液机构的套口之间留有空隙(压力空间)，且该空隙两侧与外界相...

本实用新型公开了一种应用于硅片溅射台的分离装置，涉及太阳能电池制造技术领域，包括：基座、第一升降结构、托盘、调整机构、驱动齿轮、驱动装置、分离机构。调整机构具有：滚齿轮、传动齿轮、滚珠丝杆、套座、调节件。本实用新型通过驱动齿轮的连接齿在...

本实用新型公开了一种硅片刻蚀设备上的矫正机构，涉及硅片生产设备技术领域，包括：基座、支撑座、传送辊、驱动装置、传送带、载片台、滑座、矫正机构、导向轮。通过载片台的触发板推动矫正机构的被动部方式，使直径小于转柱的第一齿轮在转柱上的传动齿下...

本实用新型公开了一种溅射台上的硅片输送设备，涉及硅片加工技术领域。在本申请中，溅射台上的硅片输送设备，包括：机体设置在平面上，机体的内部设置有输送轮，输送轮与机体固定连接；放置装置设置在机体的一侧，放置装置与机体连接，放置装置包括：外壳...

本实用新型公开了一真空镀膜工艺中的硅片的存料装置，主要以解决现有收纳硅片的装置中硅片的存放位置小导致工人放入硅片会使硅片易碎裂的问题。包括主壳体；主外板，所述主外板固定在所述主壳体的外表面；隔板，隔板之间用于存放硅片，所述隔板的侧边设有...

本发明公开了一种溅射台上的硅片输送设备，涉及硅片加工技术领域。在本申请中，溅射台上的硅片输送设备，包括：机体设置在平面上，机体的内部设置有输送轮，输送轮与机体固定连接；放置装置设置在机体的一侧，放置装置与机体连接，放置装置包括：外壳设置...

本发明公开了一种应用于硅片溅射台的分离装置，涉及太阳能电池制造技术领域，包括：基座、第一升降结构、托盘、调整机构、驱动齿轮、驱动装置、分离机构。调整机构具有：滚齿轮、传动齿轮、滚珠丝杆、套座、调节件。本发明通过驱动齿轮的连接齿在旋转方向...

本发明公开了一种真空镀膜工艺中的硅片的存料装置，主要以解决现有收纳硅片的装置中硅片的存放位置小导致工人放入硅片会使硅片易碎裂的问题。包括主壳体；主外板，所述主外板固定在所述主壳体的外表面；隔板，隔板之间用于存放硅片，所述隔板的侧边设有轴...

本发明公开了一种硅片刻蚀设备上的矫正机构，涉及硅片生产设备技术领域，包括：基座、支撑座、传送辊、驱动装置、传送带、载片台、滑座、矫正机构、导向轮。通过载片台的触发板推动矫正机构的被动部方式，使直径小于转柱的第一齿轮在转柱上的传动齿下带动...

本发明公开了一种真空镀膜工艺中硅片单面抛光装置，涉及硅片加工技术领域，包括：抛光机构、驱动装置、对接机构、注液结构、抛光头。本发明通过注液机构半包覆抛光垫，并为抛光垫与注液机构的套口之间留有空隙(压力空间)，且该空隙两侧与外界相通的方式...

本发明公开了一种集成电路板固定去胶装置及使用方法，主要解决了现有技术中集成电路板没有固定在水平中心，去胶时部分胶没有一次性去除的问题。该一种集成电路板固定去胶装置包括：机床；移动部，所述移动部安装在所述机床上方；固定装置，所述固定装置安...