线性蒸镀设备及其蒸镀线源控制方法技术

本发明专利技术提供了一种线性蒸镀设备及其蒸镀线源控制方法，包括晶振探测系统及设置于晶振探测系统探测端的线源组件，晶振探测系统包括支架、至少两个晶振探头组件及驱动机构，线源组件包括线源主体及设置于线源主体内的加热组件，线源主体上设置有开设有探测口的挡板，所述加热组件至少设置有两组，每组加热组件上方对应设置有至少一个喷嘴，加热组件及探测口的数量均与晶振探头组件数量相同。通过该蒸镀设备的晶振探测系统更好的控制线源蒸镀速率，从而保证了线源的均匀性。

Linear evaporation equipment and its line source control method

The invention provides a linear evaporation plating equipment and a line source control method for evaporation plating, including a crystal oscillator detection system and a line source component set at the detection end of the crystal oscillator detection system. The crystal oscillator detection system includes a support, at least two crystal oscillator probe components and a driving mechanism. The line source component includes a line source main body and a heating component set in the line source main body. The baffle of the measuring mouth is provided with at least two groups of heating components, and at least one nozzle is correspondingly arranged above each group of heating components. The number of heating components and detecting ports is the same as the number of crystal oscillator probe components. The crystal vibration detection system of the evaporation equipment can better control the evaporation rate of the line source, thus ensuring the uniformity of the line source.

【技术实现步骤摘要】
线性蒸镀设备及其蒸镀线源控制方法
本专利技术属于线性蒸镀
，尤其涉及一种线性蒸镀设备及其蒸镀线源控制方法。
技术介绍
在真空蒸镀设备中，线性蒸镀源多用于在大基板上沉积材料形成连续且均匀的薄膜。在长度方向上随着离线源中心线距离的增加，边缘处的薄膜厚度明显小于中心处，造成薄膜均匀度不理想。在许多功能器件的制备中，一般希望薄膜层厚度的不均匀性被控制在5％以内。现有的线性蒸镀源长时间连续蒸镀过程中，一般采用单一的晶振探头，探头寿命有限，且当探头出现故障时，在更换探头时将造成蒸镀过程被迫中止，从而导致蒸镀材料和时间的浪费。
技术实现思路
为了解决现有技术的不足，本专利技术提供了一种线性蒸镀设备用晶振控制系统。本专利技术的目的通过以下技术方案来实现：线性蒸镀设备，包括晶振探测系统及设置于晶振探测系统探测端的线源组件，所述晶振探测系统包括支架、固定设置于支架上的至少两个晶振探头组件、及用于驱动所述支架移动的驱动机构，所述线源组件包括线源主体及设置于线源主体内的加热组件，所述线源主体上设置有开设有探测口的挡板，所述加热组件至少设置有两组，每组所述加热组件上方对应设置有至少一个喷嘴，所述晶振探头组件本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.线性蒸镀设备，其特征在于：包括晶振探测系统及设置于晶振探测系统探测端的线源组件，所述晶振探测系统包括支架、固定设置于支架上的至少两个晶振探头组件、及用于驱动所述支架移动的驱动机构，所述线源组件包括线源主体及设置于线源主体内的加热组件，所述线源主体上设置有开设有探测口的挡板，所述加热组件至少设置有两组，每组所述加热组件上方对应设置有至少一个喷嘴，所述晶振探头组件及探测口的数量相同，且不小于所述加热组件的数量。

【技术特征摘要】
1.线性蒸镀设备，其特征在于：包括晶振探测系统及设置于晶振探测系统探测端的线源组件，所述晶振探测系统包括支架、固定设置于支架上的至少两个晶振探头组件、及用于驱动所述支架移动的驱动机构，所述线源组件包括线源主体及设置于线源主体内的加热组件，所述线源主体上设置有开设有探测口的挡板，所述加热组件至少设置有两组，每组所述加热组件上方对应设置有至少一个喷嘴，所述晶振探头组件及探测口的数量相同，且不小于所述加热组件的数量。2.如权利要求1所述的线性蒸镀设备，其特征在于：所述晶振探头组件及探测口的数量均为k个，所述加热组件数量为K-1个。3.如权利要求1所述的线性蒸镀设备，其特征在于：所述晶振探头组件包括有至少两个呈直线排布的晶振探头，所述晶振探头中有且只有一个与所述探测口对应设置；所述驱动机构驱动所述支架沿平行于所述晶振探头排布方向的方向移动。4.如权利要求1所述的线性蒸镀设备，其特征在于：所述驱动机构包括有设置于所述蒸镀设备外的气缸、设置于蒸镀设备一侧的密封组件、设置于蒸镀设备内的导向组件、及与所述导向组件相配合的底座，所述支架固定设置在底座上；所述气缸伸缩杆通过密封组件与所述底座连接。5.如权利要求3所述的线性蒸镀设备，其特征在于：所述晶振探头组件包括一个工作用晶振探头和至少一个备用晶振探头，所述气缸的数量与所述晶振探头组件中备用晶振探头的数量相对应，所述气缸沿所述导向组件首尾相连设置。6.如权利要求3所述的线性蒸镀设备，其特征在于：所述晶振探头组件固定于所述支架上，各所...

【专利技术属性】
技术研发人员：武启飞，黄稳，廖良生，高永喜，蔡冬伟，
申请(专利权)人：苏州方昇光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32