一种氮化钛气相沉积装置沉积环洗净溶射专用保护治具制造方法及图纸

一种氮化钛气相沉积装置沉积环洗净溶射专用保护治具，属于洗净溶射遮蔽治具领域。包括外圈治具、内圈治具和保护盖；所述外圈治具和内圈治具为圆环状结构；所述外圈治具位于沉积环下面，内圈治具位于沉积环上面，内圈治具上安装保护盖。本实用新型专利技术的治具的材质选用优质不锈钢，耐高温不变形；治具保护的沉积环部件表面不会留下残胶，污垢等杂物；治具可以重复利用，使用方便，节省人力及物料成本。

A special protective device for TiN vapor deposition device

The utility model relates to a special protective treatment device for the deposition ring cleaning and dissolution of titanium nitride vapor deposition device, which belongs to the field of the cleaning and dissolution shielding treatment device. The outer ring fixture includes an outer ring fixture, an inner ring fixture and a protective cover; the outer ring fixture and an inner ring fixture are circular structures; the outer ring fixture are located under the sedimentary ring, the inner ring fixture is located above the sedimentary ring, and the protective cover is installed on the inner ring fixture. The material of the fixture of the utility model is made of high quality stainless steel with high temperature resistance and no distortion; the surface of the deposit ring parts protected by the fixture will not leave any residue, dirt and other impurities; the fixture can be reused, used conveniently, and the cost of manpower and materials can be saved.

【技术实现步骤摘要】
一种氮化钛气相沉积装置沉积环洗净溶射专用保护治具
本技术涉及洗净溶射遮蔽治具领域，尤其涉及一种半导体设备氮化钛气相沉淀装置沉积环部件洗净溶射专用保护治具。
技术介绍
氮化钛气相沉积是半导体器件制造的一项重要工艺，氮化钛气相沉积装置在使用过程中需要采用辅助治具来加以配合，设置于氮化钛气相沉积装置内的这些辅助治具需要定期清洗维护，通常采用酸或有机物溶液对沉积环、挡板、挡片等进行清洗，目前在对再生中的沉积环部件进行洗净溶射遮蔽保护时，通常采用耐高温胶带对部件非洗净溶射部分进行保护，用胶带保护时每次都要将胶带根据部件所需要遮蔽的范围进行剪切，操作占用时间较多，并且胶带无法重复利用会增加生产成本，同时人工操作胶带保护无法保证溶射区域的精度，此外用胶带保护还会导致内部有不同程度的残胶留在表面，造成产品不良。
技术实现思路
为解决现有氮化钛气相沉积装置沉积环进行溶射遮蔽保护时人工运用胶带导致胶带留有残留并且占用时间、增加成本的问题，本技术提供了一种氮化钛气相沉积装置沉积环洗净溶射专用保护治具。为实现上述目的，本技术采用的技术方案是：一种氮化钛气相沉积装置沉积环洗净溶射专用保护治具，包括外圈治具、内圈治具和保护盖；所述外圈治具和内圈治具为圆环状结构；所述外圈治具位于沉积环下面，内圈治具位于沉积环上面，内圈治具上安装保护盖，保护盖上有提拉把手；所述外圈治具的外径尺寸大于内圈治具的外径尺寸，内圈治具的外径尺寸大于外圈治具的内径尺寸，内圈治具的内径尺寸小于外圈治具的内径尺寸。进一步的，所述外圈治具上有内凸台和外凸台，内凸台和外凸台中间设置安装槽。进一步的，所述内凸台上有与沉积环相配合的三个均匀分布的凹槽A。进一步的，所述内圈治具的外壁下部设置与沉积环相配合的三个均匀分布的凹槽B，内圈治具内壁设置承载保护盖的凸台。进一步的，所述外圈治具、内圈治具和保护盖采用不锈钢材质。本技术的有益效果是：治具的材质选用优质不锈钢，耐高温不变形；治具保护的沉积环部件表面不会留下残胶，污垢等杂物；治具可以重复利用，使用方便，节省人力及物料成本。附图说明图1为本技术保护盖的主视图；图2为本技术保护盖的剖视图；图3为本技术内圈治具上端的结构示意图；图4为本技术内圈治具下端的结构示意图；图5为本技术外圈治具的主视图；图6为本技术外圈治具的结构示意图。图中1.保护盖，2.提拉把手，3.内圈治具，4.凹槽B，5.外圈治具，6.安装槽，7.凹槽A，8.外凸台，9.内凸台。具体实施方式一种氮化钛气相沉积装置沉积环洗净溶射专用保护治具，该治具是为英特尔使用的半导体设备氮化钛气相沉淀装置沉积环部件进行洗净溶射的专用保护治具，包括外圈治具5、内圈治具3和保护盖1；所述外圈治具5和内圈治具3为圆环状结构；所述外圈治具5位于沉积环下面，内圈治具3位于沉积环上面，内圈治具3上安装保护盖1，保护盖1上有提拉把手2；所述外圈治具5的外径尺寸大于内圈治具3的外径尺寸，内圈治具3的外径尺寸大于外圈治具5的内径尺寸，内圈治具3的内径尺寸小于外圈治具5的内径尺寸。所述外圈治具5上有内凸台9和外凸台8，内凸台9和外凸台8中间设置安装槽6。所述内凸台9上有与沉积环相配合的三个均匀分布的凹槽A7。所述内圈治具3的外壁下部设置与沉积环相配合的三个均匀分布的凹槽B4，内圈治具3内壁设置承载保护盖1的凸台。所述外圈治具5、内圈治具3和保护盖1采用不锈钢材质。使用时将外圈治具5平放，将待洗净溶射的沉积环部件放置于外圈治具5的安装槽6上，将凹槽A7与沉积环对齐，将内圈治具3放置在待洗净溶射的沉积环上并露出需要洗净溶射的区域，将保护盖1放置在内圈治具3上，洗净溶射后将治具取下，可重复使用。治具保护的沉积环部件表面不会留下残胶，污垢等杂物；治具可以重复利用，使用方便，节省人力及物料成本。以上所述，仅为本技术较佳的具体实施方式，但本技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本技术披露的技术范围内，根据本技术的技术方案及其技术构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氮化钛气相沉积装置沉积环洗净溶射专用保护治具，其特征在于，包括外圈治具(5)、内圈治具(3)和保护盖(1)；所述外圈治具(5)和内圈治具(3)为圆环状结构；所述外圈治具(5)位于沉积环下面，内圈治具(3)位于沉积环上面，内圈治具(3)上安装保护盖(1)，保护盖(1)上有提拉把手(2)；所述外圈治具(5)的外径尺寸大于内圈治具(3)的外径尺寸，内圈治具(3)的外径尺寸大于外圈治具(5)的内径尺寸，内圈治具(3)的内径尺寸小于外圈治具(5)的内径尺寸。

【技术特征摘要】
1.一种氮化钛气相沉积装置沉积环洗净溶射专用保护治具，其特征在于，包括外圈治具(5)、内圈治具(3)和保护盖(1)；所述外圈治具(5)和内圈治具(3)为圆环状结构；所述外圈治具(5)位于沉积环下面，内圈治具(3)位于沉积环上面，内圈治具(3)上安装保护盖(1)，保护盖(1)上有提拉把手(2)；所述外圈治具(5)的外径尺寸大于内圈治具(3)的外径尺寸，内圈治具(3)的外径尺寸大于外圈治具(5)的内径尺寸，内圈治具(3)的内径尺寸小于外圈治具(5)的内径尺寸。2.根据权利要求1所述的一种氮化钛气相沉积装置沉积环洗净溶射专用保护治具，其特征在于，所述外圈治具(5)上有内凸台(...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈智慧，朱光宇，张正伟，李泓波，贺贤汉，
申请(专利权)人：富乐德科技发展大连有限公司，
类型：新型
国别省市：辽宁,21