密封式透镜组件制造技术

本实用新型专利技术涉及半导体设备制造技术领域，公开了一种密封式透镜组件，设置在光刻机内，包括：会聚透镜、投影透镜以及设置在两者之间的掩膜版载台，此外，密封式透镜组件还包括：密封腔,设置在会聚透镜和投影透镜之间；密封门,设置在密封腔上；风管，进风端和出风端在不同位置处与密封腔连通。本实用新型专利技术提供的密封式透镜组件通过形成气密性良好且透光的密封腔，将密封腔内的气体与外界含有能够形成霾斑的粒子的气体隔绝，因此降低密封腔内能够形成霾斑的粒子(例如硫离子、氨离子等)的浓度。根据本实用新型专利技术，能够减少掩膜版上霾斑的形成，进而减少对掩膜版拆装和清洗的次数，降低生产成本并提高生产效率。

Sealed lens assembly

The utility model relates to the technical field of semiconductor equipment manufacturing, and discloses a sealed lens assembly, which is arranged in a photolithographic machine, including a convergent lens, a projection lens and a mask plate platform between them. In addition, the sealed lens assembly includes a sealed cavity, which is arranged between the convergent lens and the projection lens; a sealed door, which is arranged on the sealed cavity; an air duct, and an inlet. The air end and the outlet end are connected with the sealing chamber at different positions. The sealed lens assembly provided by the utility model isolates the gas in the sealed cavity from the gas containing particles capable of forming haze spots outside by forming a sealed cavity with good air tightness and light transmission, thus reducing the concentration of particles (such as sulfur ion, ammonia ion, etc.) that can form haze spots in the sealed cavity. According to the utility model, the formation of haze spots on the mask can be reduced, the times of disassembly, assembly and cleaning of the mask can be reduced, the production cost can be reduced and the production efficiency can be improved.

【技术实现步骤摘要】
密封式透镜组件
本技术涉及半导体设备制造
，特别涉及一种密封式透镜组件。
技术介绍
在半导体生产过程中，光刻工艺十分重要，能够在半导体结构表面形成多样的图案。通常来说，首先在半导体表面形成掩膜层，之后在掩膜上形成光刻胶层，再在进行光刻。具体为，光线透过掩膜版照射在光刻胶层上，引起在光刻胶层的曝光区域发生化学反应，再通过显影技术溶解去除曝光区域或未曝光区域的光刻胶，从而使掩膜版上的图形被复制到光刻胶层上。由此可见，掩模版是光刻工艺不可缺少的部件，掩模版的性能直接决定光刻工艺的质量。然而，在现有技术中，掩模版有一常见的缺陷：霾斑。霾斑通常出现在掩模透光的区域，位于掩模图形的一侧，看起来像一个污斑，并且会随着掩模版使用时间的延长会不断加深、长大。在实际生产过程中，参见图1所示，霾斑最早是在KrF掩模上发现，但最多出现在ArF掩模上。霾斑在初期会导致掩模版局部透光率损失10％左右，后期可是掩膜版的局部透光率损失达到50％以上，使得光线在光刻胶层形成的曝光区域发生改变，从而影响最终在晶圆上形成的图形，所以说霾斑对刻蚀晶圆的良率有很大影响。具体来说，霾斑形成的原理为：含能够形成霾斑的粒子(例如：氨离子和硫离子等)的化合物，在高能光子的激发下，和周围环境中的水、二氧化碳发生反应生成盐类化合物。其中，构成霾斑的离子和分子，可以在掩模版表面迁移，还会沉积在掩模图形的侧壁,因此严重影响曝光图形质量。在目前的生产中，掩模版出现霾斑等缺陷的清理方法是将把掩模版送回掩模制造厂拆除保护膜做全面清洗的，因此清洗成本高，耗时长严重影响生产效率，使生产周期延长。
技术实现思路
本技术是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种密封式透镜组件，能够减少霾斑的形成。根据本技术，通过在会聚透镜和投影透镜之间形成密封腔，对腔体内部的离子进行过滤，以减少放置在会聚透镜和投影透镜之间掩膜版上霾斑的形成。具体地，本技术提供的一种密封式透镜组件，设置在光刻机内，包括：会聚透镜、投影透镜以及设置在两者之间的掩膜版载台，此外，密封式透镜组件还包括：密封腔,设置在会聚透镜和投影透镜之间并将会聚透镜和投影透镜之间密封；密封门,设置在密封腔上；风管，进风端和出风端在不同位置处与密封腔连通。相较于现有技术而言，本技术提供的密封式透镜组件的密封腔设置在会聚透镜和投影透镜之间，通过形成气密性良好且透光的密封腔，将密封腔内的气体与外界含有能够形成霾斑的粒子的气体隔绝，因此降低密封腔内能够形成霾斑的粒子(例如硫离子、氨离子等)的浓度。在光刻时，将掩膜版安装在密封腔内，从而减少掩膜版上霾斑的形成，进而减少对掩膜版拆装和清洗的次数，降低生产成本并提高生产效率。作为优选，在风管上设置有对密封腔内的气体进行检测的检测装置，检测装置包括第一检测装置和第二检测装置，第一检测装置设置在风管的进风端处，第二检测装置设置在风管的出风端处。第一检测装置和第二件测装置均用于检测密封腔内的气体中的能够形成霾斑的粒子的浓度。在风管的进风端和出风端分别设置第一检测装置和第二检测装置，能够更好地对从密封腔抽出的气体和送入密封腔的气体中含有的能够形成霾斑的粒子的浓度进行检测，从而判断风管是否有效工作。进一步地，作为优选，在风管中的第一检测装置和第二检测装置之间设置有过滤器，密封腔内的气体通过第一检测装置后到达过滤器，过滤器包括第一过滤器以及第二过滤器，第二过滤器较第一过滤器远离第一检测装置。过滤器用于对从密封腔抽入风管内的气体进行过滤，滤除气体中够形成霾斑的粒子。第一过滤器用于对气体内的能够形成霾斑的粒子进行粗过滤，第二过滤器用于对能够形成霾斑的粒子进行细过滤，进一步降低密封腔内的能够形成霾斑的粒子的浓度，从而减少掩膜版上霾斑的形成。进一步地，作为优选，在风管上还设置有能够对密封腔内的气体进行抽吸的鼓风机。通过在风管上设置鼓风机促进风管和密封腔之间的气体流动，使密封腔内的气体能够从进风端进入风管，并通过风管上的过滤器滤除能够形成霾斑的粒子，再被鼓风机从出风端送回密封腔，以减少密封腔内形成霾斑的所需的反应物的方式降低霾斑形成的概率。进一步地，作为优选，在第二过滤器与鼓风机之间设置有冷却装置，在冷却装置与鼓风机之间设置有干燥器。霾斑通常需要在有水和光照的条件下才能形成，因此，在风管上设置干燥器吸除气体中的水汽，以降低密封腔内水的含量，从而进一步减少掩膜版在使用过程中形成的霾斑。进一步地，作为优选，还包括控制器，控制器与第一检测装置和第二检测装置通信连接，控制器比较第一检测装置以及第二检测装置的检测结果，并对鼓风机进行控制。通过比较第一检测装置和第二检测装置的检测结果，由控制器判断过滤器等的过滤效果，从而控制鼓风机来调节风管内的气体流量，确保密封腔内的气体压强以及过滤器的过滤效果。作为优选，还包括与控制器通信连接的报警器，当控制器判断工作状态异常时，由报警器发出提醒。控制器通过检测结果对过滤器等的工作状态进行判断，当控制器得出过滤器等的工作状态异常的结论时，则会控制报警器发出警报，提醒附近的操作人员另外，作为优选，密封门与掩膜版载台对置地设置。将密封门与掩膜版载台对置设置，使得掩膜版的安装和拆卸操作更加容易。另外，作为优选，风管可拆卸地安装在密封腔上。风管采用可拆卸的设计能够节约成本，当风管出现破损时，仅更换新的风管就可以继续使用。作为优选，在风管的进风端和出风端分别设置有密封结构。在风管的进风端和出风端分别设置密封结构，能够确保风管和密封腔的气密性，从而使密封腔内气体能够在风管被净化后被全部送回密封腔，从而在密封腔内的难以形成霾斑气体环境，减少对掩膜版的清洗次数。附图说明图1是现有技术中透镜组件进行光刻的示意图；图2是本技术的密封式透镜组件的结构示意图；图3是本技术中风管可拆卸地设置并设有密封组件的密封式透镜组件的结构示意图。附图标记说明：1-密封腔；1a-密封门；2-风管；2a-进风端；2b-出风端；3a-第一检测装置；3b-第二检测装置；4a-第一过滤器；4b-第二过滤器；5-鼓风机；6-冷却装置；7-干燥器；8-会聚透镜；9-投影透镜；10-掩膜版载台；11-掩膜版；12-晶圆；13-密封结构。具体实施方式下面结合说明书附图，对本技术进行进一步的详细说明。附图中示意性地简化示出了密封式透镜组件的结构等。本技术提供了一种密封式透镜组件，设置在光刻机内，参见图2所示，包括：会聚透镜8、投影透镜9以及设置在两者之间的掩膜版载台10，此外，密封式透镜组件还包括：密封腔1,设置在会聚透镜8和投影透镜9之间并将会聚透镜8和投影透镜9之间密封；密封门1a,设置在密封腔1上；风管2，进风端2a和出风端2b在不同位置处与密封腔1连通。其中，会聚透镜8和投影透镜9两者的镜面平行设置，密封腔1设在两者之间并将两者密封，从而形成囊括掩膜版载台10的腔体。进行光刻时，掩膜版11放置在掩膜版载台10上，晶圆12设置在投影透镜9的下方，光线由会聚透镜8会聚而照射在掩膜版11上，并通过投影透镜9将掩膜版11的图形投影在晶圆12上，对晶圆12上的光刻胶层进行曝光。并且，掩膜版载台10设置在密封腔1的内侧壁上，当掩膜版11安装后，掩膜版11的平面与会聚透镜8和投影透镜9两者的镜面相本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种密封式透镜组件，设置在光刻机内，包括：会聚透镜、投影透镜以及设置在两者之间的掩膜版载台，其特征在于，所述密封式透镜组件还包括：密封腔,设置在所述会聚透镜和所述投影透镜之间并将所述会聚透镜和所述投影透镜之间密封；密封门,设置在所述密封腔上；风管，进风端和出风端在不同位置处与所述密封腔连通。

【技术特征摘要】
1.一种密封式透镜组件，设置在光刻机内，包括：会聚透镜、投影透镜以及设置在两者之间的掩膜版载台，其特征在于，所述密封式透镜组件还包括：密封腔,设置在所述会聚透镜和所述投影透镜之间并将所述会聚透镜和所述投影透镜之间密封；密封门,设置在所述密封腔上；风管，进风端和出风端在不同位置处与所述密封腔连通。2.根据权利要求1所述的密封式透镜组件，其特征在于，在所述风管上设置有对所述密封腔内的气体进行检测的检测装置，所述检测装置包括第一检测装置和第二检测装置，所述第一检测装置设置在所述风管的所述进风端处，所述第二检测装置设置在所述风管的所述出风端处。3.根据权利要求2所述的密封式透镜组件，其特征在于，在所述风管中的所述第一检测装置和所述第二检测装置之间设置有过滤器，所述密封腔内的气体通过所述第一检测装置后到达所述过滤器，所述过滤器包括第一过滤器以及第二过滤器，所述第二过滤器较所述第一过滤器远离所述第一检测装置。4.根据权利要求3所述的密封式透镜组件，其特征在于，在所述风...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭甜，刘庆超，古哲安，黄志凯，叶日铨，
申请(专利权)人：德淮半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32