An image sensor and its forming method include: providing a semiconductor substrate with pixel devices in the semiconductor substrate; forming a grid structure on the surface of the semiconductor substrate with multiple grid openings; forming a hydrophobic film using hydrophobic materials, the hydrophobic film covering the top surface of the grid structure and the grid openings. The side wall and the bottom surface of the mesh are formed in the opening of the mesh. The scheme of the invention can improve the imaging quality of the image sensor and reduce the cost.
【技术实现步骤摘要】
图像传感器及其形成方法
本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种图像传感器及其形成方法。
技术介绍
图像传感器是摄像设备的核心部件，通过将光信号转换成电信号实现图像拍摄功能。以互补金属氧化物半导体图像传感器(CMOSImageSensors，CIS)器件为例，由于其具有低功耗和高信噪比的优点，因此在各种领域内得到了广泛应用。以背照式(Back-sideIllumination，BSI)CIS为例，在现有的制造工艺中，先在半导体衬底内形成逻辑器件、像素器件以及金属互连结构，然后采用承载晶圆与所述半导体衬底的正面键合，进而对半导体衬底的背部进行减薄，进而在半导体衬底的背面形成CIS的后续工艺，例如在所述像素器件的半导体衬底背面形成网格状的格栅(Grid)，在所述格栅之间的网格开口内形成滤色镜(ColorFilter)等。然而，由于滤色镜的材料对格栅的侧壁具有亲水性，导致滤色镜的顶部表面为向下方凹陷的形貌，致使入射光线发散。在现有技术中，需要形成一层平面层对滤色镜的凹陷区域进行补偿，然后在所述平面层的表面形成微透镜(Micro-Lens)以对入射光线进行聚焦，导致...
【技术保护点】
1.一种图像传感器的形成方法，其特征在于，包括：提供半导体衬底，所述半导体衬底内具有像素器件；在所述半导体衬底的表面形成格栅结构，所述格栅结构具有多个网格开口；采用疏水材料形成疏水薄膜，所述疏水薄膜覆盖所述格栅结构的顶部表面和所述网格开口的侧壁和底部表面；在所述网格开口内形成滤色镜。
【技术特征摘要】
1.一种图像传感器的形成方法，其特征在于，包括：提供半导体衬底，所述半导体衬底内具有像素器件；在所述半导体衬底的表面形成格栅结构，所述格栅结构具有多个网格开口；采用疏水材料形成疏水薄膜，所述疏水薄膜覆盖所述格栅结构的顶部表面和所述网格开口的侧壁和底部表面；在所述网格开口内形成滤色镜。2.根据权利要求1所述的图像传感器的形成方法，其特征在于，所述滤色镜的顶部表面向远离所述半导体衬底的方向凸起。3.根据权利要求1所述的图像传感器的形成方法，其特征在于，所述滤色镜的顶部表面高于所述格栅结构的顶部表面。4.根据权利要求1所述的图像传感器的形成方法，其特征在于，所述采用疏水材料形成疏水薄膜包括：采用溶剂-非溶剂成膜工艺或溶胶-凝胶法工艺，形成所述疏水薄膜。5.根据权利要求1所述的图像传感器的形成方法，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：林永璨，黄晓橹，
申请(专利权)人：德淮半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32
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