一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的工艺制造技术

本发明专利技术涉及塑料镀膜技术领域，其公开了一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的工艺，包括如下工艺步骤：(1)塑料件的预处理；(2)塑料件的磁控溅射镀膜；(3)塑料件的后处理；其中，所述塑料件的预处理、塑料件的磁控溅射镀膜、塑料件的后处理均安排在同一磁控溅射真空镀膜机上进行；其中，所述磁控溅射真空镀膜机包括真空腔体，所述真空腔体中分别设置有用于对塑料件进行预热的加热装置、用于对塑料件表面进行真空等离子清洗或表面改性处理的中频离子源模块、用于对塑料件进行磁控溅射镀膜的孪生旋转磁控靶、用于进行蒸镀的蒸镀模块。本发明专利技术克服了现有塑料件表面喷涂工艺的弊端，增强了塑料件镀膜后其膜层的附着力，提高了镀膜质量。

【技术实现步骤摘要】
一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的工艺
本专利技术涉及塑料镀膜
，具体涉及一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的工艺。
技术介绍
传统的塑料件表面喷涂工艺，大部分都会直接涉及到环保问题，另外塑料成型后的表面水气以及由于静电吸附的灰尘问题都会直接影响到膜层的质量。因此，有必要开发出一种新的塑料件镀层工艺来解决上述问题。而离子注入技术是一大研究方向，典型的如低温磁控溅射镀膜技术(其利用磁场与电场交互作用来控制电子的定向运动，并使得电子撞击氩气产生离子，再由氩离子轰击靶材，使得靶材表面发生溅射，溅射粒子射向零件表面形成膜层)，其技术关键是要确保塑料件镀膜后其膜层的质量和附着力。
技术实现思路
为了解决上述问题，本专利技术提出一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的工艺，旨在克服现有塑料件表面喷涂工艺的弊端，增强塑料件镀膜后其膜层的附着力，提高镀膜质量。具体的技术方案如下：一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的工艺，包括如下工艺步骤：(1)塑料件的预处理：对塑料件进行预热、然后进行等离子清洗；(2)塑料件的磁控溅射镀膜：采用磁控溅射方法对塑料件的表面进行镀膜；(3)塑料件的后处理：采用蒸镀方法对镀膜表面进行蒸镀本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的工艺，其特征在于，包括如下工艺步骤：(1)塑料件的预处理：对塑料件进行预热、然后进行等离子清洗；(2)塑料件的磁控溅射镀膜：采用磁控溅射方法对塑料件的表面进行镀膜；(3)塑料件的后处理：采用蒸镀方法对镀膜表面进行蒸镀处理，或者采用离子源对镀膜表面进行表面改性处理，以使得塑料件的表面最终形成一层防指纹膜；其中，所述塑料件的预处理、塑料件的磁控溅射镀膜、塑料件的后处理均安排在同一磁控溅射真空镀膜机上进行；其中，所述磁控溅射真空镀膜机包括真空腔体，所述真空腔体中分别设置有用于对塑料件进行预热的加热装置、用于对塑料件表面进行真空等离子清洗或表面改性处理的中频离子源模...

【技术特征摘要】
1.一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的工艺，其特征在于，包括如下工艺步骤：(1)塑料件的预处理：对塑料件进行预热、然后进行等离子清洗；(2)塑料件的磁控溅射镀膜：采用磁控溅射方法对塑料件的表面进行镀膜；(3)塑料件的后处理：采用蒸镀方法对镀膜表面进行蒸镀处理，或者采用离子源对镀膜表面进行表面改性处理，以使得塑料件的表面最终形成一层防指纹膜；其中，所述塑料件的预处理、塑料件的磁控溅射镀膜、塑料件的后处理均安排在同一磁控溅射真空镀膜机上进行；其中，所述磁控溅射真空镀膜机包括真空腔体，所述真空腔体中分别设置有用于对塑料件进行预热的加热装置、用于对塑料件表面进行真空等离子清洗或表面改性处理的中频离子源模块、用于对塑料件进行磁控溅射镀膜的孪生旋转磁控靶、用于进行蒸镀的蒸镀模块。2.根据权利要求1所述的一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的工艺，其特征在于，所述蒸镀模块为AF蒸发源模块。3.根据权利要求1所述的一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的工艺，其特征在于，所述塑料件的预处理工序中，采用加热装置对塑料件进行预热，然后采用中频离子源模块对塑料件的表面进行等离子清洗；所述塑料件的后处理工序中，采用蒸镀模块对磁控溅射镀膜后的塑料件进行镀膜处理，或者采用中频离子源模块对磁控溅射镀膜后的塑料件进行表面改性处理。4.根据权利要求1所述的一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的工艺，其特征在于，所述真空腔体为具有筒体结构的真空腔体，所述真空腔体的筒体两端设置有封闭门，在所述真空腔体内且平行于所述筒体轴线的方向安装有所述的孪生旋转磁控靶，所述的孪生旋转磁控靶的数量有四组且沿所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：瞿建强，瞿一涛，黄仕强，陆彬锋，
申请(专利权)人：江阴市光科光电精密设备有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32