一种炉室小型化的悬浮区熔单晶炉制造技术

技术编号:20238447 阅读:37 留言:0更新日期:2019-01-29 22:01
本实用新型专利技术属于悬浮区熔单晶炉技术领域,具体涉及一种炉室小型化的悬浮区熔单晶炉。针对现有用于生产较长单晶棒的悬浮区熔单晶炉由于炉室过大,导致生产成本较高、占用空间较大的问题。本实用新型专利技术的技术方案是:包括炉室,炉室顶部设置有上轴,上轴的末端设置有夹具,炉室底部设置有下轴,炉室中还设置有挂架,挂架一端连接有用于将挂架输送至上轴下方的伸缩轴,伸缩轴通过能够横向滑动的滑动机构与炉室的内壁连接。本实用新型专利技术适用于长棒状单晶的生长工艺。

A Miniaturized Suspension Zone Melting Single Crystal Furnace

The utility model belongs to the technical field of the suspension zone melting single crystal furnace, in particular to a miniaturized suspension zone melting single crystal furnace with a furnace chamber. The existing suspension zone melting single crystal furnace used to produce longer single crystal rods has the problems of high production cost and large space occupation due to the large furnace chamber. The technical scheme of the utility model includes a furnace chamber, an upper shaft is arranged on the top of the furnace chamber, a clamp is arranged at the end of the upper shaft, a lower shaft is arranged at the bottom of the furnace chamber, and a hanger is also arranged in the furnace chamber. One end of the hanger is connected with a telescopic shaft for conveying the hanger to the lower part of the upper shaft, and the telescopic shaft is connected with the inner wall of the furnace through a sliding mechanism capable of transverse sliding. The utility model is suitable for the growth process of long rod single crystal.

【技术实现步骤摘要】
一种炉室小型化的悬浮区熔单晶炉
本技术属于悬浮区熔单晶炉
,具体涉及一种炉室小型化的悬浮区熔单晶炉。
技术介绍
悬浮区熔单晶炉用于悬浮区熔提纯与悬浮单晶生长的装置。主要用于区熔硅的提纯和单晶生长,已用于工业生产半导体材料。悬浮区熔单晶炉结构由两部分组成,即炉室和机械传动部分以及电气控制柜和高频发生器部分。炉室为一不锈钢水套式直立容器,可抽高真空或通入流动氩气。从炉室顶底端各插入上轴和下轴,上轴下端夹持一根多晶硅棒,下轴顶端夹持一籽晶。炉室中央装设一单匝高频加热线圈。上下轴可分别旋转和升降。电气控制柜上装有指示仪表、调速旋钮、按钮开关。柜内装有电机控制系统等。这种单晶炉的缺点是对于较长的单晶棒的生产,必须使用相同长度的原料晶体棒,这导致设置原料晶体棒的炉室也比较高,且体积也比较大。这一方面导致了抽真空的难度或增加了惰性气体的使用量,使得工艺成本较高;另一方面使得悬浮区熔单晶炉整体较高、体积较大,占用过多的空间。
技术实现思路
针对上述现有用于生产较长单晶棒的悬浮区熔单晶炉由于炉室过大,导致生产成本较高、占用空间较大的问题。本技术提供一种炉室小型化的悬浮区熔单晶炉,其目的在于:通过分段提供原料晶体棒的方式,降低炉室的高度,从而有效降低悬浮区熔单晶炉整体的体积,从而降低生产成本和占用的空间。本技术采用的技术方案如下:一种炉室小型化的悬浮区熔单晶炉,包括炉室,炉室顶部设置有上轴,上轴的末端设置有夹具,炉室底部设置有下轴,炉室中还设置有挂架,挂架一端连接有用于将挂架输送至上轴下方的伸缩轴,伸缩轴通过能够横向滑动的滑动机构与炉室的内壁连接。采用该技术方案后,需要熔融的原料晶体棒可截断成较短长度的多根短棒,并将短棒密集挂在挂架上。进行单晶棒的生长时,先将挂架输送至上轴的下方,由位于上轴底部的夹具从挂架上夹取一根原料晶体棒,然后将挂架移开,进行单晶棒的生长。上轴夹取的原料晶体棒消耗完后,将挂架再次输送到上轴下方,先将上轴上剩余的无法再继续熔融的原料晶体棒残余部放回挂架,然后微调挂架的位置,用上轴底部的夹具夹取另一根原料晶体棒,移开挂架后在上一次生长的基础上继续进行单晶棒的生长。上述过程一直重复,直到所有的原料晶体棒熔融生长成一根单晶棒。由于将原料晶体棒截成了多根短棒,因而容纳原料晶体棒的炉室的高度可以设计得更低,从而达到了减小炉室的体积和使得悬浮区熔单晶炉小型化的目的。更小的炉室体积可以使得抽真空和填充惰性气体更加容易,从而降低了工艺的成本。悬浮区熔单晶炉小型化则有利于减小设备的占用空间。优选的,夹具和伸缩轴连接有控制系统。控制系统用于从炉室外部控制夹具和伸缩轴的运行,实现夹取原料单晶棒的操作。优选的,挂架上设置有多个等距排列的限位条,所述限位条向上弯曲。挂架悬挂原料晶体棒的方式可以有多种选择。该优选方案结构简单,为较优的选择。该优选方案的实施方法是,使得每一根原料晶体棒的直径略大于两根相邻限位条之间的距离,然后在原料晶体棒的顶端附近刻出凹槽,使得凹槽与两根相邻限位条匹配,这样可以通过凹槽与限位条的配合悬挂原料晶体棒。限位条向上弯曲的目的是阻挡原料晶体棒,避免原料晶体棒在晃动的作用下掉落。优选的,下轴的顶部依次设置有角度调节台Ⅰ和角度调节台Ⅱ,角度调节台Ⅱ上部设置有籽晶夹具。角度调节台Ⅰ和角度调节台Ⅱ能够分别向两个不同的方向旋转,从而实现旋转籽晶夹具上固定的籽晶,调整籽晶朝向正上方的方向。籽晶朝向正上方的方向决定了单晶棒轴向的晶体取向,因而该优选方案可以用于生产不同取向的单晶棒。进一步优选的,角度调节台Ⅰ和角度调节台Ⅱ的角度调节轴的方向互相垂直。该优选方案中,角度调节台Ⅰ和角度调节台Ⅱ的转动方向相互垂直,方便通过晶体学的方法计算对于目标取向的单晶棒需要将籽晶转动多少角度。优选的,炉室底部设置有保温室,下轴设置在保温室中,保温室的侧壁设置有夹持装置。保温室用于减慢单晶棒的冷却速度,防止快速降温导致的单晶棒开裂。而对于长度较长的单晶棒,设置夹持装置固定单晶棒,避免在上轴更换夹取原料晶体棒的过程中单晶棒倾倒。综上所述,由于采用了上述技术方案,本技术的有益效果是:1.由于采用挂架悬挂原料晶体棒,将原料晶体棒截成了多根短棒,因而容纳原料晶体棒的炉室的高度可以设计得更低,从而达到了减小炉室的体积和使得悬浮区熔单晶炉小型化的目的。更小的炉室体积可以使得抽真空和填充惰性气体更加容易,从而降低了工艺的成本。悬浮区熔单晶炉小型化则有利于减小设备的占用空间。2.通过两组传动机构,使得伸缩轴可以带动挂架在水平面内移动,并能够保证将挂架上的每一根原料晶体棒输送到上轴的正下方从而方便上轴夹取。3.使得每一根原料晶体棒的直径略大于两根相邻限位条之间的距离,然后在原料晶体棒的顶端附近刻出凹槽,使得凹槽与两根相邻限位条匹配,这样可以通过凹槽与限位条的配合悬挂原料晶体棒。限位条向上弯曲的目的是阻挡原料晶体棒,避免原料晶体棒在晃动的作用下掉落。该挂架的结构简单,方便操作。4.角度调节台Ⅰ和角度调节台Ⅱ能够分别向两个不同的方向旋转,从而实现旋转籽晶夹具上固定的籽晶,调整籽晶朝向正上方的方向。籽晶朝向正上方的方向决定了单晶棒轴向的晶体取向,因而设置角度调节台Ⅰ和角度调节台Ⅱ能够用于生产不同取向的单晶棒。5.角度调节台Ⅰ和角度调节台Ⅱ的转动方向相互垂直,方便通过晶体学的方法计算对于目标取向的单晶棒需要将籽晶转动多少角度。6.角度调节台Ⅰ和角度调节台Ⅱ的转动方向相互垂直,方便通过晶体学的方法计算对于目标取向的单晶棒需要将籽晶转动多少角度。7.保温室用于减慢单晶棒的冷却速度,防止快速降温导致的单晶棒开裂。而对于长度较长的单晶棒,设置夹持装置固定单晶棒,避免在上轴更换夹取原料晶体棒的过程中单晶棒倾倒。附图说明本技术将通过例子并参照附图的方式说明,其中:图1是本技术进行单晶棒生长时的结构示意图;图2是本技术中的上轴夹取单晶棒时的结构示意图;图3是本技术实施例2中挂架的俯视图;图4是本技术实施例2中挂架的侧视图。其中:1-炉室,2-上轴,3-原料晶体棒,4-晶体熔融区,5-加热线圈,6-单晶棒,7-籽晶,8-籽晶夹具,9-角度调节台Ⅱ,10-角度调节台Ⅰ,11-下轴,12-保温室,13-挂架,14-限位条,15-伸缩轴,16-夹持装置。具体实施方式本说明书中公开的所有特征,或公开的所有方法或过程中的步骤,除了互相排斥的特征和/或步骤以外,均可以以任何方式组合。下面结合图1至图4对本技术作详细说明。实施例1一种炉室小型化的悬浮区熔单晶炉,包括炉室1,炉室1顶部设置有上轴2,上轴2的末端设置有夹具,炉室1底部设置有下轴11,炉室1中还设置有挂架13,挂架13一端连接有用于将挂架13输送至上轴2下方的伸缩轴15,伸缩轴15通过能够横向滑动的滑动机构与炉室1的内壁连接。通过伸缩轴15的伸缩和滑动机构的滑动,使得挂架13可以在水平面内移动,从而保证能够将挂架13上的每一根原料晶体棒3输送到上轴2的正下方从而方便夹取。炉室1底部设置有保温室12,下轴11设置在保温室12中,保温室12的侧壁设置有夹持装置16。夹具和伸缩轴15连接有控制系统。控制系统用于从炉室1外部控制夹具和伸缩轴15的运行,实现夹取原料单晶棒3的操作。该悬本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种炉室小型化的悬浮区熔单晶炉,包括炉室(1),炉室(1)顶部设置有上轴(2),上轴(2)的末端设置有夹具,炉室(1)底部设置有下轴(11),其特征在于:炉室(1)中还设置有挂架(13),挂架(13)一端连接有用于将挂架(13)输送至上轴(2)下方的伸缩轴(15),伸缩轴(15)通过能够横向滑动的滑动机构与炉室(1)的内壁连接。

【技术特征摘要】
1.一种炉室小型化的悬浮区熔单晶炉,包括炉室(1),炉室(1)顶部设置有上轴(2),上轴(2)的末端设置有夹具,炉室(1)底部设置有下轴(11),其特征在于:炉室(1)中还设置有挂架(13),挂架(13)一端连接有用于将挂架(13)输送至上轴(2)下方的伸缩轴(15),伸缩轴(15)通过能够横向滑动的滑动机构与炉室(1)的内壁连接。2.按照权利要求1所述的一种炉室小型化的悬浮区熔单晶炉,其特征在于:所述夹具和伸缩轴(15)连接有控制系统。3.按照权利要求1所述的一种炉室小型化的悬浮区熔单晶炉,其特征在于:所述挂架(13)上设置有多个等距排列的限...

【专利技术属性】
技术研发人员:李小刚
申请(专利权)人:峨眉山市元素新材料科技有限公司
类型:新型
国别省市:四川,51

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