电磁屏蔽膜和线路板制造技术

本实用新型专利技术涉及电子技术领域，公开了一种电磁屏蔽膜和线路板，其中，电磁屏蔽膜包括屏蔽层和胶膜层，通过胶膜层设于屏蔽层上，屏蔽层靠近胶膜层的一面为非平整表面，并且在屏蔽层上设置贯穿其上下表面的通孔，有利于在高温时胶膜层中挥发物通过通孔排气，以避免在高温时胶膜层中挥发物难以排出，从而避免了电磁屏蔽膜起泡分层造成电磁屏蔽膜与线路板的地层之间剥离，进而确保了电磁屏蔽膜接地并将干扰电荷导出；此外，通过屏蔽层的非平整表面在电磁屏蔽膜与线路板压合时刺穿胶膜层并与线路板的地层连接，同时胶类物质被挤压到非平整表面的凹陷位置，以增大容胶量，从而不容易出现爆板现象，确保了屏蔽层与线路板的地层连接。

【技术实现步骤摘要】
电磁屏蔽膜和线路板
本技术涉及电子
，特别是涉及一种电磁屏蔽膜和线路板。
技术介绍
随着电子工业的迅速发展，电子产品进一步向小型化，轻量化，组装高密度化发展，极大地推动挠性电路板的发展，从而实现元件装置和导线连接一体化。挠性电路板可广泛应用于手机、液晶显示、通信和航天等行业。在国际市场的推动下，功能挠性电路板在挠性电路板市场中占主导地位，而评价功能挠性电路板性能的一项重要指标是电磁屏蔽(ElectromagneticInterferenceShielding，简称EMIShielding)。随着手机等通讯设备功能的整合，其内部组件急剧高频高速化。例如：手机功能除了原有的音频传播功能外，照相功能已成为必要功能，且WLAN(WirelessLocalAreaNetworks，无线局域网)、GPS(GlobalPositioningSystem，全球定位系统)以及上网功能已普及，再加上未来的感测组件的整合，组件急剧高频高速化的趋势更加不可避免。在高频及高速化的驱动下所引发的组件内部及外部的电磁干扰、信号在传输中衰减以及插入损耗和抖动问题逐渐严重。目前，现有线路板常用的电磁屏蔽膜包括屏蔽层和导电胶层，屏蔽层通过导电胶层与线路板的地层接触导通。但是，在实施本技术过程中，技术人发现现有技术中至少存在如下问题：在高温条件下导电胶层中有挥发物，但是屏蔽层比较致密，挥发物难以排出，进而导致屏蔽膜起泡分层造成电磁屏蔽膜与线路板的地层之间剥离，进而导致接地失效，无法将干扰电荷导出。
技术实现思路
本技术实施例的目的是提供一种电磁屏蔽膜和线路板，其能够有效地避免现有的电磁屏蔽膜中的导电胶层在高温时挥发物无法通过致密屏蔽层排出，从而能够避免电磁屏蔽膜起泡分层造成电磁屏蔽膜与线路板的地层之间剥离，以确保电磁屏蔽膜接地，进而将干扰电荷导出。为了解决上述技术问题，本技术提供一种电磁屏蔽膜，包括屏蔽层和胶膜层，所述胶膜层设于所述屏蔽层上；所述屏蔽层靠近所述胶膜层的一面为非平整表面，所述屏蔽层上设有贯穿其上下表面的通孔。作为优选方案，所述屏蔽层靠近所述胶膜层的一面包括多个凸部和多个凹陷部，多个所述凸部和多个所述凹陷部间隔设置。作为优选方案，所述屏蔽层靠近所述胶膜层的一面上设有凸状的导体颗粒。作为优选方案，所述导体颗粒的高度为0.1μm-30μm。作为优选方案，所述屏蔽层的厚度为0.1μm-45μm，所述胶膜层的厚度为1μm-80μm。作为优选方案，所述胶膜层包括含有导电粒子的黏着层；或，所述胶膜层包括不含导电粒子的黏着层。作为优选方案，所述电磁屏蔽膜还包括保护膜层，所述保护膜层设于所述屏蔽层远离所述胶膜层的一面上。作为优选方案，所述通孔的面积为0.1μm2-1mm2。作为优选方案，每平方厘米所述屏蔽层中的所述通孔的个数为10-1000个。为了解决相同的技术问题，本技术实施例还提供一种线路板，包括线路板本体以及所述的电磁屏蔽膜，所述电磁屏蔽膜通过所述胶膜层与所述线路板本体相压合，所述屏蔽层刺穿所述胶膜层并与所述线路板本体的地层电连接。本技术实施例提供一种电磁屏蔽膜和线路板，其中，电磁屏蔽膜包括屏蔽层和胶膜层，通过胶膜层设于屏蔽层上，屏蔽层靠近胶膜层的一面为非平整表面，并且在屏蔽层上设置贯穿其上下表面的通孔，有利于在高温时胶膜层中挥发物通过屏蔽层的通孔进行排气，以避免在高温时胶膜层中挥发物难以排出，从而避免了电磁屏蔽膜起泡分层造成电磁屏蔽膜与线路板的地层之间剥离，进而确保了电磁屏蔽膜接地并将干扰电荷导出；此外，通过屏蔽层的非平整表面在电磁屏蔽膜与线路板压合时刺穿胶膜层并与线路板的地层连接，从而确保了屏蔽层与线路板的地层连接，进而进一步确保了电磁屏蔽膜接地，从而将干扰电荷导出；此外，由于屏蔽层靠近胶膜层的一面为非平整表面，因此在电磁屏蔽膜与线路板压合时，构成胶膜层的胶类物质被挤压到该非平整表面的凹陷位置中，以增大容胶量，从而不容易出现爆板现象，避免了现有的电磁屏蔽膜由于容胶量不足导致高温爆板的问题，进而有效地保证了电磁屏蔽膜接地，从而将干扰电荷导出。附图说明图1是本技术实施例中的电磁屏蔽膜的结构示意图；图2是本技术实施例中的电磁屏蔽膜的另一个角度的结构示意图；图3是本技术实施例中的电磁屏蔽膜的另一实施方式的结构示意图；图4是本技术实施例中的线路板的结构示意图；图5是本技术实施例中的电磁屏蔽膜的制备方法的流程示意图；其中，1、屏蔽层；11、通孔；12、凸部；13、凹陷部；2、胶膜层；3、导体颗粒；4、保护膜层；6、线路板本体。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。结合图1至图4所示，本技术优选实施例的一种电磁屏蔽膜，包括屏蔽层1和胶膜层2，所述胶膜层2设于所述屏蔽层1上；所述屏蔽层1靠近所述胶膜层2的一面为非平整表面，所述屏蔽层1上设有贯穿其上下表面的通孔11。在本技术实施例中，通过胶膜层2设于屏蔽层1上，屏蔽层1靠近胶膜层2的一面为非平整表面，并且在屏蔽层1上设置贯穿其上下表面的通孔11，有利于在高温时胶膜层2中挥发物通过屏蔽层1的通孔11进行排气，以避免在高温时胶膜层2中挥发物难以排出，从而避免了电磁屏蔽膜起泡分层造成电磁屏蔽膜与线路板的地层之间剥离，进而确保了电磁屏蔽膜接地并将干扰电荷导出；此外，通过屏蔽层1的非平整表面在电磁屏蔽膜与线路板压合时刺穿胶膜层2并与线路板的地层连接，从而确保了屏蔽层1与线路板的地层连接，进而进一步确保了电磁屏蔽膜接地，从而将干扰电荷导出；此外，由于屏蔽层1靠近胶膜层2的一面为非平整表面，因此在电磁屏蔽膜与线路板压合时，构成胶膜层2的胶类物质被挤压到该非平整表面的凹陷位置中，以增大容胶量，从而不容易出现爆板现象，避免了现有的电磁屏蔽膜由于容胶量不足导致高温爆板的问题，进而有效地保证了电磁屏蔽膜接地，从而将干扰电荷导出。在本技术实施例中，所述屏蔽层1的非平整表面为规则的非平整表面或不规则的非平整表面。具体地，当所述屏蔽层1的非平整表面为规则的非平整表面时，所述非平整表面为周期性起伏变化的结构，所述非平整表面上起伏的幅度以及起伏的间隔相同；当所述屏蔽层1的非平整表面为不规则的非平整表面时，所述非平整表面为非周期性起伏变化的结构，所述非平整表面上起伏的幅度和/或起伏的间隔不同。结合图1至图4所示，为了使得所述屏蔽层1在压合过程中更容易刺穿所述胶膜层2，本实施例中的所述屏蔽层1靠近所述胶膜层2的一面包括多个凸部12和多个凹陷部13，多个所述凸部12和多个所述凹陷部13间隔设置。通过在所述屏蔽层1靠近所述胶膜层2的一面设置多个凸部12和多个凹陷部13，并且多个所述凸部12和多个所述凹陷部13间隔设置，以使得所述屏蔽层1在压合过程中更容易刺穿所述胶膜层2，从而确保了所述屏蔽层1与线路板的地层之间连接的可靠性；此外，在电磁屏蔽膜与线路板压合时，构成胶膜层2的胶类物质被挤压到所述凹陷部13中，以增大本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电磁屏蔽膜，其特征在于，包括屏蔽层和胶膜层，所述胶膜层设于所述屏蔽层上；所述屏蔽层靠近所述胶膜层的一面为非平整表面，所述屏蔽层上设有贯穿其上下表面的通孔。

【技术特征摘要】
1.一种电磁屏蔽膜，其特征在于，包括屏蔽层和胶膜层，所述胶膜层设于所述屏蔽层上；所述屏蔽层靠近所述胶膜层的一面为非平整表面，所述屏蔽层上设有贯穿其上下表面的通孔。2.如权利要求1所述的电磁屏蔽膜，其特征在于，所述屏蔽层靠近所述胶膜层的一面包括多个凸部和多个凹陷部，多个所述凸部和多个所述凹陷部间隔设置。3.如权利要求1所述的电磁屏蔽膜，其特征在于，所述屏蔽层靠近所述胶膜层的一面上设有凸状的导体颗粒。4.如权利要求3所述的电磁屏蔽膜，其特征在于，所述导体颗粒的高度为0.1μm-30μm。5.如权利要求1-4任一项所述的电磁屏蔽膜，其特征在于，所述屏蔽层的厚度为0.1μm-45μm，所述胶膜层的厚度为1μm-80μm。6.如权利要求1-4任一项...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏陟，
申请(专利权)人：广州方邦电子股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44