一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置制造方法及图纸

技术编号:20101856 阅读:39 留言:0更新日期:2019-01-16 06:11
本实用新型专利技术公开了一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置,包括机架、控制单元,模板,在模板外侧固定有模板托架,在模板底部设有纳米结构;下压机构,设于模板上方并与机架滑动连接;承压机构,设于模板下方,承压机构上设有基板,基板上涂抹有压印胶;固胶单元;压力检测单元,安装于下压机构上;位移检测单元,固定于模板上;多个升降机构及微调机构,微调机构设于升降机构顶端与升降机构连接,微调机构设于承压机构底端并与承压机构固定,升降机构可同时升降或单独升降;下压机构、固胶单元、压力检测单元、位移检测单元、升降机构以及微调机构均与控制单元电连接。本实用新型专利技术可以实现多层图像对准套刻压印且效率高。

A Uniform Embossing Device for Multilayer Images on Nanomaterials

The utility model discloses a uniform embossing device applied to multi-layer images on nanomaterials, including a frame, a control unit, a template, a template bracket fixed on the outside of the template, a nanostructure at the bottom of the template, a downpressing mechanism arranged above the template and sliding connected with the frame, a pressure mechanism arranged under the template, a substrate on the pressure mechanism, and a coating on the substrate. Press printing glue; fixing glue unit; pressure detection unit, installed on the downward pressure mechanism; displacement detection unit, fixed on the template; multiple lifting mechanism and fine-tuning mechanism, fine-tuning mechanism is located at the top of the lifting mechanism and connected with the lifting mechanism, fine-tuning mechanism is located at the bottom of the pressure-bearing mechanism and fixed with the pressure-bearing mechanism, lifting mechanism can rise and fall simultaneously or separately; The pressure detection unit, displacement detection unit, lifting mechanism and fine-tuning mechanism are all electrically connected with the control unit. The utility model can realize multi-layer image alignment sleeve lithography and high efficiency.

【技术实现步骤摘要】
一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置
本技术涉及纳米压印
,尤其涉及一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置。
技术介绍
纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。是通过光刻胶辅助,将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术。该技术通过机械转移的手段,达到了超高的分辨率,有望在未来取代传统光刻技术,成为微电子、材料领域的重要加工手段。目前的纳米压印设备仅能实现单一图层的均匀压印功能,对于多层图像需要对准套刻压印的工艺,无法实现其功能。
技术实现思路
为解决上述存在的问题,本技术提供一种可以实现多层图像对准套刻压印且效率高的应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置。本技术解决上述技术问题采用的技术方案为:一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置,包括机架、控制单元,模板,模板为透明质模板,在模板外侧固定有模板托架,模板托架与机架固定,在模板底部设有纳米结构;下压机构,设于模板上方并与机架滑动连接,用于压紧模板;承压机构,设于模板下方,承压机构上设有基板,基板上涂抹有压印胶,基板与模板配合完成压印;固胶单元,对压印胶进行固化,将纳米结构固定在基板上;压力检测单元,安装于下压机构上,本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置,其特征在于:包括机架、控制单元,模板,模板为透明质模板,在模板外侧固定有模板托架,模板托架与机架固定,在模板底部设有纳米结构;下压机构,设于模板上方并与机架滑动连接,用于压紧模板;承压机构,设于模板下方,承压机构上设有基板,基板上涂抹有压印胶,基板与模板配合完成压印;固胶单元,对压印胶进行固化,将纳米结构固定在基板上;压力检测单元,安装于下压机构上,用于检测下压机构与模板之间压力状态并将压力信息反馈给控制单元;位移检测单元,固定于模板托架上,用于检测模板与承压机构之间位移状态并将位移量反馈给控制单元;多个升降机构及微调机构,微调机构设于升降机构顶...

【技术特征摘要】
1.一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置,其特征在于:包括机架、控制单元,模板,模板为透明质模板,在模板外侧固定有模板托架,模板托架与机架固定,在模板底部设有纳米结构;下压机构,设于模板上方并与机架滑动连接,用于压紧模板;承压机构,设于模板下方,承压机构上设有基板,基板上涂抹有压印胶,基板与模板配合完成压印;固胶单元,对压印胶进行固化,将纳米结构固定在基板上;压力检测单元,安装于下压机构上,用于检测下压机构与模板之间压力状态并将压力信息反馈给控制单元;位移检测单元,固定于模板托架上,用于检测模板与承压机构之间位移状态并将位移量反馈给控制单元;多个升降机构及微调机构,微调机构设于升降机构顶端与升降机构连接,微调机构设于承压机构底端并与承压机构固定,升降机构可同时升降或单独升降;下压机构、固胶单元、压力检测单元、位移检测单元、升降机构以及微调机构均与控制单元电连接。2.根据权利要求1所述的一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置,其特征在于:所述下压机构包括与机架滑动连接的托台,所述托台中间固定有透明的加压板,还包括与托台连接的、可驱动托台上下移动的直驱式伺服电机缸。3.根据权利要求2所述的一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置,其特征在于:固胶单元设于加压板上,固胶单元...

【专利技术属性】
技术研发人员:冀然
申请(专利权)人:青岛天仁微纳科技有限责任公司
类型:新型
国别省市:山东,37

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