多气隙阻性井型探测器、放大单元、基材及制备方法技术

技术编号:19868783 阅读:50 留言:0更新日期:2018-12-22 14:39
本公开提供一种多气隙阻性井型探测器、放大单元、基材及制备方法,该多气隙阻性井型探测器放大单元由下至上依次包括:底部DLC层、底部Apical层、Prepreg层、中部DLC层、顶部Apical层以及顶部DLC层;其中,该放大单元的上表面上形成有多个起始于顶部DLC层的上表面,终止于中部DLC层的上表面的井型孔。本公开提供的多气隙阻性井型探测器、放大单元、基材及制备方法中的多气隙阻性井型探测器放大单元是一个整体,不再需要依靠工作时电极产生的静电力来把单元上下两部分吸在一起,因此,在探测器打火放电,工作电压改变时,放大单元也不会因为静电力的改变而造成井型结构的变化,因此能极大的提高探测器的稳定性。

【技术实现步骤摘要】
多气隙阻性井型探测器、放大单元、基材及制备方法
本公开涉及微结构气体探测器
,尤其涉及一种多气隙阻性井型探测器、放大单元、基材及制备方法。
技术介绍
在当前的大型核与粒子物理实验中,粒子的飞行时间(Time-of-Flight,TOF)与位置是非常重要的物理参数。飞行时间测量是进行末态带电粒子鉴别的非常重要而常用的手段。对撞产生的高能末态粒子,高速飞过有限的距离,要求飞行时间探测器具有非常好的时间分辨能力,才能区分不同粒子之间速度上的差异,与动量测量相结合,从而实现粒子鉴别。精确的时间测量通常还是实验中的触发所需要的,同时还能用来有效压制本底计数。位置测量则是对粒子的径迹与对撞点进行重建的必要手段,在高能物理实验中不可或缺。同时具有好的时间分辨与位置分辨的探测器在很多实验中都有很强的需求。另一方面,随着对撞机的能量和亮度不断提高,对探测器的计数率能力提出了很高的要求(>10kHz/mm2),此外,随着实验规模的不断变大,还希望探测器具有较大的有效面积(~m2)以及较低的造价。因此,具有高计数率,高位置分辨,高时间分辨,可大面积制造的气体探测器是当前物理实验中一个非常迫切的需求。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种多气隙阻性井型探测器放大单元,其由下至上依次包括:底部DLC层;底部Apical层,所述底部DLC层镀在其下表面;Prepreg层,粘接在所述底部Apical层上;中部DLC层,粘接在所述Prepreg层上;顶部Apical层,所述中部DLC层镀在其下表面;以及顶部DLC层,镀接在所述顶部Apical层上;其中,该放大单元的上表面上形成有多个起始于所述顶部DLC层的上表面,终止于所述中部DLC层的上表面的井型孔。

【技术特征摘要】
1.一种多气隙阻性井型探测器放大单元,其由下至上依次包括:底部DLC层;底部Apical层,所述底部DLC层镀在其下表面;Prepreg层,粘接在所述底部Apical层上;中部DLC层,粘接在所述Prepreg层上;顶部Apical层,所述中部DLC层镀在其下表面;以及顶部DLC层,镀接在所述顶部Apical层上;其中,该放大单元的上表面上形成有多个起始于所述顶部DLC层的上表面,终止于所述中部DLC层的上表面的井型孔。2.根据权利要求1所述的多气隙阻性井型探测器放大单元,其中:所述底部Apical层和所述顶部Apical层的厚度均介于45μm至55μm之间;所述底部DLC层、所述中部DLC层和所述顶部DLC层的厚度均介于90nm至110nm之间。3.一种多气隙阻性井型探测器放大单元的基材,用于制备如权利要求1或权利要求2所述的多气隙阻性井型探测器放大单元,其由下至上依次包括:第一基材,其由下至上依次包括:铜层;DLC层,所述铜层镀接于其下表面;以及Apical层,所述DLC层镀接于其下表面;以及第二基材,其由下至上依次包括:底部铜层,其上用于设置接地或者接高压的线路和连接点;底部DLC层,所述底部铜层镀接在其下表面,该底部DLC层通过Prepreg层粘接在所述第一基材的所述Apical层的上表面上;Apical层,所述底部DLC层镀接在其下表面;顶部DLC层,镀接在所述Apical层上;以及顶部铜层,镀接于所述顶部DLC层上。4.根据权利要求3所述的多气隙阻性井型探测器放大单元的基材,其中:所述第一基材和所述第二基材中的所述Apical层的厚度均介于45μm至55μm之间;所述第一基材的所述DLC层以及所述第二基材中的所述底部DLC层和所述顶部DLC层的厚度均介于90nm至110nm之间;所述第一基材的所述铜层以及所述第二基材的所述顶部铜层的厚度均介于4μm至...

【专利技术属性】
技术研发人员:周意吕游尚伦霖张广安鲁志斌刘建北张志永王旭
申请(专利权)人:中国科学技术大学
类型:发明
国别省市:安徽,34

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