【技术实现步骤摘要】
一种可实现非对称传输的纳米结构及其制备方法
本专利技术属于微纳光学
，具体涉及一种可实现非对称传输的纳米结构及其制备方法。
技术介绍
非对称传输(AsymmetricTransmission,AT)指，具有不同偏振态的电磁波入射结构后表现出不同传输性能的效应，其中，传输性能主要研究的为透射、吸收、反射等。在生物分子领域，手性分子一般都比较弱，而人造微纳金属结构可大大提高其手性，AT值作为手性分子的探测信号就显得尤为重要，所以我们在设计这种非对称传输的结构时，需要达到大的非对称传输效率，即大的AT值和尽可能多的AT信号。因此，对不同类型非对称传输器件的设计与实现的研究，具有很重要的现实意义。通过竖直入射不同偏振态的圆偏振光，通过透射传输性能进一步的反映非对称传输效应，公式表示：其中，下角标“+”(“-”)代表右(左)旋；下角标“-+”(“+-”)代表右(左)旋圆偏振光入射结构，右(左)旋圆偏振光出射结构。这种特殊的光学性能具有很深的应用潜能，在集成光路、通讯、现代军事等领域中有很广泛的应用。在光学领域，非对称传输的光学特性也被深入地研究，激发强非对称传输性能的...
【技术保护点】
1.一种可实现非对称传输的纳米结构，其特征在于：所述纳米结构由第一纳米薄膜、介质层和第二纳米薄膜由上及下依次连接构成；所述第一纳米薄膜和第二纳米薄膜完全相同，均由多个结构相同的纳米单元按矩形周期阵列连接而成；所述每个纳米单元由一金属薄膜构成；所述每个纳米单元还包括有一倾斜矩形孔，所述矩形孔长边与纳米单元周期方向具有一夹角α；所述第一纳米薄膜和第二纳米薄膜上的矩形孔位置一一对应，且上下贯通；所述金属薄膜由贵金属制成。
【技术特征摘要】
1.一种可实现非对称传输的纳米结构，其特征在于：所述纳米结构由第一纳米薄膜、介质层和第二纳米薄膜由上及下依次连接构成；所述第一纳米薄膜和第二纳米薄膜完全相同，均由多个结构相同的纳米单元按矩形周期阵列连接而成；所述每个纳米单元由一金属薄膜构成；所述每个纳米单元还包括有一倾斜矩形孔，所述矩形孔长边与纳米单元周期方向具有一夹角α；所述第一纳米薄膜和第二纳米薄膜上的矩形孔位置一一对应，且上下贯通；所述金属薄膜由贵金属制成。2.根据权利要求1所述的纳米结构，其特征在于：所述纳米单元的厚度h=80nm；所述介质层厚度d=120nm；所述纳米单元的周期Px=Py=560~720nm。3.根据权利要求2所述的纳米结构，其特征在于：所述矩形孔的长度l=520~560nm，宽度w=180~220nm，矩形孔的长边与纳米单元周期方向的夹角α=0°~90°。4.根据权利要求1所述的纳米结构，其特征在于：所述贵金属为金或者银材料；所述介质层材料为SiO2。5.根据权利要求1-4所述的任一可实现非对称传输的纳米结构的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤1，准备基底：准备ITO玻璃基底并清洗吹干；步骤2，涂光刻胶：用甩胶机在步骤1准备好的ITO玻璃基底上涂覆PMMA光刻胶；步骤3，涂胶后烘干：将步骤2涂覆PMMA光刻胶的基底放在热板上烘干；步骤4，电子束曝光结构图形：用图形发生器设计可实现非对称传输的纳米结构的第二纳米薄膜结构图形，并用电子束曝光，得到曝光后的基底；步骤5，显影：常温下，将步骤4中曝光好的基底放入显影液中浸泡显影；步骤6，定影：将步骤5浸泡显影后的基底放入定影液中浸泡定影，定影完成后将基底取出，用氮气吹干；步骤7，定影后烘干：将步骤6浸泡定影后并吹干的基底放在热板上烘干；步骤8，镀贵金属：将步骤7定影后烘干的基底放入电子束真空蒸发镀膜机镀贵金属，蒸镀完冷却10min～20min后再取出；步骤9，剥离PMMA光刻胶：采用lift-off工艺，将步骤8真空镀贵金属后的基底泡在丙酮中，时间至少为30min，溶解PMMA光刻胶；步骤10，吹干：用氮气枪吹干步骤9得到的剥离PMMA光刻胶后的基底，得到可实现非对称传输的纳米结构的第二纳米薄膜；步骤11，镀介...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘黎明，迟锋，刘凯，杨健君，水玲玲，易子川，吐达洪·阿巴，张智，张中月，
申请(专利权)人：电子科技大学中山学院，
类型：发明
国别省市：广东,44
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