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本实用新型公开了一种应用于纳米材料上多层图像的均匀压印装置，包括机架、控制单元，模板，在模板外侧固定有模板托架，在模板底部设有纳米结构；下压机构，设于模板上方并与机架滑动连接；承压机构，设于模板下方，承压机构上设有基板，基板上涂抹有压印胶；...
该专利属于青岛天仁微纳科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过青岛天仁微纳科技有限责任公司授权不得商用。

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