一种光学临近修正前的预处理方法技术

本发明专利技术提供一种光学临近修正前的预处理方法，属于微电子光学临近修正技术领域，包括：将原始目标图形输入预处理软件；扩展第一短边和第一邻边形成正交方向的第一矩形，扩展第二短边和第二邻边形成正交方向的第二矩形；通过预处理软件选定第三邻边，并将第三邻边向两端延长一预定长度后扩展第三邻边形成第三矩形；将第一矩形和第二矩形做逻辑和运算处理后得到第一图形，并将第一图形与第三矩形做逻辑非处理后得到第一多边形；将原始目标图形和第一多边形合并得到处理后目标图形。本发明专利技术的有益效果：可以针对性的填充斜边上的图形缺口，从而去除不利于光学临近修正的因素，使OPC结果更好的符合预期。

【技术实现步骤摘要】
一种光学临近修正前的预处理方法
本专利技术涉及微电子光学临近修正
，尤其涉及一种光学临近修正前的预处理方法。
技术介绍
随着集成电路技术的不断发展，基于模型的OPC(OpticalProximityCorrection，光学临近修正的简称)已广泛的应用于关键层次的掩模版制造过程中，基于模型的OPC根据建立的模型可以很好的模拟曝光后硅片上的成像，通过对掩模版图形进行补偿，可以使硅片上的图形与设计或目标图形保持一致，解决光学临近效应造成的图形失真现象。基于模型的OPC会将目标图形按规则切割成片段，并在片段上设置量测点，边模拟边修正，最终使模拟结果在量测点处与目标图形一致。然而在设计图形或设计图形的前处理过程中，可能会存在或产生一些不利于光学临近修正的图形，如小的凸起，或小的图形缺口。它们的存在不违反设计规则，但会导致光学临近修正的结果不合理，比如断线、桥接、无法修正到目标等。现有的OPC处理流程中会在OPC修正前去除这些突起或图形缺口，方法是选出凸起或缺口的短边，根据短边与其邻边的距离和角度关系形成包含两条边的矩形，原始图形去除或合并该矩形后得到新的目标图形。由于常规的图形边与坐标轴正交，采用上述方法可以有效处理图形凸起或图形缺口，然而对于斜边上的图形凸起或图形缺口，无法直接形成包含短边与其邻边的图形填充区域，故不能使用上述方法处理。
技术实现思路
针对现有技术中存在的问题，本专利技术涉及一种光学临近修正前的预处理方法。本专利技术采用如下技术方案：一种光学临近修正前的预处理方法，用于在进行光学临近修正前对原始目标图形进行预处理，以去除所述原始目标图形的斜边上的图形缺口得到处理后目标图形，所述原始目标图形由一斜边和多个直角边构成，所述图形缺口由第一短边、位于所述第一短边斜下方的第二短边以及夹在所述第一短边和所述第二短边之间的第三邻边构成，与所述第一短边连接的部分所述斜边为第一邻边，与所述第二短边连接的部分所述斜边为第二邻边；所述预处理方法包括：步骤S1、将所述原始目标图形输入预处理软件，所述预处理软件中预存一正交坐标系统；步骤S2、通过所述预处理软件分别选定所述第一短边、所述第一邻边、所述第二短边以及所述第二邻边，并扩展所述第一短边和所述第一邻边形成包含所述第一短边和所述第一邻边且相对所述正交坐标系统为正交方向的第一矩形，以及扩展所述第二短边和所述第二邻边形成包含所述第二短边和所述第二邻边且相对所述正交坐标系统为正交方向的第二矩形；步骤S3、通过所述预处理软件选定所述第三邻边，并将所述第三邻边向两端延长一预定长度后扩展所述第三邻边形成第三矩形；步骤S4、通过所述预处理软件将所述第一矩形和所述第二矩形做逻辑和运算处理后得到第一图形，并将所述第一图形与所述第三矩形做逻辑非处理后得到第一多边形；步骤S5、通过所述预处理软件将所述原始目标图形和所述第一多边形合并得到所述处理后目标图形。优选的，所述图形缺口的类型包括图形凸起和图形凹槽。优选的，所述步骤S1中，将所述原始目标图形输入所述预处理软件后，所述原始目标图形的每个所述直角边分别与所述正交坐标系统中的一坐标轴平行，所述原始目标图形的所述斜边与所述正交坐标系统中的一所述坐标轴呈一倾斜角度。优选的，所述倾斜角度包括45度。优选的，所述第一短边和所述第二短边平行且相等。优选的，所述步骤S3中，所述预定长度大于所述第一邻边和所述第二邻边长度的和。优选的，所述步骤S3中，扩展所述第三邻边形成所述第三矩形时，扩展长度大于所述第一邻边长度的二分之一且扩展长度大于所述第二邻边长度的二分之一。本专利技术的有益效果：提供一种图形预处理方法，可以针对性的填充斜边上的图形缺口，从而去除不利于光学临近修正的因素，使OPC结果更好的符合预期。附图说明图1为本专利技术的一种优选实施例中，光学临近修正前的预处理方法的流程图；图2-5为本专利技术的一种优选实施例中，光学临近修正前的预处理方法的流程示意图。具体实施方式需要说明的是，在不冲突的情况下，下述技术方案，技术特征之间可以相互组合。下面结合附图对本专利技术的具体实施方式作进一步的说明：如图1-5所示，一种光学临近修正前的预处理方法，用于在进行光学临近修正前对原始目标图形进行预处理，以去除所述原始目标图形的斜边上的图形缺口得到处理后目标图形，所述原始目标图形由一斜边和多个直角边1构成，所述图形缺口由第一短边2、位于所述第一短边2斜下方的第二短边3以及夹在所述第一短边2和所述第二短边3之间的第三邻边6构成，与所述第一短边2连接的部分所述斜边为第一邻边4，与所述第二短边3连接的部分所述斜边为第二邻边5；所述预处理方法包括：步骤S1、将所述原始目标图形输入预处理软件，所述预处理软件中预存一正交坐标系统，预处理软件为CalibreDRC软件；步骤S2、根据实际尺寸、相邻两边长度及角度选择斜边上图形缺口的所述第一短边2、所述第一邻边4、所述第二短边3以及所述第二邻边5，通过所述预处理软件扩展所述第一短边2和所述第一邻边4形成包含所述第一短边2和所述第一邻边4且相对所述正交坐标系统为正交方向的第一矩形7，并扩展所述第二短边3和所述第二邻边5形成包含所述第二短边3和所述第二邻边5且相对所述正交坐标系统为正交方向的第二矩形8；步骤S3、根据实际尺寸、相邻两边长度及角度选择所述第三邻边6，通过所述预处理软件选定所述第三邻边6，并将所述第三邻边6向两端延长一预定长度后扩展所述第三邻边6形成第三矩形9；步骤S4、通过所述预处理软件将所述第一矩形7和所述第二矩形8做逻辑和运算处理后得到第一图形，并将所述第一图形与所述第三矩形9做逻辑非处理后得到第一多边形10；步骤S5、通过所述预处理软件将所述原始目标图形和所述第一多边形10合并得到所述处理后目标图形，处理后目标图形为光学临近修正目标图形，基于该处理后目标图形进行OPC处理不会导致异常的OPC结果。现有技术中，与坐标轴正交的图形边上的凸起或缺口可以通过形成包含短边及邻边的矩形并去除或填充的方法处理，但斜边上的凸起或缺口难以用现有的上述方法处理。在基于模型的OPC修正过程中，一些斜边上的图形缺口容易导致不合理的OPC修正，模拟图形与目标图形差距较大。设计图形直接进行基于模型的光学临近修正，由于斜边缺口的存在，修正结果一致性不好，最大会有10倍最小精度格点的差异，且模拟图形与目标图形差距较大。在本实施例中，本专利技术提供一种图形预处理方法，可以针对性的填充斜边上的图形缺口，从而去除不利于光学临近修正的因素。经过图形预处理将斜边缺口填起后，修正结果一致性有大幅提升，最大差异为1个最小精度格点，且模拟图形能更接近目标图形。具体的，通过形成正好能覆盖斜边上图形缺口的最小边界框区域(即第一多边形10)，并与原始目标图形合并后形成新的目标图形(即处理后目标图形)。新的目标图形去除了导致异常OPC结果的斜边上图形缺口，从而能得到更合理的基于模型的OPC结果。较佳的实施例中，所述图形缺口的类型包括图形凸起和图形凹槽。在本实施例中，不管是相对于所述斜边的图形凸起还是图形缺口都是由两个短边(第一短边2和第二短边3)和一个夹在两个短边中间的长边(第三邻边6)构成。较佳的实施例中，所述步骤S1中，将所述原始目标图形输入所述预处理软件后，所述原始目标图形的每个本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学临近修正前的预处理方法，用于在进行光学临近修正前对原始目标图形进行预处理，以去除所述原始目标图形的斜边上的图形缺口得到处理后目标图形，所述原始目标图形由一斜边和多个直角边构成，所述图形缺口由第一短边、位于所述第一短边斜下方的第二短边以及夹在所述第一短边和所述第二短边之间的第三邻边构成，与所述第一短边连接的部分所述斜边为第一邻边，与所述第二短边连接的部分所述斜边为第二邻边；其特征在于，所述预处理方法包括：步骤S1、将所述原始目标图形输入预处理软件，所述预处理软件中预存一正交坐标系统；步骤S2、通过所述预处理软件扩展所述第一短边和所述第一邻边形成包含所述第一短边和所述第一邻边且相对所述正交坐标系统为正交方向的第一矩形，并扩展所述第二短边和所述第二邻边形成包含所述第二短边和所述第二邻边且相对所述正交坐标系统为正交方向的第二矩形；步骤S3、通过所述预处理软件选定所述第三邻边，并将所述第三邻边向两端延长一预定长度后扩展所述第三邻边形成第三矩形；步骤S4、通过所述预处理软件将所述第一矩形和所述第二矩形做逻辑和运算处理后得到第一图形，并将所述第一图形与所述第三矩形做逻辑非处理后得到第一多边形；步骤S5、通过所述预处理软件将所述原始目标图形和所述第一多边形合并得到所述处理后目标图形。...

【技术特征摘要】
1.一种光学临近修正前的预处理方法，用于在进行光学临近修正前对原始目标图形进行预处理，以去除所述原始目标图形的斜边上的图形缺口得到处理后目标图形，所述原始目标图形由一斜边和多个直角边构成，所述图形缺口由第一短边、位于所述第一短边斜下方的第二短边以及夹在所述第一短边和所述第二短边之间的第三邻边构成，与所述第一短边连接的部分所述斜边为第一邻边，与所述第二短边连接的部分所述斜边为第二邻边；其特征在于，所述预处理方法包括：步骤S1、将所述原始目标图形输入预处理软件，所述预处理软件中预存一正交坐标系统；步骤S2、通过所述预处理软件扩展所述第一短边和所述第一邻边形成包含所述第一短边和所述第一邻边且相对所述正交坐标系统为正交方向的第一矩形，并扩展所述第二短边和所述第二邻边形成包含所述第二短边和所述第二邻边且相对所述正交坐标系统为正交方向的第二矩形；步骤S3、通过所述预处理软件选定所述第三邻边，并将所述第三邻边向两端延长一预定长度后扩展所述第三邻边形成第三矩形；步骤S4、通过所述预处理软件将所述第一矩形和所述第二矩形做逻辑和运算处理后得到第一图形...

【专利技术属性】
技术研发人员：张浩，张辰明，陈翰，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31