The invention provides a method for improving the efficiency of mixing acid in corrosion machine, including: step 1, adding mixed acid 280L 350L at room temperature in reserve tank A; step 2, adjusting the concentration of mixed acid in reserve tank A by adding hydrofluoric acid 15L 30L, nitric acid 60L, acetic acid 30L, adjusting the mass fraction of mixed acid to hydrofluoric acid 5%8%, nitric acid 30%50%, acetic acid 10. In step 3, 280L 350L mixed acid with 5% hydrofluoric acid, 30% nitric acid, 10% acetic acid and 30% acetic acid was injected into mixed acid reserve tank B, and in step 4, mixed acid with adjustable concentration was injected into the corrosion machine.
【技术实现步骤摘要】
一种提高腐蚀机混酸换液效率的方法及装置
本专利技术涉及半导体领域,具体涉及一种提高腐蚀机混酸换液效率的方法及装置。
技术介绍
在半导体硅片的生产工艺中,酸腐蚀工艺是应用最广的去除损伤层的一种方法。比较普遍的方式是通过一定比例的氢氟酸、硝酸、醋酸组成的混酸在一定的温度下与硅片发生化学反应,腐蚀掉表面的损伤层,加工过程中要保证硅片腐蚀的速率,硅片表面的腐蚀均匀性。但随着硅片的尺寸越来越大,器件的线宽越来越小,对硅片的表面平整度要求也越来越高。这就要求对应不同掺杂类型的硅片有更精确的混酸浓度、温度、鼓泡等条件的控制,在硅片品种切换时,混酸的浓度变化非常大。现在的换液做法有直接排掉原比例的混酸,然后配制新比例的混酸;稍经济一点的做法是在原混酸比例的基础上单独添加氢氟酸、硝酸、醋酸来改变混酸的比例,但是也会排掉一定比例的混酸,造成浪费,并且添加单酸会消耗大量的时间,影响生产效率。
技术实现思路
针对现有技术存在的问题,本专利技术提供一种提高腐蚀机混酸换液效率的方法,以解决对腐蚀过程中,硅片类型改变,相应的腐蚀混酸溶液也要改变,但调节混酸溶液的浓度过程复杂、时间长、效率低的问题。针对现有技术存在的问题,本专利技术提供一种提高腐蚀机混酸换液效率的装置,以解决对腐蚀过程中,硅片类型改变,相应的腐蚀混酸溶液也要改变,但调节混酸溶液的浓度过程复杂、时间长、效率低的问题。本专利技术的技术方案是:一种提高腐蚀机混酸换液效率的方法,包括:步骤一,在储备槽A加入室温下的混酸280L-350L;步骤二,通过添加氢氟酸15L-30L、硝酸60L-90L、醋酸30L-60L,对储备槽A中的混酸 ...
【技术保护点】
1.一种提高腐蚀机混酸换液效率的方法,其特征在于,包括:步骤一,在储备槽A加入室温下的混酸280L‑350L;步骤二,通过添加氢氟酸15L‑30L、硝酸60L‑90L、醋酸30L‑60L,对储备槽A中的混酸进行浓度调节,将混酸的质量分数调到氢氟酸5%‑8%、硝酸30%‑50%、醋酸10%‑30%;步骤三,将腐蚀机中质量分数为氢氟酸5%‑8%、硝酸30%‑50%、醋酸10%‑30%的混酸280L‑350L注入混酸储备槽B;步骤四,将调节好浓度的混酸注入腐蚀机。
【技术特征摘要】
1.一种提高腐蚀机混酸换液效率的方法,其特征在于,包括:步骤一,在储备槽A加入室温下的混酸280L-350L;步骤二,通过添加氢氟酸15L-30L、硝酸60L-90L、醋酸30L-60L,对储备槽A中的混酸进行浓度调节,将混酸的质量分数调到氢氟酸5%-8%、硝酸30%-50%、醋酸10%-30%;步骤三,将腐蚀机中质量分数为氢氟酸5%-8%、硝酸30%-50%、醋酸10%-30%的混酸280L-350L注入混酸储备槽B;步骤四,将调节好浓度的混酸注入腐蚀机。2.根据权利要求1所述的一种提高腐蚀机混酸换液效率的方法,其特征在于:所述步骤一中储备槽内加入室温下的混酸300L。3.根据权利要求1所述的一种提高腐蚀机混酸换液效率的方法,其特征在于:所述步骤二中添加氢氟酸20L、硝酸80L、醋酸50L。4.根据权利要求1所述的一种提高腐蚀机混酸换液效率的方法,其特征在于:所述步骤二中对储备槽A中的混酸进行浓度调节,将混酸的质量分数调到氢氟酸6.5...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘玉龙,贺贤汉,朱强健,
申请(专利权)人:杭州中芯晶圆半导体股份有限公司,上海申和热磁电子有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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