盖体、热处理装置以及热处理装置用盖体的清洁方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种带清洁喷嘴的盖体、热处理装置以及热处理装置用盖体的清洁方法。该带清洁喷嘴的盖体能够将附着、堆积到盖体上表面的颗粒去除，能够进行精度比以往的精度高的颗粒管理。通过提供一种带清洁喷嘴的盖体来解决上述问题，该带清洁喷嘴的盖体的特征在于，具有：盖体(14)，其用于进行热处理装置用处理容器的开闭；轴(20)，其设置于盖体(14)，可相对于盖体(14)旋转，保持被热处理体的保持件载置于该轴(20)的上部；清洁喷嘴(70)，其以从轴沿外周方向延伸的方式设置，具有多个气体喷出孔，从气体喷出孔朝向盖体(14)的处理容器(4)侧的面吹送清洁气体，同时利用轴的旋转沿着盖体(14)的处理容器(4)侧的面移动。

Cleaning method for cover, heat treatment device and cover for heat treatment device

The invention provides a cover body with a clean nozzle, a heat treatment device and a cleaning method for a cover body for a heat treatment device. The cover with clean nozzle can remove the particles attached to and accumulated on the upper surface of the cover, and can carry out particle management with higher accuracy than before. By providing a cover with a clean nozzle to solve the above problems, the cover with a clean nozzle has the following characteristics: a cover (14), which is used for opening and closing treatment containers for heat treatment devices; a shaft (20), which is arranged on the cover (14) and can rotate relative to the cover (14), so as to keep the retainer of the heat treated body on the upper part of the shaft (20); and a clean nozzle (70), which can be used from the top of the shaft (20). The shaft is arranged in a way extending in the peripheral direction, and has multiple gas ejection holes, which blow clean gas from the gas ejection holes towards the face of the treatment container (4) side of the cover (14), while moving along the face of the treatment container (4) side of the cover (14) by the rotation of the shaft.

【技术实现步骤摘要】
盖体、热处理装置以及热处理装置用盖体的清洁方法
本专利技术涉及带清洁喷嘴的盖体、热处理装置以及热处理装置用盖体的清洁方法。
技术介绍
一般而言，作为对半导体晶圆(以下称为晶圆)实施成膜处理、氧化处理、扩散处理等热处理的装置，公知有立式热处理装置。出于大气的卷入较少等理由，立式热处理装置被广泛使用。立式热处理装置在加热炉内设置有立式的处理容器，在对处理容器的下端开口部进行开闭的盖体之上搭载晶圆保持件，许多晶圆呈架状保持于该晶圆保持件，利用盖体的上升，将晶圆保持件向处理容器内输入，进行预定的热处理。另外，在专利文献1中公开有一种在被热处理体被输入到处理容器之后能够使被热处理体的温度迅速地稳定的立式热处理装置。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2002-334844号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题不过，在热处理装置的处理容器内，存在如下情况：由于各种各样的主要原因，产生颗粒，且该颗粒因自重而向盖体上表面附着、堆积。在颗粒附着到盖体上表面的状态下，由于盖体的开闭时的压力变动、或者腔室等的气流变动等，产生已附着到盖体上表面的颗粒的卷起，存在向晶圆附着的可能性。在晶圆形成的图案的微细化不断发展，因此，若颗粒附着于晶圆，则成为加工不良的可能性变高。要求精度比以往的精度高的颗粒管理。用于解决问题的方案根据本实施方式的一观点的带清洁喷嘴的盖体，其特征在于，该带清洁喷嘴的盖体具有：盖体，其用于对热处理装置用处理容器的下端开口部进行开闭；轴，其设置于所述盖体，能够相对于所述盖体旋转，在该轴的上部载置有对被热处理体进行保持的保持件；以及清洁喷嘴，其以从所述轴沿外周方向延伸的方式设置，具有多个气体喷出孔，从所述气体喷出孔朝向所述盖体的所述处理容器侧的面吹送清洁气体，同时利用所述轴的旋转沿着所述盖体的所述处理容器侧的面移动。专利技术的效果根据公开的带清洁喷嘴的盖体，能够将附着、堆积到盖体上表面的颗粒去除，能够进行精度比以往的精度高的颗粒管理。附图说明图1是表示本专利技术的实施方式的热处理装置的一个例子的概略图。图2是本专利技术的第1实施方式的热处理装置的主要部分剖视图。图3是本专利技术的第1实施方式的热处理装置的盖体的一个例子的剖视图(A)、立体图(B)～(C)。图4是说明本专利技术的第1实施方式的热处理装置的盖体的动作的立体图。图5是说明本专利技术的第1实施方式的热处理装置的盖体的动作的主视图。图6是表示本专利技术的第1实施方式的热处理装置的盖体的一个例子的立体图(A)和表示轴的一个例子的立体图(B)。图7是表示本专利技术的第1实施方式的热处理装置的盖体的一个例子的立体图(A)和表示轴的一个例子的立体图(B)。图8是表示本专利技术的第1实施方式的热处理装置的清洁喷嘴的气体喷出孔的朝向的一个例子的示意图(A)～(B)。图9是表示本专利技术的第1实施方式的热处理装置的清洁喷嘴的一个例子的立体图(A)～(D)。图10是表示本专利技术的第1实施方式的热处理装置的盖体的一个例子的立体图。图11是表示本专利技术的第2实施方式的热处理装置的盖体的一个例子的剖视图。图12是表示本专利技术的第3实施方式的热处理装置的盖体的一个例子的立体图(A)～(B)。图13是表示本专利技术的实施例的热处理装置的清洁喷嘴的尺寸的主视图(A)、侧视图(B)、剖视图(C)。图14是表示本专利技术的实施例的模拟结果的图(A)～(C)。图15是表示本专利技术的实施例的模拟结果的图(A)～(C)。图16是表示本专利技术的实施例的热处理装置的清洁喷嘴的尺寸的剖视图(A)和表示模拟结果的图(B)。附图标记说明2、热处理装置；4、处理容器；10、歧管；12、底板；14、盖体；14a、第1流路；14at、端部；14b、槽；14c、贯通孔；14d、凹部；14e、金属制的盖体；14f、石英制的盖体；14g、压板；15、排气部；15a、排气狭缝；15b、排气口；15c、排气口；15d、排气狭缝；16、密封构件；17、91、95、排气管线；18、磁性流体密封；20、轴；20a、第2流路；20at、端部；20b、槽；22、旋转机构；26、保温筒；26a、支柱；26b、隔热板；27、舟皿支承部；28、晶圆舟皿；30、升降机构；32、配管；34、气体喷嘴；36、气体出口；38、排气系统；40、排气通路；42、压力调整阀；44、真空泵；45、加热装置；46、绝热层；47、保护罩；48、加热部；50、固定筒；51、外壳；52、53、气体管；70、清洁喷嘴；70a、气体喷出孔；70b、气体喷出孔；71、72、73、74、清洁喷嘴；90、清洁气体供给源；92、质量流量控制器；93、94、阀。具体实施方式以下对用于实施本专利技术的形态进行说明。此外，对相同的构件等标注相同的附图标记而省略说明。参照图1对实施方式的热处理装置进行说明。图1是表示实施方式的热处理装置的一个例子的概略图。如图1所示，热处理装置2具有长度方向铅垂地配设的圆筒状的处理容器4。处理容器4由耐热性材料、例如石英形成。处理容器4的下端部被由不锈钢等形成的歧管10保持。另外，歧管10被固定于底板12。在处理容器4的下端部的开口部，以借助O形密封圈等密封构件16可气密密封地开闭的方式安装有由例如不锈钢等形成的圆盘状的盖体14。另外，在盖体14的大致中心部贯穿有利用例如磁性流体密封18以气密状态可旋转的旋转轴21。该旋转轴21的下端与利用马达等驱动机构旋转的旋转机构22连接起来。在旋转轴21的上端，借助连接构件23安装有轴20，在轴20的上部设置有舟皿支承部27，作为保持半导体晶圆的晶圆保持件的晶圆舟皿28被载置于该舟皿支承部27的上部。另外，在轴20的周围设置有具有例如石英制的支柱26a和隔热板26b的保温筒26。例如50张～150张作为被热处理体的晶圆W以预定的间隔、例如10mm左右间隔的间距收纳于晶圆舟皿28。晶圆舟皿28、保温筒26以及盖体14成为一体而利用作为例如舟皿升降机的升降机构30在处理容器4内加载、卸载。在歧管10的侧面形成有未图示的多个气体导入端口，用于向处理容器4内导入原料气体、非活性气体等成膜处理所需的气体(例如原料气体和非活性气体中的一者或两者)的配管32贯通处理容器4的凸缘部4a地安装。另外，在气体导入端口插入有石英制的气体喷嘴34，利用螺母等接头构件以配管32和气体喷嘴34可连通的方式气密地安装。通常，从气体喷嘴34向处理容器4导入的气体由未图示的质量流量控制器等流量控制机构进行流量控制。此外，在图1中仅记载有1根气体喷嘴34，但也可以根据所使用的气体种类设置多根。在处理容器4的上部设置有气体出口36，排气系统38与气体出口36连结。排气系统38包括与气体出口36连接起来的排气通路40以及与排气通路40的中途依次连接起来的压力调整阀42和真空泵44。能够利用排气系统38对处理容器4内的气氛进行压力调整、同时进行排气。在处理容器4的外周侧，以包围处理容器4的方式设置有对晶圆W等被热处理体进行加热的加热装置45。加热装置45具有形成为圆筒状的有顶的绝热层46。绝热层46由例如导热性较低、且柔软的无定形的二氧化硅和氧化铝的混合物形成。另外，绝热层46的内表面相对于处理容器4的外表面分开预定的距离。而且，在绝热层46的外周面以覆盖绝热层46整体的的方式安装有由例如不锈钢形本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带清洁喷嘴的盖体，其特征在于，该带清洁喷嘴的盖体具有：盖体，其用于进行热处理装置用处理容器的开闭；轴，其设置于所述盖体，能够相对于所述盖体旋转，在该轴的上部载置有对被热处理体进行保持的保持件；清洁喷嘴，其以从所述轴沿外周方向延伸的方式设置，具有多个气体喷出孔，从所述气体喷出孔朝向所述盖体的所述处理容器侧的面吹送清洁气体，同时利用所述轴的旋转沿着所述盖体的所述处理容器侧的面移动。

【技术特征摘要】
2017.06.28 JP 2017-1259901.一种带清洁喷嘴的盖体，其特征在于，该带清洁喷嘴的盖体具有：盖体，其用于进行热处理装置用处理容器的开闭；轴，其设置于所述盖体，能够相对于所述盖体旋转，在该轴的上部载置有对被热处理体进行保持的保持件；清洁喷嘴，其以从所述轴沿外周方向延伸的方式设置，具有多个气体喷出孔，从所述气体喷出孔朝向所述盖体的所述处理容器侧的面吹送清洁气体，同时利用所述轴的旋转沿着所述盖体的所述处理容器侧的面移动。2.根据权利要求1所述的带清洁喷嘴的盖体，其特征在于，在所述盖体的所述处理容器侧的面设置有用于对所述清洁气体进行排气的排气狭缝或排气口。3.根据权利要求1或2所述的带清洁喷嘴的盖体，其特征在于，输送所述清洁气体的流路在所述盖体和所述轴的内部连通地设置。4.根据权利要求3所述的带清洁喷嘴的盖体，其特征在于，所述盖体具有所述轴的形状的凹部且在所述凹部安装有所述轴，在所述盖体的所述凹部处的、与所述轴的表面相对的表面形成有输送所述清洁气体的环状的槽。5.根据权利要求3所述的带清洁喷嘴的盖体，其特征在于，所述盖体具有所述轴的形状的凹部且在所述凹部安装有所述轴，在与所述盖体的所述凹部处的表面相对的所述轴的表面形成有输送所述清洁气体的环状的槽。6.根据权利要求1或2所述的带清洁喷嘴的盖体，其特征在于，输送所述清洁气体的流路贯通所述轴而沿着所述轴的旋转轴线方向延伸地设置。7.根据权利要求1～6中任一项所述的带清洁喷嘴的盖体，其特征在于，以从所述清洁喷嘴与所述盖体的所述处理容器侧的面垂直地吹送所述清洁气体的方式在所述清洁喷嘴形成有所述气体喷出孔。8.根据权利要求1～6中任一项所述的带清洁喷嘴的盖体，其特征在于，以从所述清洁喷嘴相对于所述盖体的所述处理容器侧的面倾斜而带有角度地吹送所述清洁气体的方式在所述清洁喷嘴形成有所述气体喷出孔。9.根据权利要求1～8中任一项所述的带清洁喷嘴的盖体，其特征在于，所述清洁喷嘴设置有多个。10.根据权利要求1～8中任一项所述的带清洁喷嘴的盖体，其特征在于，所述清洁喷嘴是板状。11.根据权利要求1～8中任一项所述的带清洁喷嘴的盖体，其特征在于，所述清洁喷嘴是圆盘状。12.根据权利要求1～11中任一项所述的带清洁喷嘴的盖体，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：大冈雄一，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP