【技术实现步骤摘要】
成膜装置及成膜方法、以及太阳能电池的制造方法
本专利技术涉及在真空中向基板的一方的面借助溅镀进行成膜、在另一方的面上借助反应性等离子蒸镀进行成膜的成膜装置的技术,特别涉及在异质结型太阳能电池用的基板的两面上形成透明导电氧化物层的技术。
技术介绍
近年来,作为清洁而安全的能源,太阳能电池正在被实用化,其中,对于异质结型的太阳能电池集中了关注。异质结型太阳能电池与单晶硅太阳能电池相比,变换效率较高,此外由于使用非晶硅层,所以有能够减少硅的使用量等的优点。近年来,作为异质结型太阳能电池单元,提出了在基板的两面上具有受光面的构造。为了制造这样的构造的异质结型太阳能电池单元,必须在基板的两面上形成透明导电氧化物层。但是,在以往技术的方案中,基板在从装载位置到卸载位置,其成膜面被保持为水平,一边在构成在水平面内的环状的输送路径中移动,一边进行各工艺处理。结果,在这样的以往技术中,有不能避免成膜装置的大型化及复杂化的问题。专利文献1:日本特开2011-146528号公报。
技术实现思路
本专利技术是考虑这样的以往的技术的问题而做出的专利技术,其目的是提供一种异质结型太阳能电池的制造技术,在使用多个基板保持器的穿过型的成膜装置中,能够在基板的两面上效率良好地形成优质的透明导电氧化物层,并且能够实现装置的小型化及结构的简洁化。为了实现上述目的而做出的本专利技术,是一种成膜装置,具备:真空槽,形成单一的真空环境;第1成膜区域,被设置在前述真空槽内,具有溅镀机构,该溅镀机构在被基板保持器保持的基板的第1面上进行第1透明导电氧化物层的成膜;第2成膜区域,被设置在前述真空槽内,具有反应 ...
【技术保护点】
1.一种成膜装置,其特征在于,具备:真空槽,形成单一的真空环境;第1成膜区域,被设置在前述真空槽内,具有溅镀机构,该溅镀机构在被基板保持器保持的基板的第1面上进行第1透明导电氧化物层的成膜;第2成膜区域,被设置在前述真空槽内,具有反应性等离子蒸镀机构,该反应性等离子蒸镀机构在被前述基板保持器保持的前述基板的第2面上进行第2透明导电氧化物层的成膜;输送路径,以相对于竖直面的投影形状为连续的环状的方式形成,输送前述基板保持器;和基板保持器输送机构,将具有第1及第2被驱动部的多个前述基板保持器沿着前述输送路径输送;前述输送路径具有第1输送部、第2输送部和输送折回部,所述第1输送部将被导入的前述基板保持器在设为水平的状态下沿着前述输送路径向第1输送方向输送,所述第2输送部将前述基板保持器在设为水平的状态下沿着前述输送路径向与前述第1输送方向相反方向的第2输送方向输送并排出,所述输送折回部将前述基板保持器从前述第1输送部朝向前述第2输送部折回而输送,前述输送路径构成为,前述第1输送部穿过前述第1及第2成膜区域中的一方,并且前述第2输送部穿过前述第1及第2成膜区域中的另一方;前述基板保持器输送机构 ...
【技术特征摘要】
2017.06.14 JP 2017-1170921.一种成膜装置,其特征在于,具备:真空槽,形成单一的真空环境;第1成膜区域,被设置在前述真空槽内,具有溅镀机构,该溅镀机构在被基板保持器保持的基板的第1面上进行第1透明导电氧化物层的成膜;第2成膜区域,被设置在前述真空槽内,具有反应性等离子蒸镀机构,该反应性等离子蒸镀机构在被前述基板保持器保持的前述基板的第2面上进行第2透明导电氧化物层的成膜;输送路径,以相对于竖直面的投影形状为连续的环状的方式形成,输送前述基板保持器;和基板保持器输送机构,将具有第1及第2被驱动部的多个前述基板保持器沿着前述输送路径输送;前述输送路径具有第1输送部、第2输送部和输送折回部,所述第1输送部将被导入的前述基板保持器在设为水平的状态下沿着前述输送路径向第1输送方向输送,所述第2输送部将前述基板保持器在设为水平的状态下沿着前述输送路径向与前述第1输送方向相反方向的第2输送方向输送并排出,所述输送折回部将前述基板保持器从前述第1输送部朝向前述第2输送部折回而输送,前述输送路径构成为,前述第1输送部穿过前述第1及第2成膜区域中的一方,并且前述第2输送部穿过前述第1及第2成膜区域中的另一方;前述基板保持器输送机构具有多个第1驱动部,所述多个第1驱动部与前述基板保持器的第1被驱动部接触,将该基板保持器沿着前述输送路径驱动;在前述输送路径的输送折回部的附近,设置有方向转换机构,所述方向转换机构具有多个第2驱动部和第1及第2方向转换路径,所述多个第2驱动部与前述基板保持器的第2被驱动部接触而将该基板保持器向前述第1及第2输送方向分别驱动,所述第1及第2方向转换路径用来将前述基板保持器的第1及第2被驱动部分别引导并输送,以便将该基板保持器从前述第1输送方向向前述第2输送方向方向转换;构成为,使前述基板保持器输送机构的第1驱动部和前述方向转换机构的第2驱动部同步动作,将前述基板保持器的第1及第2被驱动部沿着前述方向转换机构的第1及第2方向转换路径分别引导并输送,由此将前述基板保持器在维持着上下关系的状态下从前述输送路径的第1输送部向第2输送部移交。2.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,前述基板保持器构成为,经由掩模在前述基板的第2面上进行成膜。3.如权利要求2所述的成膜装置,其特征在于,前述掩模具有由磁性体构成的部分,并且在前述第2成膜区域的反应性等离子蒸镀机构中,在成膜位置处相对于前述输送路径在前述基板的第1面侧的附近,设置有将前述掩模吸附的掩模吸附机构。4.如权利要求1~3中任一项所述的成膜装置,其特征在于,前述基板保持器构成为,在相对于前述输送路径正交的方向上将多个基板排列保持。5.如权利要求1~3中任一项所述的成膜装置,其特征在于,前述基板保持器在前述基板的第1面侧的部分处具有能够借助旋转移动而开闭的成膜用的掩模,该掩模与掩模开闭机构连动而动作,所述掩模开闭机构与由基板运入运出室的盖部的旋转移动带来的开闭动作连动,并且构成为,在前述盖部及前述掩模打开的状态下形成能够将该基板运入运出的空间。6.一种成膜方法,是使用成膜装置的成膜方法,所述成膜装置具备:真空槽,形成单一的真空环境;第1成膜区域,被设置在前述真空槽内,具有溅镀机构,该溅镀机构在被基板保持器保持的基板的第1面上进行第1透明导电氧化物层的成膜;第2成膜区域,被设置在前述真空槽内,具有反应性等离子蒸镀机构,该反应性等离子蒸镀机构在被前述基板保持器保持的前述基板的第2面上进行第2透明导电氧化物层的成膜;输送路径,以相对于竖直面的投影形状为连续的环状的方式形成,输送前述基板保持器;和基板保持器输送机构,将具有第1及第2被驱动部的多个前述基板保持器沿着前述输送路径输送;前述输送路径具有第1输送部、第2输送部和输送折回部,所述第1输送部将被导入的前述基板保持器在设为水平的状态下沿着前述输送路径向第1输送方向输送,所述第2输送部将前述基板保持器在设为水平的状态下沿着前述输送路径向与前述第1输送方向相反方向的第2输送方向输送并排出,所述输送折回部将前述基板保持器从前述第1输送部朝向前述第2输送部折回而输送,前述输送路径构成为,前述第1输送部穿过前述第1及第2成膜区域中的一方,并且前述第2输送部穿过前述第1及第2成膜区域...
【专利技术属性】
技术研发人员:松崎淳介,高桥明久,
申请(专利权)人:株式会社爱发科,
类型:发明
国别省市:日本,JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。