【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】掩模框架及真空处理装置
本专利技术涉及一种控制对基板的处理范围的掩模框架及使用所述掩模框架的真空处理装置。
技术介绍
作为此种真空处理装置，如专利文献1所示，有包括掩盖基板的周缘部而对基板上的成膜范围进行控制的掩模体、以及对所述掩模体进行固定的掩模体安装板的真空处理装置。所述掩模体如图12所示，包括与开口部的各边相对应地分割而成的带状的4个框架元件(掩模主体)X1～框架元件(掩模主体)X4。具体而言，掩模体包括相互相向的2个框架元件X1、框架元件X2(图12中为左右的框架元件)，以及与这些框架元件X1、框架元件X2正交地配置且相互相向的2个框架元件X3、框架元件X4(图12中为上下的框架元件)。并且，相互相向的左右的框架元件X1、框架元件X2的两端部分别与相互相向的上下的框架元件X3、框架元件X4对顶地配置。而且，各框架元件X1～框架元件X4是在可单独变更位置的安装状态下固定在掩模体安装板上。具体而言，框架元件构成为可通过设置于掩模体安装板上的调整螺钉，而在与框架元件的长度方向正交的方向上进行位置变更。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利特开平10-60624...
【技术保护点】
1.一种掩模框架，具有矩形的开口部，且包括：4个框架元件，具有与所述开口部的四边分别相对应的长度方向；且所述各框架元件中的所述长度方向一端侧的端边部及与所述端边部邻接的框架元件中的沿长度方向的开口部侧边部是相向而配置，所述4个框架元件是在俯视时相对于各自的长度方向倾斜的各自的滑动方向上能够滑移地设置，通过使所述4个框架元件滑移而能够变更所述开口部的开口尺寸而构成掩模框架。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.25 JP 2016-0625801.一种掩模框架，具有矩形的开口部，且包括：4个框架元件，具有与所述开口部的四边分别相对应的长度方向；且所述各框架元件中的所述长度方向一端侧的端边部及与所述端边部邻接的框架元件中的沿长度方向的开口部侧边部是相向而配置，所述4个框架元件是在俯视时相对于各自的长度方向倾斜的各自的滑动方向上能够滑移地设置，通过使所述4个框架元件滑移而能够变更所述开口部的开口尺寸而构成掩模框架。2.根据权利要求1所述的掩模框架，其中所述4个框架元件是在俯视时相对于各自的长度方向倾斜45度的滑动方向上能够滑移地设置。3.根据权利要求1或2所述的掩模框架，其中包括：支撑构件，对所述框架元件进行支撑；且在所述框架元件与所述支撑构件之间设置有能够使所述框架元件滑移的滑动导轨机构。4.根据权利要求3所述的掩模框架，其中所述滑动导轨机构分别设置于所述框架元件的长度方向一端侧及长度方向另一端侧。5.根据权利要求3或4所述的掩模...
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