一种质子泵抑制剂药物中羟甲基吡啶氮氧化衍生物的合成方法技术

本发明专利技术提供一种羟甲基吡啶氮氧化衍生物的合成方法，包括步骤：将化合物2与碱性物质、水混合，升温进行水解反应，降温后使用酸性溶液调节pH值，加入有机溶剂萃取，饱和氯化钠洗涤有机相，除去有机相中溶剂，得到羟甲基吡啶氮氧化衍生物，即目标产物式1化合物，该方法操作方便、原料来源广泛易制备、纯度高、收率高、成本低的优点，可以为拉唑类药物起始原料质量控制提供足量的羟甲基吡啶氮氧化衍生物对照品。

【技术实现步骤摘要】
一种质子泵抑制剂药物中羟甲基吡啶氮氧化衍生物的合成方法
本专利技术属于药物化学领域，具体涉及一种羟甲基吡啶氮氧化衍生物的合成方法，羟甲基吡啶氮氧化衍生物是制备拉唑类原料药所必需的起始物料中的重要杂质，本专利技术直接使用化合物2进行水解生成羟甲基吡啶氮氧化衍生物(即式1化合物)。
技术介绍
拉唑类药物包括奥美拉唑、艾司奥美拉唑、兰索拉唑、右旋兰索拉唑、雷贝拉唑、右旋雷贝拉唑、泮托拉唑、左旋泮托拉唑、泰普拉唑(又称泰妥拉唑，英文名tenatoprazole)、艾普拉唑、二硫拉唑，是H+、K+-ATP酶抑制剂，临床主要用于十二指肠溃疡、胃溃疡、急性胃粘膜病变复合性溃疡等急性上消化道出血。而合成上述拉唑类化合物的重要起始物料结构式分别为：通常，在制备上述起始原料中，总会生成氮氧化物杂质，这些具有式1结构的氮氧化杂质如下：随着中国加入ICH以及对医药产业的更加重视，对于起始原料质量研究更加关注，所以对起始原料的杂质进行控制和研究是所有药企必须严格遵守的。为加强对拉唑类原料药和制剂中羟甲基氮氧化物的质量控制，需要使用简单工艺制备足量的高纯度的对照品。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供拉唑类化合物本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种式1化合物的合成方法，其特征在于：将化合物2与碱性物质、水混合，升温进行水解反应，降温后使用酸性溶液调节pH值，加入有机溶剂萃取，饱和氯化钠溶液洗涤有机相，除去有机相中溶剂，得到式1化合物：

【技术特征摘要】
1.一种式1化合物的合成方法，其特征在于：将化合物2与碱性物质、水混合，升温进行水解反应，降温后使用酸性溶液调节pH值，加入有机溶剂萃取，饱和氯化钠溶液洗涤有机相，除去有机相中溶剂，得到式1化合物：其中，R1为卤素；R2选自H、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基；R3选自H、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷硫基、-O-(CH2)m-O-C1-C4烷基、氨基、硝基；R4选自H、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基；所述C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷硫基任选地被1～3个卤素取代；m为1～3。2.根据权利要求1所述的合成方法，其特征在于：R1选自Cl、Br、I；R2选自H、-CH3、-OCH3、CH3CH2-；R3选自H、-CH3、-OCH3、-OCH2CF3、-O(CH2)3OCH3、-SCH2CH3、-CH2CH3、-NH2、-NO2；R4选自H、-CH3、-OCH3、CH3CH2-。3.根据权利要求1所述的合成方法，其特征在于所述的水解反应温度为40～100℃，优选为90～100℃；水解反应时间为1～24h，优选为3～8h；降温后温度为0～30℃；其中化合物2与碱性物质的摩尔比为1:(0.5～5)，优选为1:(1～2.5)；化合物2与水重量比为1:(1～20)，优选为1：(1～3)。4.根据权利要求1所述的合成方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵俊，杜有国，龚昌凯，李谢，刘志朋，霍秀成，
申请(专利权)人：南京海润医药有限公司，江苏奥赛康药业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32