炉管设备及其清洗方法技术

一种炉管设备及其清洗方法，所述炉管设备包括：加热腔室；石英管，所述石英管位于所述加热腔室内，且所述石英管内具有用于放置晶舟的晶舟腔室；一组或多组光电传感器，每组光电传感器包括相互匹配的发射传感器和接收传感器，在工作状态下，所述接收传感器适于透过所述石英管接收匹配的发射传感器的光线。本发明专利技术方案可以有效地降低清洗不足或过清洗的可能性。

【技术实现步骤摘要】
炉管设备及其清洗方法
本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种炉管设备及其清洗方法。
技术介绍
在半导体制造工艺中，炉管设备用于沉积材料层，为重要的半导体制造设备，然而在使用一段时间后，容易发生材料附着或残留在炉管设备内的问题，需要予以去除。在现有技术中，通常采用腐蚀性气体对反应管(例如为石英管)进行干法清洗，以腐蚀去除附着的材料。然而，对于干法清洗的清洗时长，均采用预先设定的方式，也即对于不同的炉管设备、不同的沉积材料，有可能采用同样的清洗时长，容易产生清洗不足的问题，影响工艺效果，还容易产生反应管过腐蚀的问题，降低反应管的使用寿命。
技术实现思路
本专利技术解决的技术问题是提供一种炉管设备及其清洗方法，可以有效地降低清洗不足或过清洗的可能性。为解决上述技术问题，本专利技术实施例提供一种炉管设备，包括：加热腔室；石英管，所述石英管位于所述加热腔室内，且所述石英管内具有用于放置晶舟的晶舟腔室；一组或多组光电传感器，每组光电传感器包括相互匹配的发射传感器和接收传感器，在工作状态下，所述接收传感器适于透过所述石英管接收匹配的发射传感器的光线。可选的，所述炉管设备还包括：升降机构，所述一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种炉管设备，其特征在于，包括：加热腔室；石英管，所述石英管位于所述加热腔室内，且所述石英管内具有用于放置晶舟的晶舟腔室；一组或多组光电传感器，每组光电传感器包括相互匹配的发射传感器和接收传感器，在工作状态下，所述接收传感器适于透过所述石英管接收匹配的发射传感器的光线。

【技术特征摘要】
1.一种炉管设备，其特征在于，包括：加热腔室；石英管，所述石英管位于所述加热腔室内，且所述石英管内具有用于放置晶舟的晶舟腔室；一组或多组光电传感器，每组光电传感器包括相互匹配的发射传感器和接收传感器，在工作状态下，所述接收传感器适于透过所述石英管接收匹配的发射传感器的光线。2.根据权利要求1所述的炉管设备，其特征在于，还包括：升降机构，所述一组或多组光电传感器设置于所述升降机构上，在工作状态下，所述升降机构带动所述一组或多组光电传感器上升至所述加热腔室内的预设位置；在非工作状态下，所述升降机构带动所述一组或多组光电传感器下降以离开所述加热腔室。3.根据权利要求2所述的炉管设备，其特征在于，所述升降机构包括：升降式的连杆结构，包括至少一组连杆，每组连杆包括分别位于所述石英管相对两侧的第一连杆和第二连杆，对于每组光电传感器，所述发射传感器设置于所述第一连杆，所述接收传感器设置于第二连杆；驱动结构，与所述升降式的连杆结构耦接以驱动所述连杆结构上升或下降。4.根据权利要求1所述的炉管设备，其特征在于，在所述石英管的横截面所处的平面上，多组光电传感器中的发射传感器以及接收传感器呈中心对称分布，对称中心为所述石英管的横截面的中心。5.根据权利要求1所述的炉管设备，其特征在于，所述光电传感器设置于冷却组件内，所述冷却组件适于...

【专利技术属性】
技术研发人员：喻泽锋，周冬成，吴宗祐，林宗贤，
申请(专利权)人：德淮半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32