【技术实现步骤摘要】
一种自动双室磁控蒸发真空设备
本技术涉及一种磁控蒸发真空设备，尤其是涉及一种自动双室磁控蒸发真空设备。
技术介绍
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点－岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。现有的磁控蒸发真空设备不够自动化，需要人工实时监控，不能远程控制，因此十分不便。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的不足，提供一种自动双室磁控蒸发真空设备，给工业生产提供方便。为了解决上述问题，本技术提供了如下的技术方案：一种自动双室磁控蒸发真空设备，包括真空室、磁控室和蒸发室，所述真空室的内部设置有磁控室，所述磁控室的一侧设有...
【技术保护点】
1.一种自动双室磁控蒸发真空设备，包括真空室(1)、磁控室(2)和蒸发室(3)，其特征在于，所述真空室(1)的内部设置有磁控室(2)，所述磁控室(2)的一侧设有蒸发室(3)，所述磁控室(2)和蒸发室(3)之间设置有滑轨(9)，所述滑轨(9)上设有电动滑块(10)，所述蒸发室(3)的内壁安装有温度传感器(7)，所述蒸发室(3)的外侧固定有加热板(6)，所述加热板(6)的一侧设有加热控制器(12)，所述磁控室(2)内设置有磁控靶(5)，所述真空室(1)的顶部安装有真空泵(4)，所述真空泵(4)的一侧真空室(1)上设有压力表(8)，所述真空室(1)的一侧设有信号收发器(11)。
【技术特征摘要】
1.一种自动双室磁控蒸发真空设备，包括真空室(1)、磁控室(2)和蒸发室(3)，其特征在于，所述真空室(1)的内部设置有磁控室(2)，所述磁控室(2)的一侧设有蒸发室(3)，所述磁控室(2)和蒸发室(3)之间设置有滑轨(9)，所述滑轨(9)上设有电动滑块(10)，所述蒸发室(3)的内壁安装有温度传感器(7)，所述蒸发室(3)的外侧固定有加热板(6)，所述加热板(6)的一侧设有加热控制器(12)，所述磁控室(2)内设置有磁控靶(5)，所述真空室(1)的顶部安装有真空泵(4)，所述真空泵(4)的一侧真空室(1)上设有压力表(8)，所述真空室(1)的一侧设有信号收发器(11...
【专利技术属性】
技术研发人员：李光俊，
申请(专利权)人：深圳市美格真空炉有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44
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