蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法及有机EL显示设备的制造方法技术

提供抑制蒸镀时的蒸镀基板与蒸镀掩模的开口部的排列之间的位置错开，能够执行高精细的图案化之蒸镀掩模及其制造方法。蒸镀掩模(1)包含树脂膜(2)，具有在蒸镀基板上用以由蒸镀成膜形成薄膜图案的开口部(4)的图案，其蒸镀掩模(1)，包括比树脂膜(2)辐射率小的低辐射率膜(5)，在树脂膜(2)相对蒸镀源的面的至少一部分，抑制来自蒸镀源的辐射热引起的树脂膜(2)的温度上升。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法及有机EL显示设备的制造方法
本专利技术系关于蒸镀有机EL显示设备的有机层时使用的蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法及有机EL显示设备的制造方法。更详细说来，是关于可以抑制蒸镀时的蒸镀掩模的温度上升的蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法及使用其蒸镀掩模的有机EL显示设备的制造方法。
技术介绍
制造有机EL显示设备时，例如在支撑基板上形成TFT等的开关组件的装置基板上有机层对应每一像素层叠。因此，装置基板上配置蒸镀掩模，通过其蒸镀掩模蒸镀有机材料，只有必要的像素上层叠必要的有机层。作为其蒸镀掩模，使用习知的金属掩模，但近年来，为了形成更精细的掩模开口部的图案，倾向于取代金属掩模使用树脂膜作为掩模材料。另一方面，蒸镀掩模使从蒸镀源挥发的有机材料通过其开口部附着至蒸镀基板，因为此蒸镀使用的蒸镀源的坩锅使蒸镀材料的有机材料挥发，高温加热。因此，由于来自蒸镀源的辐射热，蒸镀掩模的温度上升，蒸镀掩模材料产生热膨胀，蒸镀罩产生变形。这样的蒸镀掩模变形，成为蒸镀掩模的开口图案的位置错开，给位置精度、开口尺寸带来坏影响，形成有机EL显示设备时，显示成色下降。为了防止起因于如此的热引起的变形之位置错开，例如习知的金属掩模，揭示掩模材料中使用镍铁合金(invar)等的热膨胀率小，几乎不因热而膨胀的材料(专利文献1)。另外，揭示蒸镀掩模与蒸镀源之间设置热屏障材，吸收来自蒸镀源的辐射，往外部散热，抑制蒸镀掩模的温度上升(专利文献2)。另外，使用树脂膜作为掩模材料时，一般任何树脂相较于镍铁合金热膨胀率较大，因材料选择，难以解决此问题。而且，蒸镀源像线性源在成膜中移动时，掩模内温度分布随着蒸镀源的移动变化，开口位置也追随位移，因此蒸镀的膜的尺寸，比蒸镀掩模的开口尺寸更增大。现有技术文献专利文献专利文献1：特开2004-323888号公报专利文献2：特开2015-140464号公报
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题如上所述，使用几乎不因热而膨胀的镍铁合金之金属掩模，可以抑制热膨胀引起的影响至最小限度，但更细微的蒸镀图案的形成有限度，有不能使用的问题。另外，如专利文献2使用热屏障材作为其他构件，使用时，不只是蒸镀基板与蒸镀掩模之间的位置对准，与热屏障材之间的位置对准也是必要的，具有制造步骤变成繁琐的问题。于是，本专利技术是用以解决如此的问题而形成，其目的在于提供蒸镀时可以抑制温度的上升的包含树脂膜的蒸镀掩模及其制造方法。本专利技术的其他目的在于使用上述制造方法形成的蒸镀掩模，提供显示成色优异的有机EL显示设备的制造方法。用于解决技术问题的技术方案本专利技术者们，为了得到在蒸镀时抑制温度上升的蒸镀掩模，重复专心检讨。其结果，发现蒸镀掩模的树脂膜与蒸镀源相对的面上，设置辐射率比其树脂膜小的层，阻断来自蒸镀源的辐射热，即减少从蒸镀源往蒸镀掩模热输入，可以简单抑制蒸镀掩模的温度上升。进一步也发现，与蒸镀掩模的树脂膜的蒸镀基板抵接的面上，通过设置辐射率比其树脂膜大的层，散热蒸镀掩模的热至玻璃基板等的蒸镀基板，有助于抑制蒸镀掩模的温度上升。本专利技术的蒸镀掩模是包含具有在蒸镀基板上通过蒸镀用以成膜形成薄膜图案的开口部图案的树脂膜之蒸镀掩模，其特征在于，辐射率比上述树脂膜小的低辐射率膜，在上述树脂膜相对蒸镀源的面的至少一部分上形成。本专利技术的蒸镀掩模的制造方法是包含具有开口部图案的树脂膜，用以蒸镀蒸镀材料的掩模，并且与蒸镀源相对侧的面的至少一部分具有辐射率比上述树脂膜小的低辐射率膜之蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，上述低辐射率膜的形成是在扩展上述树脂膜固定至支撑框架后进行。本专利技术的有机EL显示设备的制造方法是在装置基板上层叠有机层制造有机EL显示设备的方法，其特征在于，在支撑基板上至少形成TFT及第一电极的上述装置基板上，位置对准而重叠根据本专利技术的蒸镀掩模，在上述第一电极上蒸镀有机材料，形成有机层的层叠膜，然后在上述层叠膜上形成第二电极。有益效果根据本专利技术的蒸镀掩模，形成树脂膜的开口部图案时，因为可以由低辐射膜反射来自蒸镀源的辐射热，抑制蒸镀掩模本身的温度上升。因此，蒸镀有机材料时，可以防止产生开口位置的位移、开口尺寸的变化，结果形成高精度的蒸镀膜。另外，根据本专利技术的蒸镀掩模的制造方法，扩展构成蒸镀掩模的树脂膜固定至支撑框架后，因为树脂膜与蒸镀源相对侧的面的至少一部分形成低辐射率膜，没有低辐射率膜的裂纹、剥离等的危险，结果可以得到有效抑制有机材料蒸镀时温度上升引起的尺寸变化的蒸镀掩模。另外，根据本专利技术的有机EL显示设备的制造方法，因为使用抑制蒸镀时的热膨胀，且不易产生开口位置的位移、开口尺寸的变化之蒸镀掩模，蒸镀有机层，所以即使高精密的像素图案也非常精密形成各像素的有机层，结果可以得到显示成色非常优异的有机EL显示设备。附图说明图1是说明本专利技术的蒸镀掩模的一实施例的剖面图。图2是说明本专利技术的蒸镀掩模的另一实施例的剖面图。图3是说明使用本专利技术的蒸镀掩模时的位置关系图。图4是说明本专利技术的蒸镀掩模的制造方法的流程图。图5A是制造本专利技术的有机EL显示设备时在蒸镀时的说明图。图5B是显示本专利技术的有机EL显示设备的制造方法的一实施例的制造步骤的剖面说明图。具体实施方式其次，一边参照图面，一边说明本专利技术的蒸镀掩模及其制造方法。图1是示出本专利技术的蒸镀掩模的一实施例的部分剖面的说明图，图2是示出本专利技术的蒸镀掩模的另一实施例的部分剖面的说明图，然后图3是示出说明使用本专利技术的蒸镀掩模时的位置关系图。此外，图1及图2只说示出关于一个开口部与其周围的部分，另外图3只示出两个开口部与其周围的部分，但实际上，通常具有符合例如至少一个有机EL显示设备的像素数量(包含RGB的子像素数量)的多个开口部，但根据状况统一形成多个。根据本实施例的蒸镀掩模1，如图1所示，树脂膜2相对蒸镀源7侧的面的至少一部分形成低辐射率膜5。另外，根据另一实施例的蒸镀掩模1，如图2及图3所示，树脂膜2相对蒸镀源7侧的面的至少一部分形成低辐射率膜5，进一步树脂膜2与蒸镀基板8相接的面上形成高辐射率膜6。在此，如图1至图3图所示，本专利技术的一实施例中，树脂膜2相对蒸镀源7侧的面上，可以设置金属支撑层3，进一步另一实施例中，虽然图1至图3图中未示出，但树脂膜2与低辐射率膜5及/或高辐射率膜6之间也可以具备密合层。金属支撑层3为用以或是防止树脂膜2的弯曲或是补充强度而设置的结构。另外，密合层是提高树脂膜2与低辐射率膜5及/或高辐射率膜6的密合性。设置金属支撑层3时，金属支撑层3也在相对其蒸镀源7的面上，可以包括低辐射率膜5，但是金属支撑层3本身比树脂膜2辐射率小的情况下，低辐射率膜5只在树脂膜2上形成也没问题。金属支撑层3的辐射率比低辐射率膜5的辐射率小的情况下，金属支撑层3优选不设置低辐射率膜5。作为树脂膜2，优选与蒸镀基板8之间的线膨胀系数差小，但不特别限定。例如，可以使用聚酰亚胺(PI)树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂、环烯烃聚合体(COP)树脂、环烯烃类共聚物(COC)树脂、聚碳酸酯(PC)树脂、聚酰胺(polyamide)树脂、聚酰胺-亚酰胺(polyamide-imide)树脂、聚酯(polyester)树脂、聚乙烯(polyethylene)树脂、聚乙烯本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀掩模，其包括树脂膜，所述树脂膜具有在蒸镀基板上通过蒸镀用以成膜形成薄膜图案的开口部图案，其特征在于，辐射率比上述树脂膜小的低辐射率膜形成在所述树脂膜相对蒸镀源的面的至少一部分。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.02.23 JP 2016-0321831.一种蒸镀掩模，其包括树脂膜，所述树脂膜具有在蒸镀基板上通过蒸镀用以成膜形成薄膜图案的开口部图案，其特征在于，辐射率比上述树脂膜小的低辐射率膜形成在所述树脂膜相对蒸镀源的面的至少一部分。2.如权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于，进一步，在与所述蒸镀基板抵接的所述树脂膜的面上，形成辐射率比所述树脂膜的面的辐射率大的高辐射率膜。3.如权利要求1或2所述的蒸镀掩模，其特征在于，在所述树脂膜与所述低辐射率膜及/或所述高辐射率膜之间，包括密合层，所述密合层使所述树脂膜与所述低辐射率膜及/或上述高辐射率膜间的密合性提高。4.如权利要求1至3中任一项所述的蒸镀掩模，其特征在于，所述低辐射率膜在22℃以上60℃以下、波长区8700nm以上9800nm以下的辐射率是0.3以下。5.如权利要求4所述的蒸镀掩模，其特征在于，所述低辐射率膜是具有以Al、Ni、Cr、Mo、Cu或Ti形成大致镜面的膜。6.如权利要求2至5中任一项所述的蒸镀掩模，其特征在于，所述高辐射率膜在22℃以上60℃以下、波长区8700nm以上9800nm以下的辐射率以0.5以上的材料构成。7.如权利要求6所述的蒸镀掩模，其特征在于，所述高辐射率膜以Al2O3、AlTiN、CrO2、Cr2O3、MoO2、MoO3、SiC或石墨形成，表面粗糙度是均方根高度0.1μm以上3.0μm以下。8.如权利要求1至7中任一项所述的蒸镀掩模，其特征在于，所述树脂膜在设置所述低辐射率膜侧的所述树脂膜的面的一部分包括金属支撑层。9.一种蒸镀掩模的制造方法，蒸镀掩模是包含具有开口部图案的树脂膜，用以蒸镀蒸镀材料的掩模，并且与蒸镀源相对侧的面的至少一部分具有...

【专利技术属性】
技术研发人员：崎尾進，岸本克彥，
申请(专利权)人：鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71