【技术实现步骤摘要】
一种半导体生产用等离子刻蚀机
本专利技术涉及等离子刻蚀机
，具体为一种半导体生产用等离子刻蚀机。
技术介绍
等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪和等离子清洗系统等；等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。然而现有的等离子刻蚀机，减震的效果不佳，从而不便于运输，且不便于其转轮的固定，从而导致不便使用该装置。针对上述问题，急需在原有等离子刻蚀机的基础上进行创新设计。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种半导体生产用等离子刻蚀机，以解决上述
技术介绍
提出现有的等离子刻蚀机，减震的效果不佳，且不便于其转轮的固定的问题。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种半导体生产用等离子刻蚀机，包括等离子刻蚀机本体、第一弹性元件和第二弹性元件，所述等离子刻蚀机本体的底部设置有第一固定块，且第一固定块的内部安装有第一销轴，并且第一销轴的中...
【技术保护点】
1.一种半导体生产用等离子刻蚀机，包括等离子刻蚀机本体(1)、第一弹性元件(5)和第二弹性元件(12)，其特征在于：所述等离子刻蚀机本体(1)的底部设置有第一固定块(2)，且第一固定块(2)的内部安装有第一销轴(3)，并且第一销轴(3)的中部设置有第一滑轮(4)，所述第一弹性元件(5)的一端固定于等离子刻蚀机本体(1)的底面，且第一弹性元件(5)的另一端连接有第二固定块(6)，所述第二固定块(6)的内部设置有第二销轴(7)，且第二销轴(7)的中部安装有第二滑轮(8)，所述第二固定块(6)的边侧设置有挡板(9)，且挡板(9)的内部安装有第三销轴(11)，并且第三销轴(11)的...
【技术特征摘要】
1.一种半导体生产用等离子刻蚀机，包括等离子刻蚀机本体(1)、第一弹性元件(5)和第二弹性元件(12)，其特征在于：所述等离子刻蚀机本体(1)的底部设置有第一固定块(2)，且第一固定块(2)的内部安装有第一销轴(3)，并且第一销轴(3)的中部设置有第一滑轮(4)，所述第一弹性元件(5)的一端固定于等离子刻蚀机本体(1)的底面，且第一弹性元件(5)的另一端连接有第二固定块(6)，所述第二固定块(6)的内部设置有第二销轴(7)，且第二销轴(7)的中部安装有第二滑轮(8)，所述第二固定块(6)的边侧设置有挡板(9)，且挡板(9)的内部安装有第三销轴(11)，并且第三销轴(11)的中部设置有支撑杆(10)，所述第二弹性元件(12)的一端固定于支撑杆(10)的内侧，且第二弹性元件(12)的另一端设置于第二固定块(6)的外侧，所述支撑杆(10)的外壁连接有钢丝(13)，且钢丝(13)设置于第一滑轮(4)上，并且钢丝(13)的一端固定于第一滑轮(4)的边端，所述等离子刻蚀机本体(1)底部的中...
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