一种等离子体刻蚀机抽气口用外罩制造技术

本实用新型专利技术提供了一种等离子体刻蚀机抽气口用外罩。所述外罩包括连接部、气流部、遮挡部与止锁部，所述连接部的一侧开设有连接口，所述连接部的顶部内径大于所述连接部的底部内径，所述气流部设置于所述连接部的顶部，所述气流部上开设有通气口，所述通气口与所述连接口互相连通，所述气流部的底部内径与所述连接部的顶部内径相等，所述气流部的顶部内径小于所述气流部的底部内径，所述遮挡部设置于所述气流部顶部远离所述通气口的一侧，且所述遮挡部的一端设置有过渡部，所述过渡部与所述气流部连接，所述止锁部设置于所述连接部的一侧。本实用新型专利技术的等离子体刻蚀机抽气口用外罩，密封性较好、间接提高刻蚀效率。

A hood for plasma etching machine

The utility model provides an outer cover for a plasma etching machine. The outer cover comprises a connecting part, an air flow part, a blocking part and a locking part. A connecting port is arranged on one side of the connecting part, the top inner diameter of the connecting part is larger than the bottom inner diameter of the connecting part, the air flow part is arranged on the top of the connecting part, and the air flow part is provided with an air vent, the air vent and the connecting part. The bottom inner diameter of the airflow part is equal to the top inner diameter of the connecting part. The top inner diameter of the airflow part is smaller than the bottom inner diameter of the airflow part. Watanabe is connected with the air flow part, and the stop lock part is arranged on one side of the connecting part. The plasma etching machine of the utility model has the outer cover for the suction port, which has good sealing property and indirectly improves the etching efficiency.

【技术实现步骤摘要】
一种等离子体刻蚀机抽气口用外罩
本技术涉及等离子体刻蚀机领域,尤其涉及一种等离子体刻蚀机抽气口用外罩。
技术介绍
等离子体刻蚀机采用等离子体技术，进行半导体薄膜材料刻蚀，将设计图形转移到产品上，从而实现特定的立体半导体器件结构。通常地，等离子体刻蚀机的腔体阴极为立体的正边形，腔体阴极上没有设置外罩，如美国应用材料公司，型号为8330的等离子体刻蚀机的腔体阴极为立体的正六边形，每个面从上到下能存放3片硅片，总共存放18片硅片，因在主腔体的抽气口上没有设置外罩，导致每个面的最下面一片硅片受气流的影响，其均匀性较差，影响刻蚀效率，即使等离子体刻蚀机的腔体阴极上设置外罩，也因外罩与腔体的密封性不强，从而影响刻蚀效率。
技术实现思路
基于此，有必要针对上述问题，提供一种密封性较好、提高刻蚀效率的等离子体刻蚀机抽气口用外罩。一种等离子体刻蚀机抽气口用外罩，其包括连接部、气流部、遮挡部与止锁部，所述连接部的一侧开设有连接口，所述连接部的顶部内径大于所述连接部的底部内径，所述气流部设置于所述连接部的顶部，所述气流部上开设有通气口，所述通气口与所述连接口互相连通，所述气流部的底部内径与所述连接部的顶部内径相等，所述气流部的顶部内径小于所述气流部的底部内径，所述遮挡部设置于所述气流部顶部远离所述通气口的一侧，且所述遮挡部的一端设置有过渡部，所述过渡部与所述气流部连接，所述止锁部设置于所述连接部的一侧，所述止锁部包括止锁环、拉动条与调节架，所述止锁环套设于所述连接部上，所述拉动条一端与所述止锁环相连接，所述拉动条的另一端与所述调节架相连接，拉动所述调节架可带动所述止锁环伸缩，使得所述止锁环的伸缩幅度随所述拉动条拉动幅度变化而变化。进一步地，所述遮挡部呈半圆形薄片。进一步地，所述连接部与所述气流部均为中空的圆柱体，且所述连接部的内腔与所述气流部的内腔互相连通。进一步地，所述连接部的外径大于所述气流部的外径。进一步地，所述过渡部为圆角过渡。进一步地，所述圆角的直径为3毫米至5毫米。进一步地，所述连接口呈方体状。进一步地，所述连接部、所述气流部与所述遮挡部均为橡胶材质。进一步地，所述止锁部的表面设置有铝合金涂层，所述铝合金涂层的厚度为0.3-0.8毫米。本技术的等离子体刻蚀机抽气口用外罩，由于连接部的顶部内径大于连接部的底部内径，因此连接部底部与等离子体刻蚀机的腔体阴极连接时的密封性较好，而由于气流部的底部内径与连接部的顶部内径相等，气流部的顶部内径小于气流部的底部内径，因此当腔体阴极与外罩完全连接时，气流部顶部再次与腔体阴极完全接触，密封性能再次提高，止锁部设置于连接部的一侧，拉动调节架可带动止锁环伸缩，使得止锁环的伸缩幅度随拉动条伸缩幅度变化而变化，因此拉紧调节架时，使得连接部收紧，从而再次提高密封性，提高刻蚀效率；遮挡部设置于气流部顶部，且遮挡部呈半圆形，因此腔体阴极内的气流会从遮挡部的另外半边流出，从而改变气流方向；遮挡部与气流部连接的一端设置有圆角过渡，当气流接触圆角过渡部时，可以引导气流改变方向，间接地，使刻蚀速率和均匀性大大提高。本等离子体刻蚀机抽气口用外罩，结构简单，操作方便，密封性较好，可以间接地提高刻蚀速率与刻蚀均匀性。附图说明下面结合附图和实施例对本技术作进一步说明。图1为本技术实施的等离子体刻蚀机抽气口用外罩的立体结构示意图；图2为图1所示等离子体刻蚀机抽气口用外罩的主视图；图3为图1所示等离子体刻蚀机抽气口用外罩的俯视图；以及图4为图2所示等离子体刻蚀机抽气口用外罩的仰视图。附图中标号为：外罩100连接部10气流部20遮挡部30连接口11通气口21过渡部31具体实施方式为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术。但是本技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本技术内涵的情况下做类似改进，因此本技术不受下面公开的具体实施例的限制。需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。请参阅图1-4，本技术提供了一种等离子体刻蚀机抽气口用外罩100，包括连接部10、气流部20、遮挡部30与止锁部(图未示出)，气流部20设置于连接部10的顶部,遮挡部30设置于气流部20顶部，止锁部设置于连接部10的一侧。连接部10为橡胶材质，可以理解地，在其他未示出的实施方式中，连接部10还可以为其他弹性及收缩性较好的材质，连接部10大致呈中空的圆柱体，连接部10的一侧开设有连接口11，连接口11大致呈方体状，可以理解地，在其他未示出的实施方式中，连接口11还可以为其他形状，连接部10的顶部内径大于连接部10的底部内径。气流部20为橡胶材质，可以理解地，在其他未示出的实施方式中，气流部20还可以为其他弹性及收缩性较好的材质，气流部20大致呈中空的圆柱体，气流部20的外径小于连接部10的外径，且气流部20的内腔与连接部10的内腔互相连通，气流部20上开设有通气口21，通气口21与连接口11互相连通，气流部20的底部内径与连接部10的顶部内径相等，气流部20的顶部内径小于气流部20的底部内径，遮挡部30为橡胶材质，可以理解地，在其他未示出的实施方式中，遮挡部30还可以为其他弹性及收缩性较好的材质，遮挡部30大致呈半圆形薄片，遮挡部30设置于气流部20顶部远离通气口21的一侧，遮挡部30与气流部20连接的一端设置有过渡部31，过渡部31为圆角过渡，圆角的直径为3毫米至5毫米。止锁部的表面设置有铝合金涂层，铝合金涂层的厚度为0.3-0.8毫米，止锁部设置于连接部10的一侧，止锁部包括止锁环、拉动条与调节架，止锁环套设于连接部上，拉动条一端与止锁环相连接，拉动条的另一端与调节架相连接，拉动调节架可带动止锁环伸缩，使得止锁环的伸缩幅度随拉动条拉动幅度变化而变化。本技术的等离子体刻蚀机抽气口用外罩100，连接部10的顶部内径大于连接部10的底部内径，因此连接部10底部与等离子体刻蚀机的腔体阴极连接时的密封性较好，而由于气流部20的底部内径与连接部10的顶部内径相等，气流部20的顶部内径小于气流部20的底部内径，因此当腔体阴极与外罩100完全连接时，气流部20顶部再次与腔体阴极完全接触，密封性能再次提高，止锁部设置于连接部的一侧，拉动调节架可带动止锁环伸缩，使得止锁环的伸缩幅度随拉动条伸缩幅度变化而变化，因此拉紧调节架时，使得连接部收紧，从而再次提高密封性，提高刻蚀效率；遮挡部30设置于气流部20顶部，且遮挡部30呈半圆形，因此腔体阴极内的气流会从遮挡部30的另外半边流出，从而改变气流方向；遮挡部30与气流部20连接的一端设置有圆角过渡，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子体刻蚀机抽气口用外罩，其特征在于：包括连接部、气流部、遮挡部与止锁部，所述连接部的一侧开设有连接口，所述连接部的顶部内径大于所述连接部的底部内径，所述气流部设置于所述连接部的顶部，所述气流部上开设有通气口，所述通气口与所述连接口互相连通，所述气流部的底部内径与所述连接部的顶部内径相等，所述气流部的顶部内径小于所述气流部的底部内径，所述遮挡部设置于所述气流部顶部远离所述通气口的一侧，且所述遮挡部的一端设置有过渡部，所述过渡部与所述气流部连接，所述止锁部设置于所述连接部的一侧，所述止锁部包括止锁环、拉动条与调节架，所述止锁环套设于所述连接部上，所述拉动条一端与所述止锁环相连接，所述拉动条的另一端与所述调节架相连接，拉动所述调节架可带动所述止锁环伸缩，使得所述止锁环的伸缩幅度随所述拉动条拉动幅度变化而变化。

【技术特征摘要】
1.一种等离子体刻蚀机抽气口用外罩，其特征在于：包括连接部、气流部、遮挡部与止锁部，所述连接部的一侧开设有连接口，所述连接部的顶部内径大于所述连接部的底部内径，所述气流部设置于所述连接部的顶部，所述气流部上开设有通气口，所述通气口与所述连接口互相连通，所述气流部的底部内径与所述连接部的顶部内径相等，所述气流部的顶部内径小于所述气流部的底部内径，所述遮挡部设置于所述气流部顶部远离所述通气口的一侧，且所述遮挡部的一端设置有过渡部，所述过渡部与所述气流部连接，所述止锁部设置于所述连接部的一侧，所述止锁部包括止锁环、拉动条与调节架，所述止锁环套设于所述连接部上，所述拉动条一端与所述止锁环相连接，所述拉动条的另一端与所述调节架相连接，拉动所述调节架可带动所述止锁环伸缩，使得所述止锁环的伸缩幅度随所述拉动条拉动幅度变化而变化。2.如权利要求1所述的等离子体刻蚀机抽气口用外罩，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙人杰，
申请(专利权)人：苏州同冠微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32