真空镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜装置包括第一腔体和第二腔体。第一腔体中设置有镀膜系统，第二腔体上设置有卷绕系统。镀膜系统包括离子源和靶体并设置在第一腔体的内壁上。卷绕系统包括第一收放卷、第二收放卷、镀膜辊和导向辊，镀膜辊包括第一镀膜辊和第二镀膜辊，导向辊用于将第一收放卷上的待镀材料引导卷绕到第一镀膜辊和第二镀膜辊上并进一步引导至第二收放卷上或将第二收放卷上的待镀材料通过第二镀膜辊和第一镀膜辊引导至第一收放卷上。卷绕系统还包括压辊、张力辊和展平辊，压辊、张力辊和导向辊配合以调整待镀材料的张紧程度，压辊和展平辊配合以调整待镀材料的平整度。

Vacuum coating device

The utility model discloses a vacuum coating device, comprising a first cavity and a second cavity. A film plating system is arranged in the first cavity, and a winding system is arranged on the second cavity. The coating system comprises an ion source and a target body, and is arranged on the inner wall of the first cavity. The winding system comprises a first unwinding roll, a second unwinding roll, a coating roll and a guide roll. The coating roll comprises a first and a second coating roll, and the guide roll is used to guide the material to be plated on the first unwinding roll to the first coating roll and the second coating roll and further guide it to the second unwinding roll or to the second unwinding roll. The plating material is directed to the first retractable coil through the second coating roll and the first coating roll. The winding system also includes press roll, tension roll and flattening roll, press roll, tension roll and guide roll to adjust the tension of the material to be plated, press roll and flattening roll to adjust the flatness of the material to be plated.

【技术实现步骤摘要】
真空镀膜装置
本技术涉及镀膜领域，尤其涉及一种真空镀膜装置。
技术介绍
在相关技术中，真空镀膜装置在进行镀膜操作时，待镀材料在腔体中的松紧程度无法调节，导致待镀材料在卷绕过程中无法保持平整，影响了镀膜的质量。
技术实现思路
本技术实施方式提供的一种真空镀膜装置，包括第一腔体和第二腔体，所述第二腔体可移动地设置在所述第一腔体中并配合形成密闭空间，所述第一腔体中设置有镀膜系统，所述第二腔体上设置有卷绕系统，所述镀膜系统包括离子源和靶体并设置在所述第一腔体的内壁上，所述卷绕系统包括第一收放卷、第二收放卷、镀膜辊和导向辊，所述镀膜辊包括第一镀膜辊和第二镀膜辊，所述导向辊用于将所述第一收放卷上的待镀材料引导卷绕到所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊上并进一步引导至所述第二收放卷上或将所述第二收放卷上的待镀材料通过所述第二镀膜辊和所述第一镀膜辊引导至所述第一收放卷上，所述卷绕系统还包括压辊、张力辊和展平辊，所述压辊、所述张力辊和所述导向辊配合以调整所述待镀材料的张紧程度，所述压辊和展平辊配合以调整待镀材料的平整度。本技术实施方式的真空镀膜装置能使待镀材料在腔体中保持平整，从而保证了镀膜的质量。在某些实施方式中，所述压辊和所述张力辊的位置可调节。在某些实施方式中，所述第二腔体底部设置有行走轮，所述第一腔体上固定设置有轨道，所述行走轮在所述轨道上移动以使所述第二腔体并入所述第一腔体和从所述第一腔体中分离。在某些实施方式中，所述第一收放卷、所述第二收放卷相对设置，所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊设置在所述第一收放卷和所述第二收放卷之间且相对设置。在某些实施方式中，所述导向辊设置在所述第一收放卷和所述第二收放卷之间，所述镀膜系统设置在所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊的外侧。在某些实施方式中，所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊开设有液体通道，所述液体通道贯穿所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊。在某些实施方式中，所述液体通道呈圆柱形，所述液体通道的轴线和所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊的轴线位于同一直线上。在某些实施方式中，所述真空镀膜装置还包括旋转接头，所述旋转接头连接所述镀膜辊，所述液体通道连通所述旋转接头和所述镀膜辊。在某些实施方式中，所述旋转接头和所述液体通道保持静止，不发生转动。在某些实施方式中，所述卷绕系统还包括电机和皮带，所述电机的输出轴通过所述皮带带动所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊转动，所述电机的转速可调，所述皮带包括同步皮带、大同步皮带轮和小同步皮带轮，所述小同步皮带轮连接所述电机的输出轴，所述大同步皮带轮连接所述镀膜辊，所述同步皮带连接所述大同步皮带轮和所述小同步皮带轮。本技术实施方式的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。附图说明本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施方式的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1是本专利技术实施方式的真空镀膜装置的平面结构示意图；图2是本专利技术实施方式的真空镀膜装置的局部零件平面结构示意图；图3是本专利技术实施方式的真空镀膜装置的又一平面结构示意图；图4是本专利技术实施方式的真空镀膜装置的工作结构示意图；图5是本专利技术实施方式的真空镀膜装置的镀膜辊的剖面示意图。具体实施方式下面详细描述本技术的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本技术的不同结构。为了简化本技术的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本技术。此外，本技术可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本技术提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。请参阅图1-图5，本专利技术实施方式提供的一种真空镀膜装置100，包括第一腔体10和第二腔体20，第二腔体20可移动地设置在第一腔体10中并配合形成密闭空间。第一腔体10中设置有镀膜系统12，第二腔体20上设置有卷绕系统22。镀膜系统12包括靶体14和离子源并设置在第一腔体10的内壁上。卷绕系统22包括第一收放卷222、第二收放卷224、镀膜辊226和导向辊228，镀膜辊226包括第一镀膜辊2262和第二镀膜辊2264，导向辊228用于将第一收放卷222上的待镀材料引导卷绕到第一镀膜辊2262和第二镀膜辊2264上并进一步引导至第二收放卷224上或将第二收放卷224上的待镀材料通过第二镀膜辊2264和第一镀膜辊2262引导至第一收放卷222上。靶体14间隔均匀地设置在镀膜辊226周围。在某些实施方式中，第二腔体20底部设置有行走轮，第一腔体10上设置有轨道，行走轮在轨道上移动以使第二腔体20送入第一腔体10和从第一腔体10中拉出。本专利技术实施方式中的真空镀膜装置100便于操作人员将第二腔体20从第一腔体10中分离出来，进行待镀材料卷的放入和取出，减少了操作难度，提高了镀膜操作的效率。同时，在卷绕系统22中发生待镀材料卡住的情况时，便于操作人员对卡住的待镀材料进行处理本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括第一腔体和第二腔体，所述第二腔体可移动地设置在所述第一腔体中并配合形成密闭空间，所述第一腔体中设置有镀膜系统，所述第二腔体上设置有卷绕系统，所述镀膜系统包括离子源和靶体并设置在所述第一腔体的内壁上，所述卷绕系统包括第一收放卷、第二收放卷、镀膜辊和导向辊，所述镀膜辊包括第一镀膜辊和第二镀膜辊，所述导向辊用于将所述第一收放卷上的待镀材料引导卷绕到所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊上并进一步引导至所述第二收放卷上或将所述第二收放卷上的待镀材料通过所述第二镀膜辊和所述第一镀膜辊引导至所述第一收放卷上，所述卷绕系统还包括压辊、张力辊和展平辊，所述压辊、所述张力辊和所述导向辊配合以调整所述待镀材料的张紧程度，所述压辊和展平辊配合以调整待镀材料的平整度。

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括第一腔体和第二腔体，所述第二腔体可移动地设置在所述第一腔体中并配合形成密闭空间，所述第一腔体中设置有镀膜系统，所述第二腔体上设置有卷绕系统，所述镀膜系统包括离子源和靶体并设置在所述第一腔体的内壁上，所述卷绕系统包括第一收放卷、第二收放卷、镀膜辊和导向辊，所述镀膜辊包括第一镀膜辊和第二镀膜辊，所述导向辊用于将所述第一收放卷上的待镀材料引导卷绕到所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊上并进一步引导至所述第二收放卷上或将所述第二收放卷上的待镀材料通过所述第二镀膜辊和所述第一镀膜辊引导至所述第一收放卷上，所述卷绕系统还包括压辊、张力辊和展平辊，所述压辊、所述张力辊和所述导向辊配合以调整所述待镀材料的张紧程度，所述压辊和展平辊配合以调整待镀材料的平整度。2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述压辊和所述张力辊的位置可调节。3.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第二腔体底部设置有行走轮，所述第一腔体上固定设置有轨道，所述行走轮在所述轨道上移动以使所述第二腔体并入所述第一腔体和从所述第一腔体中分离。4.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第一收放卷、所述第二收放卷相对设置，所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊设置在...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈自新，朱海锋，郑立冬，李伟，
申请(专利权)人：无锡光润真空科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32