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本实用新型公开了一种真空镀膜装置包括第一腔体和第二腔体。第一腔体中设置有镀膜系统，第二腔体上设置有卷绕系统。镀膜系统包括离子源和靶体并设置在第一腔体的内壁上。卷绕系统包括第一收放卷、第二收放卷、镀膜辊和导向辊，镀膜辊包括第一镀膜辊和第二镀膜...
该专利属于无锡光润真空科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡光润真空科技有限公司授权不得商用。

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