The present invention provides a detector capable of reducing stray inductance from the electrode on the back side of a chip to the connecting point of a tester. The detector consists of a wafer chuck (18) with a conductive supporting surface (18a), a probe card (24), a plurality of probes (25) on the surface opposite the supporting surface (18a), a table member (50), a conductive table surface (50a) and a wafer chuck (18) moving in one body, and a table surface (50a) forming parallel to the supporting surface (18a) and with the supporting surface (1). 8a) electrically connected; conductive contact (52) disposed in a position opposite to the mesa (50a); and flat wiring member (70) disposed in a position parallel to and close to the mesa (50a), one end electrically connected to the conductive contact (52), and the flat wiring member (70) extends toward the side of the wafer chuck (18).
【技术实现步骤摘要】
探测器
本专利技术涉及对形成在半导体晶片上的多个芯片进行电气检查的探测器。
技术介绍
在半导体制造工序中,对薄圆板状的半导体晶片实施各种处理,从而形成半导体装置(设备)所分别具有的多个芯片(裸芯)。对各芯片进行电气特性检查,然后利用切割机切开,之后固定于引线框等而进行组装。上述电气特性的检查通过由探测器与测定器构成的晶片检测系统进行。探测器将晶片固定于晶片卡盘,并使探针与各芯片的电极接触。测定器与探针电连接,为了进行电气检查而对各芯片施加电流、电压并测定特性。功率晶体管、功率MOSFET(场效应晶体管)、IGBT(InsulatedGateBipolarTransistor;绝缘栅双极晶体管)、LED(LightEmittingDiode;发光二极管)、半导体激光器等半导体装置(设备)一般在晶片的表面形成有电极(芯片表面电极),并且在晶片的背面也形成有电极(芯片背面电极)。例如,在IGBT中,在晶片的表面形成有栅电极以及发射极电极,在晶片的背面形成有集电极。为了在上述那样的在晶片的两面形成有多个具有电极的芯片的晶片中进行晶片级检查,在晶片卡盘设置有导电性的支承面(晶片载置面),所述支承面以接触的状态保持晶片的背面,并作为测定器的测定电极发挥作用。该支承面经由从晶片卡盘引出的电缆而与测定器电连接。而且,在进行检查的情况下,将晶片保持于晶片卡盘,在使探针与在晶片的表面形成的各芯片的电极(芯片表面电极)接触的状态下进行各种测定。然而,将晶片卡盘与测定器之间连接的电缆配设为经由在构成探测器的壳体的侧面或背面等设置的连接器而在壳体的内外迂回的状态,因此其长度通常需要 ...
【技术保护点】
1.一种探测器,具备:晶片卡盘,其具有导电性的支承面;探针卡,其在与所述支承面对置的面具有多个探针;台构件,其具有导电性的台面且与所述晶片卡盘一体地移动,所述台面形成为与所述支承面平行且与所述支承面电连接;导电性接触件,其配置在与所述台面对置的位置;以及平板状配线构件,其配置在与所述台面平行且接近的位置,一端与所述导电性接触件电连接,且该平板状配线构件朝向所述晶片卡盘侧延伸设置。
【技术特征摘要】
2017.03.07 JP 2017-0430801.一种探测器,具备:晶片卡盘,其具有导电性的支承面;探针卡,其在与所述支承面对置的面具有多个探针;台构件,其具有导电性的台面且与所述晶片卡盘一体地移动,所述台面形成为与所述支承面平行且与所述支承面电连接;导电性接触件,其配置在与所述台面对置的位置;以及平板状配线构件,其配置在与所述台面平行且接近的位置,一端与所述导电性接触件电连接,且该平板状配线构件朝向所述晶片卡盘侧延伸设置。2.根据权利要求1所述的探...
【专利技术属性】
技术研发人员:村上公之辅,寺田正二,重泽祐治,明星知幸,
申请(专利权)人:株式会社东京精密,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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