A multi bit non volatile random access memory cell is disclosed. The multi-bit nonvolatile random access memory unit may include volatile memory elements and nonvolatile memory circuits. The nonvolatile memory circuit may include at least one first-path transistor connected to a data truth value (DT) node of the volatile memory element and at least one second-path transistor connected to a data complement (DC) node of the volatile memory element. The nonvolatile memory circuit can also include a plurality of non-volatile memory elements. Each nonvolatile memory element may be configured to selectively connect to a DT node of the volatile memory element via the at least one first-path transistor, and selectively connect to a DC node of the volatile memory element via the at least one second-path transistor, allowing multiple nonvolatile random access memory The cell unit stores / restores more than one data bit per unit.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】多位非易失性随机存取存储器单元交叉引用本申请是2016年3月24日提交的美国专利申请第15/079,462号的国际申请,其要求2015年11月13日提交的美国临时申请第62/255,000号的权益和优先权。所述美国专利申请第15/079,462号和美国临时申请第62/255,000号通过引用整体并入本文。
本公开一般涉及数据存储设备领域,并且具体涉及非易失性静态随机存取存储器设备。
技术介绍
非易失性静态随机存取存储器(nvSRAM)是一种非易失性随机存取存储器。nvSRAM典型地包括多个nvSRAM单元。nvSRAM单元典型地包括被配置为促进读取和写入操作的静态随机存取存储器(SRAM)以及被配置为促进存储和调回(recall)操作的非易失性存储电路。例如,存储操作可以将来自nvSRAM单元的SRAM的数据存储到nvSRAM单元的非易失性存储电路。另一方面,调回操作可以从nvSRAM单元的非易失性存储电路中取回数据,并将取回到的数据加载到nvSRAM单元的SRAM中。
技术实现思路
本公开的实施例涉及一种装置。该装置可以包括具有数据真值(DT)节点和数据补码(DC)节点的易失性存储元件。该装置还可以包括非易失性存储电路。该非易失性存储电路可以包括连接到易失性存储元件的DT节点的至少一个第一通路晶体管和连接到易失性存储元件的DC节点的至少一个第二通路晶体管。该非易失性存储电路还可以包括多个非易失性存储元件。每个非易失性存储元件可以被配置为选择性地可经由该至少一个第一通路晶体管连接到易失性存储元件的DT节点,并且选择性地可经由该至少一个第二通路晶体管连接到易失性 ...
【技术保护点】
1.一种装置,包括:易失性存储元件,所述易失性存储元件包括数据真值(DT)节点和数据补码(DC)节点;以及非易失性存储电路,所述非易失性存储电路包括连接到所述易失性存储元件的DT节点的至少一个第一通路晶体管和连接到所述易失性存储元件的DC节点的至少一个第二通路晶体管,所述非易失性存储电路还包括多个非易失性存储元件,所述多个非易失性存储元件中的每个非易失性存储元件被配置为选择性地可经由所述至少一个第一通路晶体管连接到所述易失性存储元件的DT节点,并且选择性地可经由所述至少一个第二通路晶体管连接到所述易失性存储元件的DC节点。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.11.13 US 62/255,000;2016.03.24 US 15/079,4621.一种装置,包括:易失性存储元件,所述易失性存储元件包括数据真值(DT)节点和数据补码(DC)节点;以及非易失性存储电路,所述非易失性存储电路包括连接到所述易失性存储元件的DT节点的至少一个第一通路晶体管和连接到所述易失性存储元件的DC节点的至少一个第二通路晶体管,所述非易失性存储电路还包括多个非易失性存储元件,所述多个非易失性存储元件中的每个非易失性存储元件被配置为选择性地可经由所述至少一个第一通路晶体管连接到所述易失性存储元件的DT节点,并且选择性地可经由所述至少一个第二通路晶体管连接到所述易失性存储元件的DC节点。2.如权利要求1所述的装置,其中所述多个非易失性存储元件包括两个非易失性存储元件,并且所述非易失性存储电路还包括:桥式晶体管,连接到所述两个非易失性存储元件,所述桥式晶体管被配置为选择性地将所述两个非易失性存储元件中的一个经由所述至少一个第一通路晶体管连接到所述易失性存储元件的DT节点,并经由所述至少一个第二通路晶体管连接到所述易失性存储元件的DC节点。3.如权利要求1所述的装置,其中所述至少一个第一通路晶体管包括串联连接到所述易失性存储元件的DT节点的第一组通路晶体管,所述至少一个第二通路晶体管包括串联连接到所述易失性存储元件的DC节点的第二组通路晶体管,并且所述多个非易失性存储元件包括连接到所述第一组通路晶体管和所述第二组通路晶体管的至少两个非易失性存储元件以形成晶体管的梯状网络。4.如权利要求3所述的装置,其中所述易失性存储元件包含静态随机存取存储器(SRAM),并且其中所述晶体管的梯状网络分布在所述SRAM的至少两侧上。5.如权利要求4所述的装置,其中所述晶体管的梯状网络在所述SRAM的两个相对侧上对称分布。6.如权利要求1所述的装置,其中所述多个非易失性存储元件包括多个硅-氧化物-氮化物-氧化物-硅(SONOS)晶体管。7.如权利要求1所述的装置,其中所述非易失性存储电路被配置为将数据位从所述易失性存储元件存储到所述多个非易失性存储元件中的至少两个非易失性存储元件中以为所述非易失性存储电路提供数据冗余。8.如权利要求1所述的装置,其中所述非易失性存储电路被配置为当所述装置被供电时将数据位从所述易失性存储元件存储到所述多个非易失性存储元件中的第一非易失性存储元件,并且所述非易失性存储电路还被配置为当所述装置失去电力时将所述数据位从所述易失性存储元件存储到所述多个非易失性存储元件中的第二非易失性存储元件中。9.如权利要求1所述的装置,其中所述非易失性存储电路被配置为在所述多个非易失性存储元件之间交替数据存储以增加所述非易失性存储电路的耐久性。10.一种系统,包括:处理器;以及非易失性存储器设备,被配置为为所述处理器提供数据存储,所述非易失性存储器设备包括多个非易失性存储器单元,所述多个非易失性存储器单元中的每一个非易失性存储器单元包括:易失性存储元件,所述易失性存储元件包括数据真值(DT)节点和数据补码(DC)节点;和非易失性存储电路,所述非易失性存储电路包括连接到所述易失性存储元件的DT节点的至少一个第一开关元件和连接到所述易失性存储元件的DC节点的至少一个第二开关元件,所述非易失性存储电路还包...
【专利技术属性】
技术研发人员:J坦定甘,J艾伦,D斯蒂尔,J阿肖克库马尔,
申请(专利权)人:赛普拉斯半导体公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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