彩色滤光片基板及其制作方法技术

本发明专利技术提供一种彩色滤光片基板及其制作方法。本发明专利技术的彩色滤光片基板的制作方法通过采用半色调光罩对第一色阻层进行曝光、显影，同时制得彩色光阻层中的第一色阻单元与遮光色阻叠层中的第一遮光色阻层，并且使第一遮光色阻层的厚度小于第一色阻单元的厚度，在所述第一遮光色阻层中凸出于所述第一黑色矩阵与第二黑色矩阵上表面的部分的厚度较小的情况下，涂布于第一遮光色阻层上表面的光阻材料不容易流至其它区域，提升在第一遮光色阻层上形成的第二遮光色阻层的厚度，从而提升所述遮光色阻叠层的遮光效果，有效避免所述第一黑色矩阵与第二黑色矩阵的间隔区域产生漏光，提升液晶显示面板的显示效果与品味。

【技术实现步骤摘要】
彩色滤光片基板及其制作方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩色滤光片基板及其制作方法。
技术介绍
随着显示技术的发展，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄、无辐射等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括壳体、设于壳体内的液晶显示面板及设于壳体内的背光模组(Backlightmodule)。传统的液晶显示面板是由一片薄膜晶体管阵列基板(ThinFilmTransistorArraySubstrate，TFTArraySubstrate)与一片彩色滤光片基板(ColorFilterSubstrate，CFSubstrate)贴合而成，并在TFT基板与CF基板之间灌入液晶，其工作原理是通过在像素电极与公共电极之间施加驱动电压，利用像素电极与公共电极之间形成的电场来控制液晶层内的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。如图1所示，现有的彩色滤光片基板中通常设有第一黑色矩阵210以及环绕所述第一黑色矩阵210的周边且与所述第一黑色矩阵210间隔设置的第二黑色矩阵220，所述第一黑色矩阵210与第二黑色矩阵220用于在面板的显示区内围出多个子像素区并对多个子像素区的周边进行遮光，并且用于对面板的非显示区进行遮光，通过将所述第一黑色矩阵210与第二黑色矩阵220间隔设置，能够有效避免外界静电导入到面板的显示区中影响面板显示。如图2所示，为避免所述第一黑色矩阵210与第二黑色矩阵220的间隔区域出现漏光从而影响面板显示和品味，通常在该间隔区域设置遮光色阻叠层240，所述遮光色阻叠层240包括层叠设置的红色光阻层2410与蓝色光阻层2420。然而，在制作遮光色阻叠层240时，由于所述红色光阻层2410中凸出于所述第一黑色矩阵210与第二黑色矩阵220上表面的部分的厚度较大，因此在所述红色光阻层2410上表面涂布具有流动性的蓝色光阻材料时，所述蓝色光阻材料容易顺着红色光阻层2410的侧面流至第一黑色矩阵210与第二黑色矩阵220上，导致在红色光阻层2410上方形成的蓝色光阻层2420的厚度较小，进而导致遮光色阻叠层240的遮光性能下降。由于所述第一黑色矩阵210与第二黑色矩阵220的间隔区域通常对应于GOA电路设置，因此GOA电路间的电场会造成所述间隔区域的液晶分子旋转，进而造成所述第一黑色矩阵210与第二黑色矩阵220的间隔区域漏红光，影响面板显示和品味。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种彩色滤光片基板的制作方法，能够提升遮光色阻叠层的遮光效果，有效避免所述第一黑色矩阵与第二黑色矩阵的间隔区域产生漏光，提升液晶显示面板的显示效果与品味。本专利技术的目的还在于提供一种彩色滤光片基板，其遮光色阻叠层的遮光效果较好，能够有效避免所述第一黑色矩阵与第二黑色矩阵的间隔区域产生漏光，提升液晶显示面板的显示效果与品味。为实现上述目的，本专利技术提供一种彩色滤光片基板的制作方法，包括如下步骤：步骤1、提供衬底基板，在所述衬底基板上形成第一黑色矩阵以及环绕所述第一黑色矩阵的周边且与所述第一黑色矩阵间隔设置的第二黑色矩阵，所述第一黑色矩阵包括框形遮光层，所述框形遮光层在所述衬底基板上围出的区域为显示区，所述衬底基板位于所述显示区外围的区域为非显示区；步骤2、在所述衬底基板上形成彩色光阻层，在所述彩色光阻层的制程中同时形成遮光色阻叠层，所述遮光色阻叠层位于所述第一黑色矩阵、第二黑色矩阵及衬底基板上且覆盖所述第一黑色矩阵与第二黑色矩阵的间隔区域；所述遮光色阻叠层包括位于所述第一黑色矩阵、第二黑色矩阵及衬底基板上的第一遮光色阻层以及位于所述第一遮光色阻层上的第二遮光色阻层，所述第一遮光色阻层与第二遮光色阻层的颜色不同；所述彩色光阻层包括与所述第一遮光色阻层的颜色相同的第一色阻单元；所述第一遮光色阻层的厚度小于所述第一色阻单元的厚度。所述第一黑色矩阵还包括位于框形遮光层围出的区域内且与所述框形遮光层的内侧相连的网格状遮光层；所述框形遮光层与网格状遮光层在显示区内围出多个子像素区，所述多个子像素区包括具有不同颜色的第一子像素区、第二子像素区、第三子像素区；所述彩色光阻层包括位于第一子像素区的第一色阻单元、位于第二子像素区的第二色阻单元、位于第三子像素区的第三色阻单元；所述第一遮光色阻层与所述第一色阻单元通过对同一色阻层进行光刻制程制得；所述第二遮光色阻层与所述第二色阻单元或第三色阻单元通过对同一色阻层进行光刻制程制得。所述第一遮光色阻层凸出于所述第一黑色矩阵与第二黑色矩阵上表面的部分的厚度小于2μm；或者，所述第一遮光色阻层的上表面与所述第一黑色矩阵和第二黑色矩阵的上表面齐平。所述步骤2包括：步骤21、在所述衬底基板、第一黑色矩阵、第二黑色矩阵上涂布第一色阻材料，形成第一色阻层，采用半色调光罩对所述第一色阻层进行曝光、显影后，得到位于第一子像素区中的第一色阻单元、位于所述第一黑色矩阵、第二黑色矩阵及衬底基板上且覆盖所述第一黑色矩阵与第二黑色矩阵的间隔区域的第一遮光色阻层；步骤22、在所述第二子像素区与第三子像素区中分别形成第二色阻单元与第三色阻单元，在所述第二色阻单元或第三色阻单元的制程中同时形成第二遮光色阻层。所述半色调光罩上设有对应于第一子像素区的第一区域、对应于所述第一黑色矩阵与第二黑色矩阵的间隔区域的第二区域、除所述第一区域与第二区域以外的第三区域，其中，所述第二区域的宽度大于所述第一黑色矩阵与第二黑色矩阵的间隔区域的宽度；当所述第一色阻材料为正性光阻时，所述第一区域、第二区域、第三区域的透光率依次增大；当所述第一色阻材料为负性光阻时，所述第一区域、第二区域、第三区域的透光率依次减小。所述第一黑色矩阵与第二黑色矩阵的材料为黑色树脂或者黑色金属材料；所述第一遮光色阻层和第二遮光色阻层中的一个色阻层的颜色为红色，另一个色阻层的颜色为蓝色或绿色。本专利技术还提供一种彩色滤光片基板，包括：衬底基板、设于所述衬底基板上的第一黑色矩阵以及环绕所述第一黑色矩阵的周边且与所述第一黑色矩阵间隔设置的第二黑色矩阵、设于所述衬底基板上的彩色光阻层、设于所述第一黑色矩阵、第二黑色矩阵及衬底基板上且覆盖所述第一黑色矩阵与第二黑色矩阵的间隔区域的遮光色阻叠层；所述第一黑色矩阵包括框形遮光层，所述框形遮光层在所述衬底基板上围出的区域为显示区，所述衬底基板位于所述显示区外围的区域为非显示区；所述遮光色阻叠层包括位于所述第一黑色矩阵、第二黑色矩阵及衬底基板上的第一遮光色阻层以及位于所述第一遮光色阻层上的第二遮光色阻层，所述第一遮光色阻层与第二遮光色阻层的颜色不同；所述彩色光阻层包括与所述第一遮光色阻层的颜色相同的第一色阻单元；所述第一遮光色阻层的厚度小于所述第一色阻单元的厚度。所述第一黑色矩阵还包括位于框形遮光层围出的区域内且与所述框形遮光层的内侧相连的网格状遮光层；所述框形遮光层与网格状遮光层在显示区内围出多个子像素区，所述多个子像素区包括具有不同颜色的第一子像素区、第二子像素区、第三子像素区；所述彩色光阻层包括位于第一子像素区的第一色阻单元、位于第本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供衬底基板(10)，在所述衬底基板(10)上形成第一黑色矩阵(21)以及环绕所述第一黑色矩阵(21)的周边且与所述第一黑色矩阵(21)间隔设置的第二黑色矩阵(22)，所述第一黑色矩阵(21)包括框形遮光层(212)，所述框形遮光层(212)在所述衬底基板(10)上围出的区域为显示区(101)，所述衬底基板(10)位于所述显示区(101)外围的区域为非显示区(102)；步骤2、在所述衬底基板(10)上形成彩色光阻层(40)，在所述彩色光阻层(40)的制程中同时形成遮光色阻叠层(50)，所述遮光色阻叠层(50)位于所述第一黑色矩阵(21)、第二黑色矩阵(22)及衬底基板(10)上且覆盖所述第一黑色矩阵(21)与第二黑色矩阵(22)的间隔区域；所述遮光色阻叠层(50)包括位于所述第一黑色矩阵(21)、第二黑色矩阵(22)及衬底基板(10)上的第一遮光色阻层(51)以及位于所述第一遮光色阻层(51)上的第二遮光色阻层(52)，所述第一遮光色阻层(51)与第二遮光色阻层(52)的颜色不同；所述彩色光阻层(40)包括与所述第一遮光色阻层(51)的颜色相同的第一色阻单元(41)；所述第一遮光色阻层(51)的厚度小于所述第一色阻单元(41)的厚度。...

【技术特征摘要】
1.一种彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供衬底基板(10)，在所述衬底基板(10)上形成第一黑色矩阵(21)以及环绕所述第一黑色矩阵(21)的周边且与所述第一黑色矩阵(21)间隔设置的第二黑色矩阵(22)，所述第一黑色矩阵(21)包括框形遮光层(212)，所述框形遮光层(212)在所述衬底基板(10)上围出的区域为显示区(101)，所述衬底基板(10)位于所述显示区(101)外围的区域为非显示区(102)；步骤2、在所述衬底基板(10)上形成彩色光阻层(40)，在所述彩色光阻层(40)的制程中同时形成遮光色阻叠层(50)，所述遮光色阻叠层(50)位于所述第一黑色矩阵(21)、第二黑色矩阵(22)及衬底基板(10)上且覆盖所述第一黑色矩阵(21)与第二黑色矩阵(22)的间隔区域；所述遮光色阻叠层(50)包括位于所述第一黑色矩阵(21)、第二黑色矩阵(22)及衬底基板(10)上的第一遮光色阻层(51)以及位于所述第一遮光色阻层(51)上的第二遮光色阻层(52)，所述第一遮光色阻层(51)与第二遮光色阻层(52)的颜色不同；所述彩色光阻层(40)包括与所述第一遮光色阻层(51)的颜色相同的第一色阻单元(41)；所述第一遮光色阻层(51)的厚度小于所述第一色阻单元(41)的厚度。2.如权利要求1所述的彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，所述第一黑色矩阵(21)还包括位于框形遮光层(212)围出的区域内且与所述框形遮光层(212)的内侧相连的网格状遮光层(211)；所述框形遮光层(212)与网格状遮光层(211)在显示区(101)内围出多个子像素区(30)，所述多个子像素区(30)包括具有不同颜色的第一子像素区(31)、第二子像素区(32)、第三子像素区(33)；所述彩色光阻层(40)包括位于第一子像素区(31)的第一色阻单元(41)、位于第二子像素区(32)的第二色阻单元(42)、位于第三子像素区(33)的第三色阻单元(43)；所述第一遮光色阻层(51)与所述第一色阻单元(41)通过对同一色阻层进行光刻制程制得；所述第二遮光色阻层(52)与所述第二色阻单元(42)或第三色阻单元(43)通过对同一色阻层进行光刻制程制得。3.如权利要求1所述的彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，所述第一遮光色阻层(51)凸出于所述第一黑色矩阵(21)与第二黑色矩阵(22)上表面的部分的厚度小于2μm；或者，所述第一遮光色阻层(51)的上表面与所述第一黑色矩阵(21)和第二黑色矩阵(22)的上表面齐平。4.如权利要求2所述的彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，所述步骤2包括：步骤21、在所述衬底基板(10)、第一黑色矩阵(21)、第二黑色矩阵(22)上涂布第一色阻材料，形成第一色阻层(81)，采用半色调光罩(60)对所述第一色阻层(81)进行曝光、显影后，得到位于第一子像素区(31)中的第一色阻单元(41)、位于所述第一黑色矩阵(21)、第二黑色矩阵(22)及衬底基板(10)上且覆盖所述第一黑色矩阵(21)与第二黑色矩阵(22)的间隔区域的第一遮光色阻层(51)；步骤22、在所述第二子像素区(32)与第三子像素区(33)中分别形成第二色阻单元(42)与第三色阻单元(43)，在所述第二色阻单元(42)或第三色阻单元(43)的制程中同时形成第二遮光色阻层(52)。5.如权利要求4所述的彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，所述半色调光罩(60)上设有对应于第一子像素区(31)的第一区域(61)、对应于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖作敏，赵莽，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42